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IMEC更新 | Chiplet技術(shù)的測(cè)試挑戰(zhàn)與解決方案

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發(fā)表于 2024-10-5 08:03:00 | 只看該作者 |只看大圖 回帖獎(jiǎng)勵(lì) |倒序?yàn)g覽 |閱讀模式
引言, {1 F8 h1 I" |/ J. a( ~* D7 G
Chiplet是具有特定功能的模塊化芯片,這些芯片單獨(dú)制造,然后互連形成更大的系統(tǒng)。與傳統(tǒng)的單片系統(tǒng)芯片(SoC)設(shè)計(jì)相比,提供了更好的多樣性、可擴(kuò)展性和性能優(yōu)勢(shì)。隨著全球Chiplet市場(chǎng)預(yù)計(jì)每年增長(zhǎng)超過(guò)42%,了解與這項(xiàng)創(chuàng)新技術(shù)相關(guān)的測(cè)試挑戰(zhàn)和解決方案變得非常重要。
0 s0 k- j5 u* e& i: Q6 a
" G: r, h5 N/ L3 M* e: W本文將探討Chiplet的世界,重點(diǎn)關(guān)注電氣測(cè)試的重要性、測(cè)試協(xié)議的最新進(jìn)展以及業(yè)界正在進(jìn)行的測(cè)試方法標(biāo)準(zhǔn)化努力[1]。
' @2 l  i) C" m' J# _# s
* i* o4 O' v9 f+ Z5 H
1 H) g8 ?; n" s2 m  D- {8 q' T( Q. x: n  l4 \) E
0 Z% x  s5 ^4 ~+ v" M
Chiplet測(cè)試的重要性
: V+ W/ E# d: EChiplet的電氣測(cè)試對(duì)確保異構(gòu)架構(gòu)的可靠性、功能性和互操作性至關(guān)重要。由于Chiplet經(jīng)常來(lái)自不同的來(lái)源,在最終集成系統(tǒng)中保持一致的質(zhì)量和性能成為重大挑戰(zhàn)。
  P6 o, J/ B' h- {- P" t5 v# {- i$ F" h' ?/ w/ F7 z# |) G
質(zhì)量和可靠性標(biāo)準(zhǔn)
- m. e" n' |! x: w& V% uChiplet的質(zhì)量指制造時(shí)的狀態(tài)。與單片SoC一樣,Chiplet必須滿足特定的質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn),這些標(biāo)準(zhǔn)因應(yīng)用領(lǐng)域而異。這些標(biāo)準(zhǔn)涵蓋性能和功能等方面。) e5 [5 N- Q" K1 y' I& ^+ h- S

) b+ Z. ~( R$ D+ V9 Z盡管進(jìn)行了嚴(yán)格的測(cè)試,一些缺陷可能仍未被檢測(cè)到,并逃逸到最終的Chiplet中。這些"測(cè)試逃逸"以每百萬(wàn)缺陷部件(dppm)來(lái)衡量。對(duì)于手機(jī)等消費(fèi)電子產(chǎn)品,典型的容忍度是100 dppm,這意味著每百萬(wàn)個(gè)Chiplet中,可以接受100個(gè)有缺陷的產(chǎn)品。" e1 w* i% g# s- S' q' N" E* B8 d/ x* K
% m2 X1 l2 q8 E8 k- m. I  i1 G' s% }3 G
然而,某些行業(yè)要求更嚴(yán)格的標(biāo)準(zhǔn)。例如,汽車行業(yè)通常要求"0 dppm"(實(shí)際上轉(zhuǎn)化為個(gè)位數(shù)dppm)。這種嚴(yán)格性是由于車輛電子設(shè)備的關(guān)鍵性質(zhì),即使是小故障也可能帶來(lái)嚴(yán)重的安全隱患。- G5 `* M1 P0 w: {9 K$ W/ w5 A" t

+ Z. ^* S7 C0 G4 w3 W8 Y2 P- j! j + Z, U/ h& b5 H. ]  ~( e
圖1:展示了一個(gè)包含三個(gè)Chiplet的3D堆疊的橫截面,顯示了形成測(cè)試激勵(lì)和響應(yīng)"電梯"的設(shè)計(jì)即測(cè)試(DfT)元素。& N$ t3 D1 u( d7 H

. X7 ]+ I; D# [. `) V3 O" O; w測(cè)試階段1 C4 \! M/ V" v. d, ]6 ^
基于Chiplet的集成線路通常比單片SoC經(jīng)歷更多的測(cè)試階段:
  • 預(yù)綁定測(cè)試:檢查單個(gè)Chiplet,確保符合規(guī)格且無(wú)缺陷。
  • 互連測(cè)試:驗(yàn)證Chiplet之間互連的完整性和可靠性。
  • 組裝后測(cè)試:Chiplet組裝完成后,對(duì)整個(gè)設(shè)計(jì)進(jìn)行評(píng)估。$ D0 C# ]1 ~+ K+ |% _
    [/ol]4 p# {  C0 Z' N0 Q$ D! v& T8 @' p+ K

    2 u' H$ L. o, A# Y2 a標(biāo)準(zhǔn)化努力4 j9 m4 ^8 p7 G- k! `1 V3 ~/ d, o
    測(cè)試基于Chiplet設(shè)計(jì)的一個(gè)主要挑戰(zhàn)是確保測(cè)試激勵(lì)能夠到達(dá)每個(gè)Chiplet,并且能夠有效讀出響應(yīng)。為解決這個(gè)問(wèn)題,業(yè)界領(lǐng)導(dǎo)者已經(jīng)開始了標(biāo)準(zhǔn)化努力,以確保來(lái)自不同來(lái)源的Chiplet之間的兼容性。" }4 w) f  c: Z) c/ ?2 ~" C
    1 {1 F9 J5 f3 ^. I; s  F

    6 n! B/ H; _& U4 |IEEE Std 1838? 3D設(shè)計(jì)即測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)7 n2 ]2 m" t6 Q; p$ x+ i
    作為納米電子和數(shù)字技術(shù)領(lǐng)域領(lǐng)先的研究和創(chuàng)新中心,imec發(fā)起了IEEE Std 1838? 3D設(shè)計(jì)即測(cè)試(DfT)的標(biāo)準(zhǔn)化。該標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了允許測(cè)試激勵(lì)和響應(yīng)通過(guò)多個(gè)堆疊Chiplet傳輸?shù)腄fT結(jié)構(gòu)。# e4 M2 X' V. r2 J+ }

    " S0 C" k+ v* x" B+ t) A例如,要測(cè)試四個(gè)堆疊中的第三個(gè)Chiplet,第一和第二個(gè)Chiplet必須具有標(biāo)準(zhǔn)化的DfT結(jié)構(gòu),以便于測(cè)試數(shù)據(jù)的傳輸。自2020年以來(lái),所有主要的電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化(EDA)軟件公司都遵循IEEE Std 1838?標(biāo)準(zhǔn),確保了整個(gè)行業(yè)對(duì)Chiplet測(cè)試的一致性方法。
    ( F8 f1 `& Y3 J$ S1 H( D8 r% L' R$ t: U' d1 c6 }8 N
    通用Chiplet互連快車(UCIe)$ `" S' u+ Y6 m
    另一項(xiàng)關(guān)鍵的標(biāo)準(zhǔn)化努力是通用Chiplet互連快車(UCIe)。該標(biāo)準(zhǔn)專注于裸片或Chiplet之間的互連,超越了競(jìng)爭(zhēng)的界限。UCIe確保來(lái)自不同供應(yīng)商的Chiplet能夠有效通信,這對(duì)Chiplet技術(shù)的廣泛采用很重要。9 O) x$ l! T( S' e

    9 L) d7 a- \& ?, S+ K& Z  o8 b互連測(cè)試的進(jìn)展
    . F% Q2 C& {1 u0 a4 w  G$ ]' D; R傳統(tǒng)的互連測(cè)試方法主要針對(duì)硬開路和短路缺陷。然而,最近的進(jìn)展導(dǎo)致了更全面的測(cè)試方法。  b& G7 ]2 D! I5 ?

    + n3 o9 p& G# w" P5 Y9 Q( z. O
    7 S- Q( E) j2 B! x% B圖2:顯示了各種微凸點(diǎn)缺陷的掃描電鏡照片,包括電阻性變體,這些現(xiàn)在可以通過(guò)imec的E2I-TEST方法檢測(cè)到。
    , j6 Y4 u3 Q7 K0 M' o/ p& g
    6 h  l3 B: I7 [+ Z5 E* C( d; M7 rImec的E2I-TEST方法
    2 X1 F( q0 t$ ?) M' {0 U* [Imec提出了一種改進(jìn)的互連測(cè)試生成方法,稱為E2I-TEST。這種方法相比傳統(tǒng)方法有幾個(gè)優(yōu)勢(shì):
  • 提高效果:E2I-TEST覆蓋了弱缺陷變體,包括高電阻短路和低電阻開路缺陷,這些缺陷通常被以前的方法忽視。
  • 提高效率:通過(guò)僅考慮相鄰互連之間的短路,該方法減少了所需的測(cè)試模式數(shù)量。
  • 可擴(kuò)展性:E2I-TEST將測(cè)試模式數(shù)量與互連數(shù)量解耦,使其更適合未來(lái)互連密度不斷增加的Chiplet設(shè)計(jì)。' Y0 W" L0 L+ r3 ~9 z  w1 {
    [/ol]* ^5 W3 t' ~! T3 U/ m4 ?

      o( Z; z9 ]' f8 B4 e挑戰(zhàn)和未來(lái)方向
    / ^/ ^% [7 @4 s: V+ K1 V隨著Chiplet技術(shù)的不斷發(fā)展,出現(xiàn)了幾個(gè)挑戰(zhàn)和機(jī)遇:
  • 異構(gòu)集成:隨著來(lái)自不同供應(yīng)商和工藝節(jié)點(diǎn)的Chiplet的組合,確保無(wú)縫集成和測(cè)試變得更加復(fù)雜。
  • 已知良好裸片(KGD)測(cè)試:開發(fā)高效的方法來(lái)測(cè)試集成前的單個(gè)Chiplet對(duì)降低總體成本和提高良率至關(guān)重要。
  • 熱管理:隨著3D堆疊的應(yīng)用,在測(cè)試過(guò)程中管理熱量散發(fā)變得更具挑戰(zhàn)性,需要?jiǎng)?chuàng)新的解決方案。
  • 測(cè)試訪問(wèn):隨著Chiplet設(shè)計(jì)變得更加復(fù)雜,確保對(duì)所有組件的充分測(cè)試訪問(wèn),同時(shí)不影響性能或增加成本,仍然是一個(gè)重大挑戰(zhàn)。
  • 人工智能輔助測(cè)試:利用人工智能和機(jī)器學(xué)習(xí)技術(shù)優(yōu)化測(cè)試模式并預(yù)測(cè)潛在故障模式是一個(gè)新興的研究領(lǐng)域。
    1 F) N: |1 x6 p0 c! [) A) J4 J[/ol]+ n; L. y9 Q* E3 T( m
    結(jié)論
    / Y: J  Y8 g0 E0 N+ GChiplet技術(shù)代表了半導(dǎo)體設(shè)計(jì)的重大進(jìn)步,為性能、可擴(kuò)展性和成本效益提供了新的可能性。然而,從單片SoC到基于Chiplet的設(shè)計(jì)的轉(zhuǎn)變也帶來(lái)了測(cè)試和質(zhì)量保證方面的新挑戰(zhàn)。
      B* X% Y2 E5 f3 V: a7 v' B; J- ?' w+ F' Z+ \  B: j* n
    通過(guò)IEEE Std 1838?和UCIe等標(biāo)準(zhǔn)化努力,以及E2I-TEST等創(chuàng)新測(cè)試方法,業(yè)界正在解決這些挑戰(zhàn)。隨著Chiplet技術(shù)的成熟,可以期待測(cè)試方法的進(jìn)一步發(fā)展,確保這種有前景的方法在各種應(yīng)用中發(fā)揮全部潛力,從消費(fèi)電子到汽車等領(lǐng)域。' k5 B4 J+ }( x

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    + ]! j- Q/ q0 z3 j) Z) n* Z% _, Q3 g
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