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引言
/ B, F3 u7 g, n$ `) f2 z0 y超表面光學(xué)技術(shù)用超薄、平面的光學(xué)元件取代笨重的折射透鏡。然而,色差一直是實(shí)現(xiàn)大孔徑超表面光學(xué)元件高質(zhì)量寬帶成像的主要障礙。本文將介紹一項(xiàng)突破性研究,該研究克服了這些限制,實(shí)現(xiàn)了單個(gè)大孔徑超表面光學(xué)元件的全彩成像[1]。6 y$ r( X/ B2 _1 q) ~: X
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大孔徑超表面光學(xué)元件的挑戰(zhàn)# c1 G6 M: j3 b/ P6 @# `1 }
傳統(tǒng)的超表面光學(xué)元件在寬帶成像方面面臨根本性的限制,特別是對(duì)于大孔徑而言。其設(shè)計(jì)中固有的相位包裹導(dǎo)致嚴(yán)重的色差,這對(duì)于大于幾毫米的孔徑尤其成問(wèn)題。以前實(shí)現(xiàn)寬帶成像的嘗試僅限于小孔徑或低數(shù)值孔徑,限制了其實(shí)際應(yīng)用。0 M+ Q; E7 y {
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9 z2 M3 u9 @. ~$ a) T圖1展示了大孔徑全彩超表面光學(xué)元件的設(shè)計(jì)和制造過(guò)程,包括優(yōu)化過(guò)程和與折射透鏡的比較。7 m$ e, x1 b, k& w9 {
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通過(guò)創(chuàng)新設(shè)計(jì)克服限制7 Z5 Q6 c& G3 k
研究人員通過(guò)開(kāi)發(fā)兩步優(yōu)化過(guò)程來(lái)解決這一挑戰(zhàn)。首先,他們創(chuàng)建了一個(gè)擴(kuò)展景深(EDOF)設(shè)計(jì),在寬光譜范圍內(nèi)最大化焦點(diǎn)強(qiáng)度。這種方法確?梢(jiàn)光譜內(nèi)的所有波長(zhǎng)都聚焦在同一平面上,盡管點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)(PSF)略有擴(kuò)展。9 S( ?/ T3 M" K" D
% ~1 t5 |+ v3 `第二步涉及端到端優(yōu)化,將超表面光學(xué)元件與計(jì)算后端共同設(shè)計(jì)。這個(gè)過(guò)程微調(diào)超表面光學(xué)元件的性能,產(chǎn)生適合計(jì)算重建的PSF,最終產(chǎn)生高質(zhì)量的全彩圖像。
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圖2:顯示了超表面光學(xué)元件性能的測(cè)量,包括PSF比較和對(duì)比度值分析。
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9 Y' \. ^$ ~( X' L突破:1厘米孔徑寬帶超表面光學(xué)元件
4 H8 O0 j3 _* I8 ^這種創(chuàng)新方法的結(jié)果是一個(gè)偏振不敏感、全彩成像的超表面光學(xué)元件,孔徑為1厘米,F(xiàn)數(shù)為2。這代表了超表面光學(xué)技術(shù)的重大進(jìn)步,因?yàn)閷?shí)現(xiàn)了與相同規(guī)格的單個(gè)折射透鏡相當(dāng)?shù)膶拵С上衲芰Α?font class="jammer">- Q6 t1 o4 u( }7 n
' ]- v" m3 X P超表面光學(xué)元件的主要特點(diǎn)包括:- ^$ u/ x6 n' h/ j6 X4 ^; T+ K
在可見(jiàn)光譜范圍內(nèi)(400-700納米)的寬帶性能視頻速率成像能力約30°的對(duì)角視場(chǎng)與折射透鏡相比,在較大視場(chǎng)角下性能更佳
. }" t( q5 k6 N8 l' \ u, m" Z4 i% @7 P* ~8 A8 m; B: O* p; e
制造和集成
& ?0 D4 P1 m2 @( Y超表面光學(xué)元件使用氮化硅(SiN)在石英平臺(tái)上制造。該過(guò)程涉及電子束光刻進(jìn)行圖案化,隨后進(jìn)行刻蝕并集成到3D打印的支架中。這種制造方法能精確控制構(gòu)成超表面光學(xué)元件的納米散射體,確保最佳性能。- b% ?$ X! S! r; L
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圖3展示了超表面光學(xué)成像與折射光學(xué)的比較,展示了各種捕獲的場(chǎng)景和視頻幀。
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性能評(píng)估
/ r* j0 {( q1 k% v% g為評(píng)估超表面光學(xué)元件的性能,研究人員進(jìn)行了與相同規(guī)格折射透鏡的廣泛比較。他們測(cè)量了各種波長(zhǎng)和入射角的點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)(PSF),以及調(diào)制傳遞函數(shù)(MTF)以量化圖像質(zhì)量。6 u- d5 [4 K) [- f! @) b+ F
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結(jié)果顯示,寬帶超表面光學(xué)元件實(shí)現(xiàn):
) P4 e/ r; } g. ?計(jì)算重建后,在0-70線對(duì)/毫米范圍內(nèi)平均MTF對(duì)比度約50%在小視場(chǎng)角下與折射透鏡性能相當(dāng)在10°及以上視場(chǎng)角下性能優(yōu)于折射透鏡
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7 p8 I1 n( Z1 M4 D3 a3 ~# s/ @實(shí)際成像能力
" I& T( T K% \5 _6 p研究人員通過(guò)各種成像場(chǎng)景展示了超表面光學(xué)元件的實(shí)際性能:
1 B) j0 v+ S: F9 N使用OLED屏幕的受控環(huán)境成像/ L! q2 {8 g1 D' F9 l% L1 C0 j9 ?
彩色場(chǎng)景的環(huán)境光成像
0 E# c9 U& k4 b運(yùn)動(dòng)物體的視頻速率捕捉
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/ V I' ]# Q" x1 Y% g: T2 ?這些測(cè)試證實(shí)了超表面光學(xué)元件在具有挑戰(zhàn)性的光照條件下和快速移動(dòng)主體的全彩圖像高保真捕捉能力。
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E- F# ]2 x( i; x0 i% T圖4:展示了使用學(xué)習(xí)后端的寬帶成像,比較了使用復(fù)合折射透鏡和超表面光學(xué)元件通過(guò)不同重建方法拍攝的圖像。
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5 A3 t$ ^) l' Q. M通過(guò)計(jì)算后端提高圖像質(zhì)量
% o: @* W; M4 E7 h1 K4 {6 r盡管單獨(dú)的超表面光學(xué)元件就能產(chǎn)生令人印象深刻的結(jié)果,研究人員通過(guò)實(shí)施先進(jìn)的計(jì)算后端進(jìn)一步提高了圖像質(zhì)量。他們探索了兩種主要方法:
# I1 y1 h5 d8 f基于物理的反濾波:該方法使用維納反卷積和去噪,基于超表面光學(xué)元件的已知屬性恢復(fù)圖像細(xì)節(jié)。學(xué)習(xí)重建:設(shè)計(jì)了一個(gè)基于概率擴(kuò)散的神經(jīng)網(wǎng)絡(luò),用于處理空間變化的像差并改善噪聲減少。這種方法顯著提高了圖像質(zhì)量,產(chǎn)生的結(jié)果幾乎與復(fù)合透鏡相機(jī)成像器相媲美。% n( {: F- c2 B+ _& m8 Q& m
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研究人員采用了新穎的同軸配對(duì)圖像捕獲系統(tǒng)來(lái)訓(xùn)練和評(píng)估學(xué)習(xí)重建方法。這種設(shè)置確保算法可以在任意場(chǎng)景上進(jìn)行訓(xùn)練,使其在實(shí)際應(yīng)用中更加穩(wěn)健。( |# |5 d0 T& `) u% g* `8 _' I
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影響和未來(lái)方向. c- @, V5 N+ _8 P
大孔徑超表面光學(xué)元件的這一突破對(duì)各個(gè)領(lǐng)域有重大影響:消費(fèi)電子:超薄設(shè)計(jì)可以消除智能手機(jī)的相機(jī)凸起,實(shí)現(xiàn)更薄的筆記本電腦。醫(yī)學(xué)成像:更小、更高效的內(nèi)窺鏡可以促進(jìn)微創(chuàng)手術(shù)。航空航天:輕量級(jí)光學(xué)系統(tǒng)可以減少無(wú)人機(jī)和衛(wèi)星的能耗。增強(qiáng)現(xiàn)實(shí):緊湊、高質(zhì)量的光學(xué)系統(tǒng)可以提高AR設(shè)備的性能。! _( v, m4 }, a7 E' d/ w
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未來(lái)研究方向可能包括:
1 V3 |6 [! x0 t6 i' t- m擴(kuò)展到更大孔徑將光譜范圍擴(kuò)展到近紅外和紫外線納入額外功能,如深度感測(cè)或偏振成像進(jìn)一步優(yōu)化計(jì)算后端,以便在移動(dòng)設(shè)備上實(shí)時(shí)處理
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2 b" \1 {8 y9 v+ X+ [6 J結(jié)論* L) G8 x k1 Y& e
本文探討了超表面光學(xué)領(lǐng)域的突破性進(jìn)展,挑戰(zhàn)了長(zhǎng)期以來(lái)認(rèn)為大孔徑超表面光學(xué)元件無(wú)法實(shí)現(xiàn)寬帶成像的觀點(diǎn)。通過(guò)結(jié)合創(chuàng)新設(shè)計(jì)技術(shù)、納米制造和計(jì)算成像,研究人員創(chuàng)造了能夠進(jìn)行全彩、視頻速率成像的1厘米孔徑超表面光學(xué)元件。這一成就為各種應(yīng)用中的超緊湊、高性能光學(xué)系統(tǒng)開(kāi)辟了新的機(jī)遇,為下一代成像技術(shù)奠定了基礎(chǔ)。
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- X: h. X) \! Z, p) G參考文獻(xiàn): R, c% H! B1 Y
[1] J. E. Fr?ch et al., "Beating bandwidth limits for large aperture broadband nano-optics," arXiv:2402.06824v1 [physics.optics], Feb. 2024.0 z2 W1 ]* w8 j. l
% F) B# K5 Y3 ^: N# I% v, u0 ^- END -& J* T5 h* ~! d- c* h
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深圳逍遙科技有限公司(Latitude Design Automation Inc.)是一家專注于半導(dǎo)體芯片設(shè)計(jì)自動(dòng)化(EDA)的高科技軟件公司。我們自主開(kāi)發(fā)特色工藝芯片設(shè)計(jì)和仿真軟件,提供成熟的設(shè)計(jì)解決方案如PIC Studio、MEMS Studio和Meta Studio,分別針對(duì)光電芯片、微機(jī)電系統(tǒng)、超透鏡的設(shè)計(jì)與仿真。我們提供特色工藝的半導(dǎo)體芯片集成電路版圖、IP和PDK工程服務(wù),廣泛服務(wù)于光通訊、光計(jì)算、光量子通信和微納光子器件領(lǐng)域的頭部客戶。逍遙科技與國(guó)內(nèi)外晶圓代工廠及硅光/MEMS中試線合作,推動(dòng)特色工藝半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展,致力于為客戶提供前沿技術(shù)與服務(wù)。
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