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大孔徑超表面光學(xué)元件的寬帶成像

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發(fā)表于 2024-10-10 08:02:00 | 只看該作者 |只看大圖 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
引言
  z2 ^' v; N4 s/ J$ ?超表面光學(xué)技術(shù)用超薄、平面的光學(xué)元件取代笨重的折射透鏡。然而,色差一直是實現(xiàn)大孔徑超表面光學(xué)元件高質(zhì)量寬帶成像的主要障礙。本文將介紹一項突破性研究,該研究克服了這些限制,實現(xiàn)了單個大孔徑超表面光學(xué)元件的全彩成像[1]。$ H, u& k" c& [9 g  `: U
( c. _! p+ a6 u
大孔徑超表面光學(xué)元件的挑戰(zhàn)
8 F0 O' B% w  K9 c& K6 s傳統(tǒng)的超表面光學(xué)元件在寬帶成像方面面臨根本性的限制,特別是對于大孔徑而言。其設(shè)計中固有的相位包裹導(dǎo)致嚴(yán)重的色差,這對于大于幾毫米的孔徑尤其成問題。以前實現(xiàn)寬帶成像的嘗試僅限于小孔徑或低數(shù)值孔徑,限制了其實際應(yīng)用。/ F- x; {+ `" ~# k3 ~% d7 o+ j
  B6 s7 a1 f* n1 Y  W' {
" X4 [: m  w' U. b* t' v2 t
圖1展示了大孔徑全彩超表面光學(xué)元件的設(shè)計和制造過程,包括優(yōu)化過程和與折射透鏡的比較。
, r* q& y$ A. I
5 e& K# T1 {3 ^通過創(chuàng)新設(shè)計克服限制
/ g8 z0 Y$ `1 \9 Q" J研究人員通過開發(fā)兩步優(yōu)化過程來解決這一挑戰(zhàn)。首先,他們創(chuàng)建了一個擴展景深(EDOF)設(shè)計,在寬光譜范圍內(nèi)最大化焦點強度。這種方法確?梢姽庾V內(nèi)的所有波長都聚焦在同一平面上,盡管點擴散函數(shù)(PSF)略有擴展。
5 L- m! j' g5 Q4 W% D" z
" l# q% ?; P: m2 n  n第二步涉及端到端優(yōu)化,將超表面光學(xué)元件與計算后端共同設(shè)計。這個過程微調(diào)超表面光學(xué)元件的性能,產(chǎn)生適合計算重建的PSF,最終產(chǎn)生高質(zhì)量的全彩圖像。* A  n# S5 w& P/ q

: E% Z- ^% i5 c9 j' H: Z
9 u% K1 t  F5 ^, g圖2:顯示了超表面光學(xué)元件性能的測量,包括PSF比較和對比度值分析。& k+ b3 D, h9 j
8 z/ C/ c7 o7 T1 G- `
突破:1厘米孔徑寬帶超表面光學(xué)元件
* j" A0 `  @) i; C8 ]6 F這種創(chuàng)新方法的結(jié)果是一個偏振不敏感、全彩成像的超表面光學(xué)元件,孔徑為1厘米,F(xiàn)數(shù)為2。這代表了超表面光學(xué)技術(shù)的重大進步,因為實現(xiàn)了與相同規(guī)格的單個折射透鏡相當(dāng)?shù)膶拵С上衲芰Α?br /> # E# c$ ^$ ]6 {( M" K, _5 r# o7 U  h
超表面光學(xué)元件的主要特點包括:3 k( I" e! p) e$ E7 s( e3 y: v/ c
  • 在可見光譜范圍內(nèi)(400-700納米)的寬帶性能
  • 視頻速率成像能力
  • 約30°的對角視場
  • 與折射透鏡相比,在較大視場角下性能更佳" a6 T% @) ?) b4 g
    8 z' Q+ _" @! @. e1 N0 q0 F
    制造和集成/ p8 f2 G% ?5 r: ?, f. v6 t
    超表面光學(xué)元件使用氮化硅(SiN)在石英平臺上制造。該過程涉及電子束光刻進行圖案化,隨后進行刻蝕并集成到3D打印的支架中。這種制造方法能精確控制構(gòu)成超表面光學(xué)元件的納米散射體,確保最佳性能。
    7 A$ p% }2 o$ ?% V' O" `' B, c4 n
    + L3 S# w! _% h; L' p8 D
    : [* R; t9 d5 J圖3展示了超表面光學(xué)成像與折射光學(xué)的比較,展示了各種捕獲的場景和視頻幀。
    * E- d0 c' d7 H7 q  V5 w, a# x7 @* M; Z+ F: m
    ; Q' x  s9 L2 M* ^' G; X
    性能評估" |: r+ f6 p  s3 F6 i
    為評估超表面光學(xué)元件的性能,研究人員進行了與相同規(guī)格折射透鏡的廣泛比較。他們測量了各種波長和入射角的點擴散函數(shù)(PSF),以及調(diào)制傳遞函數(shù)(MTF)以量化圖像質(zhì)量。4 s4 ~) [4 H: x. R; ^

    " ~/ Z( N7 Z2 B結(jié)果顯示,寬帶超表面光學(xué)元件實現(xiàn):
    ! P# X# {; X9 F; E; n; f
  • 計算重建后,在0-70線對/毫米范圍內(nèi)平均MTF對比度約50%
  • 在小視場角下與折射透鏡性能相當(dāng)
  • 在10°及以上視場角下性能優(yōu)于折射透鏡( F. ^/ B; Y/ i
    ! k8 [5 v* K+ f
    實際成像能力
    1 \6 k9 p5 `; O: v; ~研究人員通過各種成像場景展示了超表面光學(xué)元件的實際性能:
    1 B  \6 e  C% C/ V6 `4 w( i使用OLED屏幕的受控環(huán)境成像
    & e: j' J. U$ X: {' h彩色場景的環(huán)境光成像* d1 F8 a. ]/ `# t
    運動物體的視頻速率捕捉6 `7 c- ~; K2 [$ a2 H9 j

    9 D0 Z6 n) I6 U1 b這些測試證實了超表面光學(xué)元件在具有挑戰(zhàn)性的光照條件下和快速移動主體的全彩圖像高保真捕捉能力。
    ( J0 m( V) U; g. g. p" v# [: M
    8 L2 r6 m0 J7 v; [$ p) D ) T+ M9 y% q+ {$ P* v2 L
    圖4:展示了使用學(xué)習(xí)后端的寬帶成像,比較了使用復(fù)合折射透鏡和超表面光學(xué)元件通過不同重建方法拍攝的圖像。
    / c* Q- F# T" b% E' u
    . F, j+ M8 ?1 G$ V' T  f$ _8 q0 o通過計算后端提高圖像質(zhì)量
    7 e1 R# s% f* v* S7 r! A盡管單獨的超表面光學(xué)元件就能產(chǎn)生令人印象深刻的結(jié)果,研究人員通過實施先進的計算后端進一步提高了圖像質(zhì)量。他們探索了兩種主要方法:9 u: }& ]( Y! @" F
  • 基于物理的反濾波:該方法使用維納反卷積和去噪,基于超表面光學(xué)元件的已知屬性恢復(fù)圖像細節(jié)。
  • 學(xué)習(xí)重建:設(shè)計了一個基于概率擴散的神經(jīng)網(wǎng)絡(luò),用于處理空間變化的像差并改善噪聲減少。這種方法顯著提高了圖像質(zhì)量,產(chǎn)生的結(jié)果幾乎與復(fù)合透鏡相機成像器相媲美。
    : R3 u! h+ V& D) g& b& r[/ol]6 W1 n) Z/ P4 ?9 [
    研究人員采用了新穎的同軸配對圖像捕獲系統(tǒng)來訓(xùn)練和評估學(xué)習(xí)重建方法。這種設(shè)置確保算法可以在任意場景上進行訓(xùn)練,使其在實際應(yīng)用中更加穩(wěn)健。1 H  T: K7 `+ v5 f8 P8 G& m
    6 s8 A( D9 t0 R/ d% v
    影響和未來方向$ N) r/ J1 p1 C. m* M9 c$ b
    大孔徑超表面光學(xué)元件的這一突破對各個領(lǐng)域有重大影響:
  • 消費電子:超薄設(shè)計可以消除智能手機的相機凸起,實現(xiàn)更薄的筆記本電腦。
  • 醫(yī)學(xué)成像:更小、更高效的內(nèi)窺鏡可以促進微創(chuàng)手術(shù)。
  • 航空航天:輕量級光學(xué)系統(tǒng)可以減少無人機和衛(wèi)星的能耗。
  • 增強現(xiàn)實:緊湊、高質(zhì)量的光學(xué)系統(tǒng)可以提高AR設(shè)備的性能。6 p% S  m4 R- @* ~4 h
    [/ol]
    $ Y: o9 o/ e7 F8 _6 E! E未來研究方向可能包括:
    % m4 o3 }! i% m% h9 |. Z* W
  • 擴展到更大孔徑
  • 將光譜范圍擴展到近紅外和紫外線
  • 納入額外功能,如深度感測或偏振成像
  • 進一步優(yōu)化計算后端,以便在移動設(shè)備上實時處理0 _- [0 |' W* H/ N; f8 O0 V
    3 T8 ~, o( _9 v9 q, D" \
    結(jié)論( K6 u: I% A0 M, t3 w$ v5 h$ V
    本文探討了超表面光學(xué)領(lǐng)域的突破性進展,挑戰(zhàn)了長期以來認為大孔徑超表面光學(xué)元件無法實現(xiàn)寬帶成像的觀點。通過結(jié)合創(chuàng)新設(shè)計技術(shù)、納米制造和計算成像,研究人員創(chuàng)造了能夠進行全彩、視頻速率成像的1厘米孔徑超表面光學(xué)元件。這一成就為各種應(yīng)用中的超緊湊、高性能光學(xué)系統(tǒng)開辟了新的機遇,為下一代成像技術(shù)奠定了基礎(chǔ)。
    , `3 [5 z( B: U! h' z3 W
    ! Z3 h9 S' {) [# \# t* X6 ?/ K參考文獻
    " m6 H+ ~- t9 x) {: i3 b6 G[1] J. E. Fr?ch et al., "Beating bandwidth limits for large aperture broadband nano-optics," arXiv:2402.06824v1 [physics.optics], Feb. 2024.
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    歡迎轉(zhuǎn)載
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    轉(zhuǎn)載請注明出處,請勿修改內(nèi)容和刪除作者信息!3 j) |. Q+ J* W( L1 O

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    " l5 T6 M- S  @4 `8 R1 t" k關(guān)于我們:
    " x( q1 c6 ]! \. {" T2 i# l深圳逍遙科技有限公司(Latitude Design Automation Inc.)是一家專注于半導(dǎo)體芯片設(shè)計自動化(EDA)的高科技軟件公司。我們自主開發(fā)特色工藝芯片設(shè)計和仿真軟件,提供成熟的設(shè)計解決方案如PIC Studio、MEMS Studio和Meta Studio,分別針對光電芯片、微機電系統(tǒng)、超透鏡的設(shè)計與仿真。我們提供特色工藝的半導(dǎo)體芯片集成電路版圖、IP和PDK工程服務(wù),廣泛服務(wù)于光通訊、光計算、光量子通信和微納光子器件領(lǐng)域的頭部客戶。逍遙科技與國內(nèi)外晶圓代工廠及硅光/MEMS中試線合作,推動特色工藝半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展,致力于為客戶提供前沿技術(shù)與服務(wù)。3 u1 P6 b  `2 E% C# V
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    http://www.latitudeda.com/$ Q/ I* f; j5 z! _
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