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引言" f/ {( w; {$ Y( x" u% T
高性能計(jì)算,尤其是人工智能和機(jī)器學(xué)習(xí)領(lǐng)域的飛速發(fā)展,導(dǎo)致數(shù)據(jù)中心的功率密度和熱量產(chǎn)生顯著增加。本文探討現(xiàn)代數(shù)據(jù)中心面臨的熱管理難題,并介紹創(chuàng)新解決方案:固態(tài)冷卻技術(shù)[1]。
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熱管理難題' j& x2 ]- ]/ z: {+ L/ \
數(shù)據(jù)中心正經(jīng)歷指數(shù)級增長,預(yù)計(jì)全球市場規(guī)模將從2024年的3018億美元增長到2030年的6224億美元,年復(fù)合增長率為10%。這種增長由帶寬、計(jì)算密度和數(shù)據(jù)管理能力的不斷提高所驅(qū)動(dòng)。然而,這些進(jìn)步也帶來了新的挑戰(zhàn),特別是在熱管理方面。
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- k% ]2 h' H* d7 Y圖1展示2024年到2030年數(shù)據(jù)中心市場規(guī)模的預(yù)計(jì)增長,突顯了該行業(yè)的爆炸性增長。* l# a0 W7 G5 p9 ~; M
/ B' N8 [8 {9 |, C/ L) ]隨著計(jì)算能力的提升,處理器產(chǎn)生的熱量也隨之增加。當(dāng)前一代機(jī)架通常消耗約40千瓦,而下一代系統(tǒng)預(yù)計(jì)每個(gè)機(jī)架將需要高達(dá)120千瓦。這種三倍的功耗增加帶來了重大的冷卻挑戰(zhàn),因?yàn)榧词故悄壳白詈玫慕鉀Q方案,考慮到冷卻限制,也只能管理約66千瓦每機(jī)架。5 i+ X# l- Y0 [$ s* y0 m
9 `6 O& c/ X" {9 t有效的熱管理對數(shù)據(jù)中心至關(guān)重要。熱管理約占數(shù)據(jù)中心功耗的40%,是這些設(shè)施總擁有成本(TCO)的關(guān)鍵因素。
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: d9 `! V; p+ s" i# k2 f圖2說明了數(shù)據(jù)中心功耗的細(xì)分,強(qiáng)調(diào)了熱管理所占的顯著部分。
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3 M' c' |; q6 ]! N傳統(tǒng)冷卻解決方案的局限性3 p3 ?$ q0 U% n* {) k% W; _0 h( w
傳統(tǒng)冷卻方法難以跟上現(xiàn)代數(shù)據(jù)中心不斷增加的熱流密度。被動(dòng)冷卻技術(shù),如散熱器和熱管,本質(zhì)上受到環(huán)境溫度的限制,對高性能計(jì)算需求往往不足。主動(dòng)冷卻解決方案,如蒸汽壓縮系統(tǒng),雖然有效但通常缺乏設(shè)備級所需的精確度,并可能消耗過多電力。
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# E( v: g; t, r* L圖3描述了傳統(tǒng)冷卻解決方案,包括被動(dòng)和主動(dòng)方法,強(qiáng)調(diào)了這些方法在解決現(xiàn)代數(shù)據(jù)中心冷卻需求方面的局限性。4 W. {& T- d" e
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隨著熱設(shè)計(jì)功耗(TDP)值的增加,業(yè)界逐漸轉(zhuǎn)向液體冷卻。然而,這種轉(zhuǎn)變也帶來了自身的一系列挑戰(zhàn),包括基礎(chǔ)設(shè)施改造和潛在的可靠性問題。% _. P+ L9 O/ x" b6 E: j
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圖4展示了XPU功率與冷卻方法之間的關(guān)系,指出了高TDP值向液體冷卻轉(zhuǎn)變的趨勢。
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固態(tài)冷卻技術(shù)簡介
' B8 n& n/ o9 z+ Z固態(tài)冷卻技術(shù)作為一種有前景的解決方案,可以應(yīng)對數(shù)據(jù)中心面臨的熱管理挑戰(zhàn)。這種創(chuàng)新技術(shù)彌合了被動(dòng)和主動(dòng)冷卻方法之間的差距,為熱管理提供了動(dòng)態(tài)方法。
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! W! f9 G3 L: R: k. ?& A( C: F固態(tài)冷卻的主要優(yōu)勢包括:動(dòng)態(tài)響應(yīng):系統(tǒng)可以根據(jù)實(shí)時(shí)熱需求,在被動(dòng)和主動(dòng)冷卻模式之間無縫切換。性能提升:通過防止熱降頻,固態(tài)冷卻允許處理器長時(shí)間保持峰值性能。能源效率:能夠在可能的情況下以被動(dòng)模式運(yùn)行,僅在必要時(shí)啟動(dòng)主動(dòng)冷卻,從而實(shí)現(xiàn)整體節(jié)能。靈活性:固態(tài)冷卻解決方案可以集成到現(xiàn)有的數(shù)據(jù)中心基礎(chǔ)設(shè)施中,減少資本支出和部署時(shí)間。
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7 k% U* l7 @) A6 t7 F# m圖5展示了固態(tài)動(dòng)態(tài)冷卻的概念,說明了如何在被動(dòng)和主動(dòng)模式下運(yùn)行以滿足不同的散熱需求。
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$ l$ E! D; D2 D- d# d/ }實(shí)際應(yīng)用:Hex 2.0 CPU冷卻器
6 m9 C( D K% P- I* ]- I. _4 h為了說明固態(tài)冷卻的實(shí)際應(yīng)用,讓我們來看看Phononic公司開發(fā)的Hex 2.0 CPU冷卻器。這種創(chuàng)新的冷卻器在緊湊的92毫米外形中結(jié)合了被動(dòng)和主動(dòng)冷卻技術(shù)。
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圖6展示了Hex 2.0 CPU冷卻器,展示了其緊湊設(shè)計(jì)以及被動(dòng)和主動(dòng)冷卻元件的集成。: @ B* F# r7 H8 A$ v6 L, m
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Hex 2.0有兩種運(yùn)行模式:被動(dòng)模式:在正常條件下,冷卻器作為傳統(tǒng)散熱器運(yùn)行,通過主散熱器有效散熱。導(dǎo)熱模式:當(dāng)CPU處于壓力下并產(chǎn)生更多熱量時(shí),熱電元件激活,通過輔助散熱器提供額外的冷卻能力。- ]; c9 a- h$ j5 t
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這種動(dòng)態(tài)方法使Hex 2.0的性能超過了許多傳統(tǒng)冷卻解決方案,包括一些外形更大的液體冷卻系統(tǒng)。 f0 V6 I# P" _3 c
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圖7展示了Hex 2.0與其他冷卻解決方案的性能對比,展示了其優(yōu)越的冷卻效率。
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數(shù)據(jù)中心基礎(chǔ)設(shè)施的廣泛應(yīng)用
. p; Y: F" w* n固態(tài)冷卻的原理可以應(yīng)用于單個(gè)CPU冷卻器之外的領(lǐng)域。這項(xiàng)技術(shù)有潛力徹底改變數(shù)據(jù)中心各種組件的冷卻方式,包括:
; u) S5 E" d. S2 ^6 G9 T機(jī)架頂部交換機(jī)計(jì)算核心后門冷卻系統(tǒng)
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6 f7 |; Y. r) s1 K' v: F$ c1 m! W0 [通過在整個(gè)數(shù)據(jù)中心實(shí)施固態(tài)冷卻解決方案,運(yùn)營商可以:* k/ v4 e C: O& _, p
穩(wěn)定光學(xué)網(wǎng)絡(luò)的頻率消除CPU/GPU的降頻提高現(xiàn)有基礎(chǔ)設(shè)施的潛力延長組件的使用壽命平滑熱點(diǎn)提高機(jī)架和數(shù)據(jù)中心層面的功率密度
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3 w! `' R! I" f; Z0 [+ ^圖8展示了如何在數(shù)據(jù)中心基礎(chǔ)設(shè)施的各個(gè)元素中部署固態(tài)冷卻解決方案。
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結(jié)論
1 I+ P X$ h$ _隨著數(shù)據(jù)中心不斷發(fā)展以滿足高性能計(jì)算和人工智能應(yīng)用的需求,熱管理仍然是一個(gè)關(guān)鍵挑戰(zhàn)。固態(tài)冷卻提供了一種有前景的解決方案,具備應(yīng)對現(xiàn)代數(shù)據(jù)中心復(fù)雜熱景觀所需的靈活性和效率。
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5 g: w$ n( e0 i" Q8 w6 ~- j( F通過在動(dòng)態(tài)、響應(yīng)式系統(tǒng)中結(jié)合被動(dòng)和主動(dòng)冷卻的優(yōu)勢,固態(tài)冷卻技術(shù)使數(shù)據(jù)中心能夠:- u" b0 P" S9 k
最大化計(jì)算性能提高能源效率延長現(xiàn)有基礎(chǔ)設(shè)施的壽命為未來功率密度的增加做好準(zhǔn)備: o/ v$ O& M2 I# V
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隨著行業(yè)的發(fā)展,采用固態(tài)冷卻等創(chuàng)新冷卻解決方案將對釋放下一代計(jì)算技術(shù)的全部潛力起重要作用,同時(shí)保持可持續(xù)和高效的數(shù)據(jù)中心運(yùn)營。5 ]4 e( @% s) c- h0 M; W: `
7 U @& Q1 n0 h# S8 Q: ^2 x參考文獻(xiàn)! f" |5 _5 T" b
[1] J. Edwards, "Datacenters: Explosive Growth Meets Thermal Consequences Power & Potential of Solid State Cooling," Phononic, Aug. 25, 2024.5 ]! @) O$ ?5 ]$ W
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) t; K+ l) n' g3 S/ o b2 [% [轉(zhuǎn)載請注明出處,請勿修改內(nèi)容和刪除作者信息!
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深圳逍遙科技有限公司(Latitude Design Automation Inc.)是一家專注于半導(dǎo)體芯片設(shè)計(jì)自動(dòng)化(EDA)的高科技軟件公司。我們自主開發(fā)特色工藝芯片設(shè)計(jì)和仿真軟件,提供成熟的設(shè)計(jì)解決方案如PIC Studio、MEMS Studio和Meta Studio,分別針對光電芯片、微機(jī)電系統(tǒng)、超透鏡的設(shè)計(jì)與仿真。我們提供特色工藝的半導(dǎo)體芯片集成電路版圖、IP和PDK工程服務(wù),廣泛服務(wù)于光通訊、光計(jì)算、光量子通信和微納光子器件領(lǐng)域的頭部客戶。逍遙科技與國內(nèi)外晶圓代工廠及硅光/MEMS中試線合作,推動(dòng)特色工藝半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展,致力于為客戶提供前沿技術(shù)與服務(wù)。9 T1 T0 K: F$ n( F( N/ U6 H' B
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