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IMEC更新|Chiplet互連技術

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發(fā)表于 2024-9-2 08:00:00 | 只看該作者 |只看大圖 回帖獎勵 |正序瀏覽 |閱讀模式
引言半導體行業(yè)長期以來一直依靠摩爾定律推動創(chuàng)新,但隨著我們接近晶體管縮放的物理極限,需要新的方法來繼續(xù)推進芯片性能和功能。Chiplet互連技術應運而生,正在重塑半導體設計和制造的格局。
$ N. a* }# Q+ W4 Z% Y- T& `本文將探討Chiplet的世界、其優(yōu)勢以及使其成為可能的前沿互連技術。研究Chiplet集成的各種方法,包括2.5D和3D技術,并探討未來面臨的挑戰(zhàn)和機遇[1]。" }4 M1 u" }  {; q

7 v( e5 Q/ n! L# Z
' i+ M2 l# y# I  T了解Chiplet
6 c- w# k& j  K- Z; rChiplet是具有特定功能的小型模塊化芯片,可以組合成單個封裝或系統(tǒng)?梢詫⑵湟暈榘雽w世界的樂高積木——可以混合搭配以創(chuàng)建針對特定應用的復雜系統(tǒng)的獨立部件。
. L' J% L; V3 W" E7 N8 F; Z% p) K
* e! R$ K+ i" o  N圖1:此圖說明了Chiplet如何提供模塊化系統(tǒng),將來自不同供應商和技術節(jié)點的單獨芯片組合在一起,與傳統(tǒng)的單片系統(tǒng)芯片設計形成對比。. s1 H+ q0 P% U1 t
Chiplet技術的興起隨著摩爾定律放緩,業(yè)界一直在尋找替代方案,以應對單片系統(tǒng)芯片(SoC)設計日益增加的復雜性和成本。Chiplet通過允許制造商執(zhí)行以下操作提供了解決方案:
  • 優(yōu)化技術節(jié)點:不同功能可以使用適當?shù)墓に嚰夹g,平衡性能和成本。
  • 增加靈活性:通過更換單個Chiplet,可以更頻繁地更新設計。
  • 提高良率:較小、較簡單的設計通常具有較高的良率。
  • 降低成本:新芯片設計的入門成本降低,生產(chǎn)效率提高。[/ol]4 P+ r6 ?' F# x; X- M
    Chiplet技術的應用雖然最初在高性能計算領域獲得關注,但Chiplet正在進入各種應用領域:
  • 汽車行業(yè):提供可輕松更新或修改的靈活電子架構。
  • 移動設備:結合計算、無線通信和顯示驅(qū)動器等各種功能。
  • 成像系統(tǒng):更高效地集成傳感器和處理單元。
  • 內(nèi)存解決方案:允許模塊化和可擴展的內(nèi)存配置。
  • 量子計算:促進量子處理單元與經(jīng)典控制電子線路的集成。[/ol]( a& I, Q; [" H% {( M1 Q9 f2 Y+ a
    Chiplet互連技術基于Chiplet的設計的成功取決于在各個Chiplet之間創(chuàng)建密集、高帶寬連接的能力。兩種主要方法已經(jīng)出現(xiàn):
  • 2.5D集成
  • 3D系統(tǒng)芯片(3D-SoC)
    - B" l7 h  q) v1 ^! |[/ol]讓我們詳細探討每種方法。
    8 d, h4 |0 f1 K. \9 d2.5D集成:中間層方法在2.5D集成中,Chiplet通過公共基板(稱為中間層)并排連接。這種方法允許高密度連接,同時保持相對簡單的制造過程。
    $ @9 M8 h3 s" ?+ l1 P
    % @) W$ V, G  j( O) `1 k圖2:此圖展示了不同的2.5D集成方法,包括硅中間層、硅橋接和有機重分布層(RDL)。1 D( l: m( ]3 O7 P7 a

    ( c- q1 Q% K; C' f
    中間層類型:
  • 硅中間層:高性能應用的成熟技術,提供最精細的間距以及出色的熱學和電學性能。但成本和復雜性較高。
  • 有機基板:正在獲得關注的更具成本效益的替代方案。研究人員正在努力實現(xiàn)與硅中間層相當?shù)幕ミB密度。
  • 硅橋接:使用小型硅中間層在邊緣連接Chiplet的混合方法,可能在性能和成本之間取得平衡。[/ol]
    ! f' L6 H/ d( _) }2.5D集成中的互連間距:
  • 硅中間層:可實現(xiàn)亞微米間距
  • 有機RDL:目前目標為2μm間距,未來有望實現(xiàn)亞微米間距, r) ?7 O6 k6 H$ E
    2.5D集成中的微凸點:Chiplet通常使用稱為微凸點的小型焊料凸點連接到中間層。行業(yè)標準微凸點間距范圍為30μm至50μm,研究正在推動實現(xiàn)10μm甚至5μm的間距。$ v5 Y" p0 m; ?) `. a
    3D系統(tǒng)芯片:堆疊實現(xiàn)終極集成對于需要最高性能、最小形狀因子或最大系統(tǒng)集成水平的應用,3D-SoC提供了一個引人注目的解決方案。這種方法涉及垂直堆疊Chiplet,創(chuàng)建真正的三維結構。
    ' @7 O1 z3 x- Z" h7 S& A
    5 L* a* g0 ?3 B0 k, z圖3:此圖展示了晶圓對晶圓混合鍵合,這是3D-SoC集成的關鍵技術,顯示互連間距縮小到400nm。+ w: J9 s4 F/ }2 }
    3D-SoC的關鍵技術:
  • 晶圓對晶圓混合鍵合:該技術允許在堆疊層之間創(chuàng)建極細間距的連接。IMEC使用SiCN作為鍵合介電質(zhì)的方法已經(jīng)實現(xiàn)了700nm的間距,未來有望實現(xiàn)400nm甚至200nm的間距。
  • 芯片對晶圓鍵合:雖然無法達到與晶圓對晶圓鍵合相同的間距密度,但這種方法在組合不同Chiplet方面提供了更大的靈活性。[/ol]8 T7 |& ^1 m) `( p/ ?
    3D-SoC的優(yōu)勢:
  • 超高密度互連
  • 縮小形狀因子
  • 可能降低功耗并提高性能
  • 能夠?qū)hiplet集成為單個芯片
    2 _; O% q6 E/ I3 X7 n( `$ ?) b1 S# z7 TChiplet互連技術面臨的挑戰(zhàn)Chiplet提供了許多優(yōu)勢,但仍需解決幾個挑戰(zhàn):
  • 熱管理:堆疊Chiplet可能導致熱密度增加,需要創(chuàng)新的散熱解決方案。
  • 供電:確?缍鄠Chiplet的充分電力分配,尤其是在3D堆疊中,這一點尤為重要。
  • 測試和已知良品(KGD):開發(fā)有效的測試策略對單個Chiplet和組裝系統(tǒng)的良率和可靠性來說很重要。
  • 標準化:確保來自不同供應商的Chiplet之間的兼容性和通信需要全行業(yè)標準。[/ol]: P& {- S! q6 x* u4 Y! |8 z0 J

    & y! O8 x& [, r. g/ ?圖4:此圖展示了IMEC的3D互連路線圖,總結了連接Chiplet的不同方法以及預計的互連密度和間距。- {5 C% d( M0 L9 P' a  ?
    7 ^" D+ e! C+ c" j; z! R
    Chiplet互連技術的未來隨著半導體行業(yè)不斷發(fā)展,Chiplet互連技術有望在保持創(chuàng)新步伐方面發(fā)揮重要作用。幾個趨勢正在塑造這項技術的未來:
  • 間距縮。撼掷m(xù)努力減小互連間距將實現(xiàn)更高的帶寬和更緊湊的設計。
  • 先進封裝:開發(fā)新的材料和工藝用于中間層和混合鍵合將提高性能并降低成本。
  • 異構集成:結合來自不同工藝節(jié)點甚至不同材料(例如硅和III-V族半導體)的Chiplet將實現(xiàn)新的應用和提高性能。
  • 人工智能和機器學習:基于Chiplet的設計非常適合AI加速器,允許模塊化和可擴展的架構。
  • 量子-經(jīng)典集成:Chiplet可能會縮小量子處理單元和經(jīng)典控制電子線路之間的差距,加速實用量子計算機的發(fā)展。% W& B. f* c9 W" g
    [/ol]結論Chiplet互連技術代表了半導體設計和制造的范式轉變。通過將復雜系統(tǒng)分解為模塊化、可重用的組件,Chiplet為面對晶體管縮放放緩的情況下繼續(xù)創(chuàng)新提供了途徑。2.5D和3D集成技術的結合,以及互連技術的進步,正在實現(xiàn)芯片設計中新水平的性能、效率和靈活性。
    ( `9 y) M0 |. M  D. q! W$ @. o隨著業(yè)界繼續(xù)投資Chiplet技術,可以期待在互連密度、熱管理和系統(tǒng)集成方面取得更加令人印象深刻的成就。半導體的未來是模塊化的,Chiplet互連技術正在為下一代電子系統(tǒng)開辟新的機遇。% U" A1 a" e5 r% G
    參考來源[1] F. Author, "Chiplet Interconnect Technology: Piecing Together the Next Generation of Chips," 3D InCites, Jul. 2024. [Online]. Available: https://www.3dincites.com/2024/07/chiplet-interconnect-technology-piecing-together-the-next-generation-of-chips/. [Accessed: Aug. 25, 2024].
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