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引言半導(dǎo)體行業(yè)長(zhǎng)期以來(lái)一直依靠摩爾定律推動(dòng)創(chuàng)新,但隨著我們接近晶體管縮放的物理極限,需要新的方法來(lái)繼續(xù)推進(jìn)芯片性能和功能。Chiplet互連技術(shù)應(yīng)運(yùn)而生,正在重塑半導(dǎo)體設(shè)計(jì)和制造的格局。
" [. f8 M* r9 P# _本文將探討Chiplet的世界、其優(yōu)勢(shì)以及使其成為可能的前沿互連技術(shù)。研究Chiplet集成的各種方法,包括2.5D和3D技術(shù),并探討未來(lái)面臨的挑戰(zhàn)和機(jī)遇[1]。: h, v& Y& x# R$ p, `3 O. l4 j
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. C" K& c$ O4 W4 R m( B了解Chiplet0 _- K8 X& h# m* u/ n( q
Chiplet是具有特定功能的小型模塊化芯片,可以組合成單個(gè)封裝或系統(tǒng)。可以將其視為半導(dǎo)體世界的樂高積木——可以混合搭配以創(chuàng)建針對(duì)特定應(yīng)用的復(fù)雜系統(tǒng)的獨(dú)立部件。9 A: u ?; }) a- W, O
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! W: X, x" x' l7 [圖1:此圖說(shuō)明了Chiplet如何提供模塊化系統(tǒng),將來(lái)自不同供應(yīng)商和技術(shù)節(jié)點(diǎn)的單獨(dú)芯片組合在一起,與傳統(tǒng)的單片系統(tǒng)芯片設(shè)計(jì)形成對(duì)比。
* f6 K+ C1 V; A2 i( l# }& v/ ~Chiplet技術(shù)的興起隨著摩爾定律放緩,業(yè)界一直在尋找替代方案,以應(yīng)對(duì)單片系統(tǒng)芯片(SoC)設(shè)計(jì)日益增加的復(fù)雜性和成本。Chiplet通過(guò)允許制造商執(zhí)行以下操作提供了解決方案:優(yōu)化技術(shù)節(jié)點(diǎn):不同功能可以使用適當(dāng)?shù)墓に嚰夹g(shù),平衡性能和成本。增加靈活性:通過(guò)更換單個(gè)Chiplet,可以更頻繁地更新設(shè)計(jì)。提高良率:較小、較簡(jiǎn)單的設(shè)計(jì)通常具有較高的良率。降低成本:新芯片設(shè)計(jì)的入門成本降低,生產(chǎn)效率提高。[/ol]
+ b8 j- p8 g# yChiplet技術(shù)的應(yīng)用雖然最初在高性能計(jì)算領(lǐng)域獲得關(guān)注,但Chiplet正在進(jìn)入各種應(yīng)用領(lǐng)域:汽車行業(yè):提供可輕松更新或修改的靈活電子架構(gòu)。移動(dòng)設(shè)備:結(jié)合計(jì)算、無(wú)線通信和顯示驅(qū)動(dòng)器等各種功能。成像系統(tǒng):更高效地集成傳感器和處理單元。內(nèi)存解決方案:允許模塊化和可擴(kuò)展的內(nèi)存配置。量子計(jì)算:促進(jìn)量子處理單元與經(jīng)典控制電子線路的集成。[/ol]3 Z5 _6 x/ q. j9 `% g& t
Chiplet互連技術(shù)基于Chiplet的設(shè)計(jì)的成功取決于在各個(gè)Chiplet之間創(chuàng)建密集、高帶寬連接的能力。兩種主要方法已經(jīng)出現(xiàn):2.5D集成3D系統(tǒng)芯片(3D-SoC)& C- q$ y0 E/ I' y; b
[/ol]讓我們?cè)敿?xì)探討每種方法。
$ Z2 B: c& y' K* z+ ~& `2.5D集成:中間層方法在2.5D集成中,Chiplet通過(guò)公共基板(稱為中間層)并排連接。這種方法允許高密度連接,同時(shí)保持相對(duì)簡(jiǎn)單的制造過(guò)程。
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; M: H' ]1 I4 y2 s圖2:此圖展示了不同的2.5D集成方法,包括硅中間層、硅橋接和有機(jī)重分布層(RDL)。% }4 {$ R" L; B7 c7 u" t# p4 N
/ r1 \4 J' x9 ?' W4 y: @4 e+ ^中間層類型:硅中間層:高性能應(yīng)用的成熟技術(shù),提供最精細(xì)的間距以及出色的熱學(xué)和電學(xué)性能。但成本和復(fù)雜性較高。有機(jī)基板:正在獲得關(guān)注的更具成本效益的替代方案。研究人員正在努力實(shí)現(xiàn)與硅中間層相當(dāng)?shù)幕ミB密度。硅橋接:使用小型硅中間層在邊緣連接Chiplet的混合方法,可能在性能和成本之間取得平衡。[/ol]8 Y2 x% X; q6 W- X
2.5D集成中的互連間距:硅中間層:可實(shí)現(xiàn)亞微米間距有機(jī)RDL:目前目標(biāo)為2μm間距,未來(lái)有望實(shí)現(xiàn)亞微米間距
8 k, y7 J0 a. s9 q, m( q& [6 v/ n2.5D集成中的微凸點(diǎn):Chiplet通常使用稱為微凸點(diǎn)的小型焊料凸點(diǎn)連接到中間層。行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)微凸點(diǎn)間距范圍為30μm至50μm,研究正在推動(dòng)實(shí)現(xiàn)10μm甚至5μm的間距。
; \! z U1 v5 V8 i) r8 j3D系統(tǒng)芯片:堆疊實(shí)現(xiàn)終極集成對(duì)于需要最高性能、最小形狀因子或最大系統(tǒng)集成水平的應(yīng)用,3D-SoC提供了一個(gè)引人注目的解決方案。這種方法涉及垂直堆疊Chiplet,創(chuàng)建真正的三維結(jié)構(gòu)。
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2 K1 H+ _: J6 O0 U圖3:此圖展示了晶圓對(duì)晶圓混合鍵合,這是3D-SoC集成的關(guān)鍵技術(shù),顯示互連間距縮小到400nm。' E) ~) f1 i# ?$ ?% O8 c, B
3D-SoC的關(guān)鍵技術(shù):晶圓對(duì)晶圓混合鍵合:該技術(shù)允許在堆疊層之間創(chuàng)建極細(xì)間距的連接。IMEC使用SiCN作為鍵合介電質(zhì)的方法已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了700nm的間距,未來(lái)有望實(shí)現(xiàn)400nm甚至200nm的間距。芯片對(duì)晶圓鍵合:雖然無(wú)法達(dá)到與晶圓對(duì)晶圓鍵合相同的間距密度,但這種方法在組合不同Chiplet方面提供了更大的靈活性。[/ol]- G- |0 U4 m# W, L( X! W& i( r2 o
3D-SoC的優(yōu)勢(shì):超高密度互連縮小形狀因子可能降低功耗并提高性能能夠?qū)hiplet集成為單個(gè)芯片- Y6 p. g! D% p4 B
Chiplet互連技術(shù)面臨的挑戰(zhàn)Chiplet提供了許多優(yōu)勢(shì),但仍需解決幾個(gè)挑戰(zhàn):熱管理:堆疊Chiplet可能導(dǎo)致熱密度增加,需要?jiǎng)?chuàng)新的散熱解決方案。供電:確?缍鄠(gè)Chiplet的充分電力分配,尤其是在3D堆疊中,這一點(diǎn)尤為重要。測(cè)試和已知良品(KGD):開發(fā)有效的測(cè)試策略對(duì)單個(gè)Chiplet和組裝系統(tǒng)的良率和可靠性來(lái)說(shuō)很重要。標(biāo)準(zhǔn)化:確保來(lái)自不同供應(yīng)商的Chiplet之間的兼容性和通信需要全行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。[/ol]2 N* Z8 I4 z' I2 B& J3 V
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圖4:此圖展示了IMEC的3D互連路線圖,總結(jié)了連接Chiplet的不同方法以及預(yù)計(jì)的互連密度和間距。
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7 N! h# b ^- [1 JChiplet互連技術(shù)的未來(lái)隨著半導(dǎo)體行業(yè)不斷發(fā)展,Chiplet互連技術(shù)有望在保持創(chuàng)新步伐方面發(fā)揮重要作用。幾個(gè)趨勢(shì)正在塑造這項(xiàng)技術(shù)的未來(lái):間距縮小:持續(xù)努力減小互連間距將實(shí)現(xiàn)更高的帶寬和更緊湊的設(shè)計(jì)。先進(jìn)封裝:開發(fā)新的材料和工藝用于中間層和混合鍵合將提高性能并降低成本。異構(gòu)集成:結(jié)合來(lái)自不同工藝節(jié)點(diǎn)甚至不同材料(例如硅和III-V族半導(dǎo)體)的Chiplet將實(shí)現(xiàn)新的應(yīng)用和提高性能。人工智能和機(jī)器學(xué)習(xí):基于Chiplet的設(shè)計(jì)非常適合AI加速器,允許模塊化和可擴(kuò)展的架構(gòu)。量子-經(jīng)典集成:Chiplet可能會(huì)縮小量子處理單元和經(jīng)典控制電子線路之間的差距,加速實(shí)用量子計(jì)算機(jī)的發(fā)展。% e5 }- O& P5 N" Y* R$ c7 N
[/ol]結(jié)論Chiplet互連技術(shù)代表了半導(dǎo)體設(shè)計(jì)和制造的范式轉(zhuǎn)變。通過(guò)將復(fù)雜系統(tǒng)分解為模塊化、可重用的組件,Chiplet為面對(duì)晶體管縮放放緩的情況下繼續(xù)創(chuàng)新提供了途徑。2.5D和3D集成技術(shù)的結(jié)合,以及互連技術(shù)的進(jìn)步,正在實(shí)現(xiàn)芯片設(shè)計(jì)中新水平的性能、效率和靈活性。) a: L& J, v1 p% W b7 N3 H8 D% X
隨著業(yè)界繼續(xù)投資Chiplet技術(shù),可以期待在互連密度、熱管理和系統(tǒng)集成方面取得更加令人印象深刻的成就。半導(dǎo)體的未來(lái)是模塊化的,Chiplet互連技術(shù)正在為下一代電子系統(tǒng)開辟新的機(jī)遇。
- @+ S+ C X2 i參考來(lái)源[1] F. Author, "Chiplet Interconnect Technology: Piecing Together the Next Generation of Chips," 3D InCites, Jul. 2024. [Online]. Available: https://www.3dincites.com/2024/07/chiplet-interconnect-technology-piecing-together-the-next-generation-of-chips/. [Accessed: Aug. 25, 2024].4 q0 u% [2 H/ O
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# I a. C: U9 F. B: X轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處,請(qǐng)勿修改內(nèi)容和刪除作者信息!" M9 S+ B* I- b
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# K) n k& Y0 i) x深圳逍遙科技有限公司(Latitude Design Automation Inc.)是一家專注于半導(dǎo)體芯片設(shè)計(jì)自動(dòng)化(EDA)的高科技軟件公司。我們自主開發(fā)特色工藝芯片設(shè)計(jì)和仿真軟件,提供成熟的設(shè)計(jì)解決方案如PIC Studio、MEMS Studio和Meta Studio,分別針對(duì)光電芯片、微機(jī)電系統(tǒng)、超透鏡的設(shè)計(jì)與仿真。我們提供特色工藝的半導(dǎo)體芯片集成電路版圖、IP和PDK工程服務(wù),廣泛服務(wù)于光通訊、光計(jì)算、光量子通信和微納光子器件領(lǐng)域的頭部客戶。逍遙科技與國(guó)內(nèi)外晶圓代工廠及硅光/MEMS中試線合作,推動(dòng)特色工藝半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展,致力于為客戶提供前沿技術(shù)與服務(wù)。) z( P0 Y/ {( g5 g
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