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光電子集成芯片的光纖熔接封裝技術(shù)介紹

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發(fā)表于 2024-11-25 08:01:00 | 只看該作者 |只看大圖 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
引言
! c6 g8 t, @" l# R3 r在現(xiàn)代光通信和信息處理系統(tǒng)中,光纖與光電子集成芯片的連接是關(guān)鍵技術(shù)挑戰(zhàn)。硅基光電子和氮化硅光電子技術(shù)利用CMOS制造工藝實現(xiàn)了光電器件的集成。光纖和硅基光電子芯片之間的高效耦合對實現(xiàn)集成光電子系統(tǒng)的完整功能具有重要意義。& u5 U" ]/ M& d  m( h7 {, D  {) K

- V  F- r. I9 ~& m9 L傳統(tǒng)的光纖連接方法通常依賴體積較大的固定裝置和光學(xué)粘合劑,這在低溫應(yīng)用中會受到限制。本文介紹一種創(chuàng)新的光纖熔接技術(shù),可實現(xiàn)穩(wěn)定且低損耗的光纖到芯片的封裝[1]。+ a- @& q9 }# z6 i
/ {- ^6 Y6 b1 @9 O
/ q5 J; d+ w7 T& V7 N
波導(dǎo)結(jié)構(gòu)與設(shè)計
7 F$ b# y0 ^: Y) u9 Q1 [1 S/ z. U首先了解熔接實驗中使用的波導(dǎo)基本結(jié)構(gòu)。該平臺由氮化硅(SiN)層構(gòu)成,具有專門設(shè)計的尺寸以實現(xiàn)最佳光傳輸效果。6 P( Y. l# L1 o3 R6 N% e

/ a; g7 s5 p1 W圖1:用于光纖熔接測試的波導(dǎo)結(jié)構(gòu)示意圖,顯示平面圖和立面圖。
: g  J. {2 I+ q: _, F; E' ]- U3 E* ?  P
實驗設(shè)置
. g9 y$ N9 I& I+ D* d" ?9 S熔接過程需要精密的對準和受控的激光加熱。系統(tǒng)使用額定功率為10瓦的二氧化碳激光器,通過機械快門的脈寬調(diào)制來控制功率輸出。% n0 _1 w1 h6 Q, W, M0 w

- b, d/ X2 U7 q( K( f圖2:完整的光纖芯片熔接設(shè)置示意圖。  n3 f% k2 U1 G9 k% W8 M

" P' ?, z! p- Z; G圖中展示了熔接設(shè)置的組件布局,顯示輸入信號光纖如何與光波導(dǎo)芯片熔接,以及輸出光纖的監(jiān)測能力。
9 ?9 i8 O4 Y" A$ i) E& M# `5 S0 y- f9 E4 ^* U) N1 M6 T! m; S7 J7 k" R
工藝參數(shù)與優(yōu)化0 W. d! ]& Q1 X
光纖熔接的效果取決于多個關(guān)鍵參數(shù),包括激光功率、施加力度和熔接條件。通過嚴謹?shù)膶嶒,研究人員確定了實現(xiàn)低損耗連接的最佳條件。
& ^( l, d- @& K9 Z, t" l 3 S& A) o9 u! ~
圖3:光纖熔接參數(shù)的綜合評估,包括:(a)光纖與硅芯片熔接的顯微照片,(b)耦合損耗與熔接激光功率的關(guān)系,(c)熔接前推力與耦合損耗的關(guān)系,(d)推力與熔接強度的關(guān)系。
' }4 W# @' g5 a6 R: D8 U! H
$ Y$ T8 c2 H( O9 t1 L性能與可靠性分析+ k8 a- }$ N& k5 a
熔接連接的長期性能和可靠性對實際應(yīng)用非常重要。波長依賴性和溫度循環(huán)效應(yīng)為這種技術(shù)的穩(wěn)定性提供了重要見解。6 S5 b1 o* I& [2 W1 d& k

1 A' F8 O% g6 n圖4:性能測試結(jié)果:(a)跨波長范圍的耦合損耗,(b)溫度循環(huán)后的耦合損耗。. Q& X6 S" a. L2 L- j% ^4 m

  x# S: j, a& u) S/ B技術(shù)優(yōu)勢與實施
0 J5 `& {, q5 H+ D9 r這種熔接技術(shù)比傳統(tǒng)方法具有多項優(yōu)勢。首先,無需在光纖-芯片接口處使用環(huán)氧樹脂,減少了粘合劑退化帶來的潛在問題。其次,工藝速度快,通常在一秒內(nèi)即可完成,而傳統(tǒng)的環(huán)氧樹脂方法需要幾分鐘。
( [0 s9 O  J) b' o# A& W5 N1 i! w3 q3 C- {7 j5 X; P0 N6 w
熔接參數(shù)的優(yōu)化揭示了機械強度和光學(xué)性能之間的關(guān)系。增加熔接時的力度可以提高機械穩(wěn)定性,但可能導(dǎo)致更高的光學(xué)損耗。因此,找到適當(dāng)?shù)钠胶恻c對獲得最佳效果非常重要。
5 m: G' l+ P8 [/ F
, q6 f8 o1 ]% X0 J3 y溫度性能與穩(wěn)定性
) I2 g" Y. }! H) ]* @1 k6 ?溫度循環(huán)測試證明了該技術(shù)的穩(wěn)定性,熔接樣品在193 K到293 K之間進行多次循環(huán)后,性能降低很小。這種穩(wěn)定性使該技術(shù)特別適合需要在寬溫度范圍內(nèi)運行的應(yīng)用。* P) P* C; h1 q7 d5 J
9 l* g8 k/ g: W& h! }0 a/ Z0 A
關(guān)鍵參數(shù)與性能指標(biāo)
9 x" e1 h* [! d9 C* u7 j* |- L光纖熔接的成功依賴于對以下參數(shù)的精確控制:
9 `) P6 ~( B7 v$ d
  • 激光功率(優(yōu)化為1.0瓦以獲得最小插入損耗)
  • 曝光時間(通常為0.1秒)
  • 熔接時的施加力度(優(yōu)化為0.02牛頓)
  • 光纖和芯片表面的物理接觸
    3 ]' c5 t% C* W- i6 r8 ]1 ?% G
    & r& E/ u% x0 O& `
    該技術(shù)展現(xiàn)了優(yōu)異的性能指標(biāo):
    ( d7 i- k5 ^# p( E  m2 t
  • 每個端面的耦合損耗減少0.5分貝
  • 在120納米波長范圍內(nèi)性能穩(wěn)定
  • 溫度循環(huán)后性能降低很。ㄎ鍌循環(huán)后僅增加0.3分貝)
    ! p) `) Z1 ^% J% ^

    / w1 F5 i) \( ~2 e應(yīng)用展望# Y, a: n+ ~" ?8 s+ L3 L; k6 S. }
    這種方法在光電子封裝技術(shù)領(lǐng)域代表了重要進展,可以創(chuàng)建穩(wěn)定的光纖到芯片連接。在保持低光學(xué)損耗的同時具有良好的溫度循環(huán)耐受性,適合苛刻環(huán)境或需要低溫運行的應(yīng)用。: {. g" B7 o% k3 _2 S( {

    * u2 z1 G3 P1 y消除光纖-芯片接口處的環(huán)氧樹脂不僅簡化了工藝,還避免了粘合劑退化或熱膨脹不匹配帶來的潛在問題。這使得該技術(shù)特別適合需要長期穩(wěn)定性和可靠性的應(yīng)用。- U, D3 a0 y8 t+ s5 l( c8 j/ ~3 N

    : _* b, q9 a, z+ G7 x6 W; T參考文獻0 V' e. z% Q* j( q' i! U8 |0 ?" s( K
    [1] Hutchins et al., "Fiber-to-Chip Packaging With Robust Fiber Fusion Splicing for Low-Temperature Applications," IEEE Photonics Technology Letters, vol. 36, no. 19, pp. 1209-1212, 1 Oct. 2024, doi: 10.1109/LPT.2024.3452039.
    8 F4 g2 H# ^7 d6 j. |2 b
    0 ^/ Z" |- H: c& Z2 I7 Z4 g( }) [END
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    * k9 O" @# `. h1 r3 {2 Y# z, Q: Y6 T轉(zhuǎn)載請注明出處,請勿修改內(nèi)容和刪除作者信息!
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    關(guān)于我們:) v% o+ |& W! s$ B
    深圳逍遙科技有限公司(Latitude Design Automation Inc.)是一家專注于半導(dǎo)體芯片設(shè)計自動化(EDA)的高科技軟件公司。我們自主開發(fā)特色工藝芯片設(shè)計和仿真軟件,提供成熟的設(shè)計解決方案如PIC Studio、MEMS Studio和Meta Studio,分別針對光電芯片、微機電系統(tǒng)、超透鏡的設(shè)計與仿真。我們提供特色工藝的半導(dǎo)體芯片集成電路版圖、IP和PDK工程服務(wù),廣泛服務(wù)于光通訊、光計算、光量子通信和微納光子器件領(lǐng)域的頭部客戶。逍遙科技與國內(nèi)外晶圓代工廠及硅光/MEMS中試線合作,推動特色工藝半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展,致力于為客戶提供前沿技術(shù)與服務(wù)。
    . T: Q. t/ M  t! k4 b( E
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