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$ n% v7 y9 H' w; |7 y+ o8 z南智光電攜手逍遙科技更新了晶圓級(jí)薄膜鈮酸鋰器件工藝開發(fā)包(Process Design Kit,簡稱PDK)2.0版本。這次更新在1.0版本的基礎(chǔ)上進(jìn)行了全面升級(jí),優(yōu)化了器件性能,并提供了更豐富的可調(diào)參數(shù)器件庫。
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PDK 2.0的主要更新
$ ]2 m A. \4 n, {包括元件命名簡化、材料層修改、傳輸元件標(biāo)識(shí)優(yōu)化、設(shè)計(jì)范圍標(biāo)記功能、新增MZI元件、調(diào)制器設(shè)計(jì)優(yōu)化、微環(huán)元件添加、熱調(diào)節(jié)元件引入、Z傳輸組件增加以及邊緣耦合器的更新和端口放置限制等多個(gè)方面。8 e8 F B* k2 T9 B7 Q
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南智光電的PDK基于逍遙科技的PIC Studio,為用戶提供了標(biāo)準(zhǔn)化的設(shè)計(jì)工具庫。這個(gè)PDK不僅規(guī)范和定義了包括調(diào)制器在內(nèi)的各種關(guān)鍵器件的加工信息,還包括了材料參數(shù)、工藝步驟和測試標(biāo)準(zhǔn)等詳細(xì)信息。這些細(xì)節(jié)為制造環(huán)節(jié)提供了明確的指導(dǎo),有助于提高產(chǎn)品的一致性和可靠性。
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& g; C: k- c2 o. RPDK 2.0的發(fā)布標(biāo)志著南智光電平臺(tái)在光電子芯片產(chǎn)線標(biāo)準(zhǔn)化代工流片能力方面取得了顯著進(jìn)步。這一升級(jí)為設(shè)計(jì)者提供了更多工具和可能性,使得更復(fù)雜、更高性能的光電子芯片設(shè)計(jì)成為可能。
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PDK 2.0更新反映了光電子技術(shù)領(lǐng)域的快速發(fā)展,展示了南智光電在推動(dòng)光電子芯片設(shè)計(jì)和制造標(biāo)準(zhǔn)化方面的努力。通過提供更全面、更靈活的設(shè)計(jì)工具,南智光電攜手逍遙科技正在為光電子產(chǎn)業(yè)的進(jìn)步做出貢獻(xiàn)。& z- R2 y7 o v' {
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歡迎聯(lián)系我們以獲取更多關(guān)于南智光電PIC Studio PDK 2.0的詳細(xì)信息或技術(shù)支持。我們期待與您合作,共同推進(jìn)光電子芯片設(shè)計(jì)的創(chuàng)新與發(fā)展。* c! {8 \2 ?4 @/ p2 \6 d7 u
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" m1 K( u( e# F8 K軟件申請我們歡迎化合物/硅基光電子芯片的研究人員和工程師申請?bào)w驗(yàn)免費(fèi)版PIC Studio軟件。無論是研究還是商業(yè)應(yīng)用,PIC Studio都可提升您的工作效能。# |: g: n5 G3 p* @& s
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e! N8 ^* u6 G# i; [轉(zhuǎn)載請注明出處,請勿修改內(nèi)容和刪除作者信息!
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' n, ?& D! r# I" d( w關(guān)于我們:+ ?6 t3 {& p8 @, n# a$ W+ z
深圳逍遙科技有限公司(Latitude Design Automation Inc.)是一家專注于半導(dǎo)體芯片設(shè)計(jì)自動(dòng)化(EDA)的高科技軟件公司。我們自主開發(fā)特色工藝芯片設(shè)計(jì)和仿真軟件,提供成熟的設(shè)計(jì)解決方案如PIC Studio、MEMS Studio和Meta Studio,分別針對光電芯片、微機(jī)電系統(tǒng)、超透鏡的設(shè)計(jì)與仿真。我們提供特色工藝的半導(dǎo)體芯片集成電路版圖、IP和PDK工程服務(wù),廣泛服務(wù)于光通訊、光計(jì)算、光量子通信和微納光子器件領(lǐng)域的頭部客戶。逍遙科技與國內(nèi)外晶圓代工廠及硅光/MEMS中試線合作,推動(dòng)特色工藝半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展,致力于為客戶提供前沿技術(shù)與服務(wù)。
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