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引言隨著摩爾定律接近極限,半導(dǎo)體行業(yè)正在探索新方法來持續(xù)提高集成線路的性能、功率效率和成本效益。Chiplet異構(gòu)集成將傳統(tǒng)的片上系統(tǒng)(SoC)設(shè)計(jì)重新設(shè)計(jì)為更小的功能塊,稱為Chiplet。本文將探討Chiplet異構(gòu)集成的概念、優(yōu)勢、挑戰(zhàn)以及各種實(shí)現(xiàn)技術(shù)。( t# b$ U" [8 M7 K( `$ F# |( ]
什么是Chiplet?Chiplet是功能性集成線路塊,通常由可重用的IP(知識產(chǎn)權(quán))塊組成。與將所有功能集成到單個(gè)整體芯片的傳統(tǒng)SoC不同,基于Chiplet的設(shè)計(jì)將這些功能分割成獨(dú)立的較小芯片,可以使用不同的工藝制造,然后使用先進(jìn)的封裝技術(shù)集成。
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圖1:兩種Chiplet異構(gòu)集成方法:(a)芯片分割和集成,(b)芯片分區(qū)和集成。
4 U# N7 T6 y8 p2 ?8 ZChiplet異構(gòu)集成的優(yōu)勢1. 良率提升:較小的芯片具有更高的良率,從而降低制造成本。圖2說明了這一概念:/ Y4 e' ^) B# k0 {7 G1 l4 u. p
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8 q! M8 n3 r8 m, M8 |( f圖2:整體設(shè)計(jì)和各種Chiplet設(shè)計(jì)的良率與芯片尺寸的關(guān)系。
+ U3 l0 {2 Z; c# x& |2. 上市時(shí)間:芯片分區(qū)可以加快開發(fā)速度。
" J9 I5 z; K3 d; `3. 成本降低:AMD證明,使用Chiplet進(jìn)行CPU核心設(shè)計(jì)可以將32核CPU的硅設(shè)計(jì)和制造成本降低最多40%。- k5 `7 X6 R# E: |( y8 D! |
4. 散熱優(yōu)勢:將芯片分散在封裝中可以改善熱管理。
1 ?( ~' c8 A- k) ZChiplet異構(gòu)集成的挑戰(zhàn)接口和復(fù)制邏輯需要額外面積更高的封裝成本增加的復(fù)雜性和設(shè)計(jì)工作需要適合Chiplet設(shè)計(jì)的新方法[/ol]/ T; [6 L9 G# k" Q7 M+ u& g) A c
用于Chiplet集成的先進(jìn)封裝技術(shù)為支持Chiplet異構(gòu)集成,出現(xiàn)了幾種先進(jìn)的封裝技術(shù):1. 有機(jī)基板上的2D Chiplet集成:這種方法將Chiplet并排放置在有機(jī)基板上。AMD的EPYC處理器使用了這種技術(shù)。 N& E) x( B% J+ D d2 R7 p& x
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圖3:AMD第二代EPYC在有機(jī)基板上的2D Chiplet異構(gòu)集成。
5 h, Z, h: L' \& n2. 有機(jī)基板上的2.1D Chiplet集成:這種方法在有機(jī)基板上添加薄膜層,以提高互連密度。新光電氣的i-THOP(集成薄膜高密度有機(jī)封裝)是這種技術(shù)的一個(gè)例子。
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/ a; U. c4 X p/ \圖4:新光電氣在有機(jī)基板上的2.1D Chiplet異構(gòu)集成。
F! R; p/ s! v$ r0 t( u硅中介層上的2.5D Chiplet集成這種技術(shù)使用帶有硅通孔(TSV)的無源硅中介層來連接Chiplet。臺積電的晶圓級封裝(CoWoS)是一個(gè)突出的例子。, Q. v- ?/ N4 ?! t
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圖5:在無源TSV中介層上的2.5D(CoWoS-2) Chiplet異構(gòu)集成。
: ~* ^; ]: O* [6 U3D Chiplet集成這種方法使用帶有TSV的有源中介層垂直堆疊Chiplet。英特爾的Foveros技術(shù)是這種技術(shù)的主要代表。
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) o) ~( B" @5 |: p% K7 W圖6:英特爾的3D Chiplet異構(gòu)集成(Foveros)。
1 v: R0 N/ X' c8 Q* P9 o4 Q帶硅橋的Chiplet集成這種方法在有機(jī)基板中嵌入硅橋來連接Chiplet。英特爾的EMIB(嵌入式多芯片互連橋)使用了這種方法。
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圖7:英特爾在帶硅橋的有機(jī)基板上的Chiplet異構(gòu)集成(Agilex FPGA)。
4 g( C% O+ x/ T$ a$ i封裝疊加(PoP) Chiplet集成這種技術(shù)垂直疊加封裝,通常結(jié)合邏輯和存儲Chiplet。蘋果的A系列處理器使用這種方法,結(jié)合臺積電的InFO(集成扇出)技術(shù)。6 d8 o( Y& H6 P5 o. i& v
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圖8:蘋果iPhone的PoP InFO Chiplet異構(gòu)集成。1 E, B3 @ K' f7 u4 Y' t4 j
案例研究:1. AMD的EPYC處理器:AMD的第二代EPYC服務(wù)器處理器展示了Chiplet設(shè)計(jì)的強(qiáng)大功能。通過使用Chiplet,AMD實(shí)現(xiàn)了比整體設(shè)計(jì)更高的核心數(shù)和性能,同時(shí)還降低了成本。3 Y* R. E* V% P. w; `2 X: L
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圖9:AMD的芯片成本比較:Chiplet(7 nm + 12 nm)與整體(7 nm)。
$ f e. }* w4 k c; m7 f. k' [2. 英特爾的Lakefield處理器:英特爾的Lakefield移動處理器使用Foveros 3D封裝技術(shù)垂直堆疊Chiplet。這種方法可以在適合移動設(shè)備的緊湊形態(tài)下實(shí)現(xiàn)高性能。
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: X1 S- m- I* ]" `9 I1 V圖10:使用Foveros技術(shù)的英特爾Lakefield移動處理器。
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9 y1 V* D- b- y5 ]- Q) U# G& ^( z圖11:Lakefield處理器橫截面的掃描電子顯微鏡圖像。. Y3 H0 C: T$ B+ U
未來趨勢半導(dǎo)體行業(yè)在Chiplet集成技術(shù)方面不斷創(chuàng)新,些新興趨勢包括:1. 更細(xì)的互連間距:英特爾已經(jīng)展示了10 μm間距的混合鍵合技術(shù),相比Lakefield使用的50 μm間距有了顯著提升。
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圖12:英特爾的Foveros技術(shù):微凸點(diǎn)(50 μm間距)和無凸點(diǎn)(10 μm間距)技術(shù)對比。0 Q' v/ [- o' v' o. ~3 ^: _8 x
2. 3DFabric集成:臺積電的3DFabric技術(shù)為Chiplet集成提供全面的平臺,涵蓋前端到后端的工藝。4 F! e% {% C* p
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圖13:臺積電3DFabric集成概念。
9 P- g5 ^/ M1 s) k: e2 |) f3. 混合鍵合:臺積電的集成芯片系統(tǒng)(SoIC)技術(shù)使用混合鍵合進(jìn)行芯片到芯片和芯片到晶圓的集成,與傳統(tǒng)的微凸點(diǎn)方法相比,提供了更好的熱性能和能量性能。) u; J+ _# i1 `9 r4 `/ t
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圖14:SoIC與傳統(tǒng)3D IC的熱性能和能量性能比較。* [5 Q# A2 X1 t( |6 o7 C x3 H
結(jié)論Chiplet異構(gòu)集成代表了半導(dǎo)體設(shè)計(jì)和封裝的范式轉(zhuǎn)變。通過將復(fù)雜系統(tǒng)分解為更小、更易管理的Chiplet,制造商可以優(yōu)化性能、降低成本并縮短上市時(shí)間。雖然在標(biāo)準(zhǔn)化和設(shè)計(jì)工具方面仍然存在挑戰(zhàn),但基于Chiplet設(shè)計(jì)的潛在優(yōu)勢正在推動行業(yè)快速創(chuàng)新。* g7 g$ V: ~9 y* V4 k; _( i: S' O$ h
展望未來,可以預(yù)期Chiplet集成技術(shù)將繼續(xù)進(jìn)步,包括更細(xì)的互連間距、改進(jìn)的熱管理和更復(fù)雜的3D集成技術(shù)。AMD EPYC處理器和英特爾Lakefield等產(chǎn)品的成功證明了基于Chiplet設(shè)計(jì)的可行性和潛力。
* F6 k0 k( J" y$ l: K對于希望利用Chiplet技術(shù)的公司來說,權(quán)衡不同集成方法之間的利弊,并選擇最適合其特定應(yīng)用需求、性能目標(biāo)和成本限制的方法非常重要。隨著生態(tài)系統(tǒng)的成熟和標(biāo)準(zhǔn)的出現(xiàn),Chiplet異構(gòu)集成將在塑造半導(dǎo)體設(shè)計(jì)和制造的未來方面發(fā)揮重要作用。* j$ d# {- p, c5 _0 s
參考文獻(xiàn)J. H. Lau, "Semiconductor Advanced Packaging," Singapore: Springer Nature Singapore Pte Ltd., 2021.+ P9 Z: k8 f: A) v6 G
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