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美國(guó)國(guó)防高級(jí)研究計(jì)劃局最新啟動(dòng)的HAPPI計(jì)劃簡(jiǎn)介

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引言
6 r+ P0 V" N; d本文簡(jiǎn)介美國(guó)國(guó)防高級(jí)研究計(jì)劃局(DARPA)最新啟動(dòng)的異構(gòu)自適應(yīng)光電接口(Heterogenous Adaptively Produced Photonic Interfaces, HAPPI)計(jì)劃。這一創(chuàng)新項(xiàng)目旨在通過(guò)光信號(hào)傳輸技術(shù)大幅提升微系統(tǒng)內(nèi)的信息移動(dòng)密度,有望為計(jì)算和通信技術(shù)的未來(lái)發(fā)展帶來(lái)革命性變革。
$ Q6 Q3 G+ d* Z
/ h+ ^$ F0 \8 z! I* R. Q6 @8 @
( ?$ }/ r0 e4 l4 f5 N
HAPPI計(jì)劃的必要性
; [# m/ o- ?* d* H( T8 B隨著技術(shù)需求不斷增長(zhǎng),傳統(tǒng)電子互連在速度和效率方面已接近極限。DARPA的HAPPI計(jì)劃通過(guò)聚焦3D芯片間和芯片內(nèi)光學(xué)路由的開(kāi)發(fā)來(lái)應(yīng)對(duì)這一挑戰(zhàn)。這種方法有望提高效率,加快信息傳輸速度,同時(shí)減少電磁干擾的影響。/ M& `5 }) I: g$ R- h2 j# I
9 N, u3 P9 I7 {/ z8 L( v$ ~! q
計(jì)劃目標(biāo)
* F6 W5 Q7 B& ?3 x5 F: M; O0 aHAPPI計(jì)劃的主要目標(biāo)是將微系統(tǒng)內(nèi)的信息移動(dòng)密度提高1000倍。為實(shí)現(xiàn)這一宏偉目標(biāo),研究將集中在開(kāi)發(fā)先進(jìn)的3D光學(xué)路由概念,包括單個(gè)芯片內(nèi)部和不同芯片之間的路由。- [% B. U& ]7 q1 g5 _/ ^
; H5 Y* Y+ a$ I6 f  q
計(jì)劃的重點(diǎn)領(lǐng)域包括:
  • 高密度3D芯片光學(xué)鏈路
  • 光電子集成芯片或光學(xué)中間層內(nèi)的多個(gè)路由平面
  • 能夠穿越基板厚度的路由層間垂直連接
  • 光子芯片間的表面耦合方法
    8 N4 u8 X2 {6 V[/ol]
    6 e/ Q3 A# i5 A/ ~; ?值得注意的是,芯片到光纖的耦合和芯片到芯片的邊緣耦合不在本計(jì)劃范圍內(nèi)。
      X5 ?3 I6 P; m; z3 I  v7 T2 i! M) e# a" i" G1 v
    技術(shù)挑戰(zhàn)與解決方案
    ' q- o$ w) i- Y, G& O5 N1 X; P實(shí)現(xiàn)3D光學(xué)互連的主要挑戰(zhàn)之一是創(chuàng)建能夠適應(yīng)典型微系統(tǒng)錯(cuò)位的接口。這些錯(cuò)位可能由制造和Assembly過(guò)程的變異性引起,特別是在跨越光罩尺寸或晶圓尺寸系統(tǒng)的大型鏈路陣列中。- v7 f4 U- a! U; {: o" G

    3 x' O1 m2 u* ^# F2 q為解決這一問(wèn)題,HAPPI計(jì)劃將重點(diǎn)開(kāi)發(fā):- q7 N" K$ e+ C6 c  n
  • 本質(zhì)穩(wěn)健的接口設(shè)計(jì)
  • 自適應(yīng)接口解決方案7 V  W# \& {% s" E
    ) Q, p, U; p, V6 n- R
    這些方法旨在實(shí)現(xiàn)環(huán)境和機(jī)械穩(wěn)定的光學(xué)性能,同時(shí)保持與標(biāo)準(zhǔn)微電子制造和Assembly流程的兼容性。
    $ y# T; e: {  K9 j" u
    7 G0 D+ t3 n7 E, m  V/ o硬件演示
    2 c3 W$ q/ ]9 ^5 ]HAPPI計(jì)劃的一個(gè)關(guān)鍵方面是對(duì)硬件演示的重視。DARPA正在尋求使用可擴(kuò)展制造工藝的低損耗、高密度光學(xué)互連,且這些工藝需要與微電子兼容。這些演示對(duì)于證明所提出技術(shù)在實(shí)際應(yīng)用中的可行性很重要。4 z8 }' C' _/ q4 ^: W- w* I
    4 q  ]. }5 e0 l
    材料平臺(tái)和組件( V4 ]; S2 E' y! K
    雖然HAPPI計(jì)劃沒(méi)有指定特定的材料平臺(tái),但要求所采用的方法能夠與具有已驗(yàn)證光電子組件的光電子集成芯片平臺(tái)耦合。這些組件可能包括:
  • 光源
  • 放大器
  • 調(diào)制器
  • 多路復(fù)用器
  • 濾波器
  • 探測(cè)器
  • 其他電光組件' E5 E! \) l. u$ E. |+ ]3 m! t3 k
    [/ol]
    + ~3 _7 T* M2 b該計(jì)劃將聚焦于可見(jiàn)光或近紅外波段的光學(xué)波長(zhǎng)。但需要注意的是,HAPPI計(jì)劃不涉及有源光電子組件的開(kāi)發(fā)。6 n3 M# E" A! \/ G: y' O

    * F# Q/ t' d$ ?+ F. G/ U' A" u7 _- X8 Q3 t
    潛在應(yīng)用
    , g' |( p. ^9 [, @5 KHAPPI計(jì)劃所追求的進(jìn)展有望為廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域開(kāi)啟新的系統(tǒng)架構(gòu),包括:
  • 信號(hào)處理
  • 自由空間通信
  • 遠(yuǎn)程感測(cè)
  • 數(shù)字計(jì)算
  • 原子傳感5 C5 L0 f, S5 b7 T- d% p5 v
    [/ol]5 I/ v5 J+ h$ L
    這些應(yīng)用可能對(duì)軍事和民用技術(shù)產(chǎn)生深遠(yuǎn)影響,有望改變電信、數(shù)據(jù)中心和高性能計(jì)算等領(lǐng)域。2 e8 s6 q3 o- h0 Y9 ^. [
    / Q) b' U' n0 ^( k+ m
    結(jié)語(yǔ)' e6 @9 }0 R) D0 e; s# x7 _5 f& N
    DARPA的HAPPI計(jì)劃聚焦3D光學(xué)互連和穩(wěn)健、自適應(yīng)的接口,這一計(jì)劃提高微系統(tǒng)內(nèi)的信息移動(dòng)密度。隨著計(jì)劃的推進(jìn),有望看到突破性的進(jìn)展,為廣泛應(yīng)用領(lǐng)域的更高效、更強(qiáng)大的系統(tǒng)奠定基礎(chǔ)。
    ; K4 h. c$ X; z' m# G' D( [  b9 \" u% X5 S9 l0 _$ g& z
    - END -
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    ; C( J# I/ K: }轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處,請(qǐng)勿修改內(nèi)容和刪除作者信息!
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    關(guān)于我們:4 n+ Q9 J& ]$ m3 w5 x7 ]1 ~% I
    深圳逍遙科技有限公司(Latitude Design Automation Inc.)是一家專(zhuān)注于半導(dǎo)體芯片設(shè)計(jì)自動(dòng)化(EDA)的高科技軟件公司。我們自主開(kāi)發(fā)特色工藝芯片設(shè)計(jì)和仿真軟件,提供成熟的設(shè)計(jì)解決方案如PIC Studio、MEMS Studio和Meta Studio,分別針對(duì)光電芯片、微機(jī)電系統(tǒng)、超透鏡的設(shè)計(jì)與仿真。我們提供特色工藝的半導(dǎo)體芯片集成電路版圖、IP和PDK工程服務(wù),廣泛服務(wù)于光通訊、光計(jì)算、光量子通信和微納光子器件領(lǐng)域的頭部客戶。逍遙科技與國(guó)內(nèi)外晶圓代工廠及硅光/MEMS中試線合作,推動(dòng)特色工藝半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展,致力于為客戶提供前沿技術(shù)與服務(wù)。' ]& N- q& Y/ q* G
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