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先進(jìn)半導(dǎo)體封裝的趨勢(shì)與技術(shù)

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發(fā)表于 2024-9-13 08:03:00 | 只看該作者 |只看大圖 回帖獎(jiǎng)勵(lì) |倒序?yàn)g覽 |閱讀模式
引言0 G! T9 b9 a4 d+ g, g1 Y& @' _
半導(dǎo)體行業(yè)正在快速發(fā)展,主要由多個(gè)應(yīng)用領(lǐng)域?qū)Ω咝阅、更低功耗和小型化的需求?qū)動(dòng)。先進(jìn)封裝技術(shù)在滿足這些需求方面發(fā)揮著關(guān)鍵作用,通過實(shí)現(xiàn)多樣化組件的異構(gòu)集成。本文以參考文獻(xiàn)為基礎(chǔ)概述了先進(jìn)半導(dǎo)體封裝的主要趨勢(shì)和技術(shù)[1],非最新的信息,但可以見到技術(shù)的連續(xù)演進(jìn),當(dāng)年的預(yù)測(cè)依然正確。
; h6 I/ |8 |2 u# h/ _2 t
# T+ Y/ e# v7 a+ C5 F' L. u

* d- F8 l% K5 y驅(qū)動(dòng)因素和應(yīng)用$ j$ ^2 T- N2 K8 Q
推動(dòng)半導(dǎo)體行業(yè)增長(zhǎng)的幾個(gè)主要應(yīng)用包括:
( j  A/ @- P2 t4 f7 U6 V9 u/ R
  • 移動(dòng)設(shè)備
  • 高性能計(jì)算
  • 自動(dòng)駕駛汽車
  • 物聯(lián)網(wǎng)(IoT)
  • 大數(shù)據(jù)和云計(jì)算
  • 邊緣計(jì)算
    0 ^/ r7 o( ^3 R3 {5 l6 O" g& s

    0 e  A; `8 r5 R: K% }3 t這些應(yīng)用由人工智能和5G通信等系統(tǒng)技術(shù)驅(qū)動(dòng)因素推動(dòng)。為支持這些應(yīng)用,先進(jìn)封裝技術(shù)必須提供:
    0 l' b! e  t1 u8 N
  • 更高密度的集成
  • 改善電氣和熱性能
  • 降低成本
  • 加快上市時(shí)間) y: `+ L3 P$ ?
    * K4 K# t% h4 W, R$ y; e

    # l8 G4 x  }9 Z% b
    ) M6 S; M4 `! i2 b7 c圖1:各種先進(jìn)封裝技術(shù)的性能和密度比較
    % Q- T6 a* o) H' x8 \/ a& A+ b  @( `7 b! f: p/ E
    主要先進(jìn)封裝技術(shù)8 u" c& U- w7 h7 ]5 b8 a! |# @
    1. 扇出型晶圓級(jí)封裝(FOWLP)1 j6 L0 Z. [- N$ B. t8 {
    FOWLP通過將芯片嵌入模塑料中并形成重布線層(RDL)來擴(kuò)展傳統(tǒng)的晶圓級(jí)封裝,從而扇出連接。這允許在更小的形狀因子中實(shí)現(xiàn)更高的I/O密度。2 H5 H$ G2 p/ M' N! D4 T3 v3 o

    % w  q' a5 L2 ? " U$ [- E3 p! `0 n% X) z
    圖2:采用芯片優(yōu)先、面朝下方法的扇出型晶圓級(jí)封裝橫截面6 O5 ?* @( V& S: _- W0 i

    + j6 \, \; l; X2 B/ {! R& R2. 使用中介層的2.5D集成
    " t& ]( ~4 P' R) U8 z9 A, M2.5D集成使用帶有硅通孔(TSV)的硅中介層來連接多個(gè)并排的芯片。這實(shí)現(xiàn)了高帶寬的芯片間連接。
    3 [" F& T; \2 {8 u# C7 r8 L
    / J/ A# _+ o) F1 P, k7 ?6 K ( ?6 a9 u' G! E
    圖3:臺(tái)積電的局部硅互連(LSI)技術(shù),用于2.5D集成& J- ?  A! H* b; t/ [8 J( u7 ^

    ' f8 ~. s8 H9 i# F3. 使用TSV的3D集成) ]/ x. Q* f& ]
    3D集成使用TSV垂直堆疊多個(gè)芯片進(jìn)行芯片間連接。這提供了最高的集成密度,但面臨熱管理和良率方面的挑戰(zhàn)。' O- `0 H5 i! y' h
    % H$ Q5 I, W* q" I, n: Y
    4. Chiplet架構(gòu)
    - Y9 E5 K/ H+ C  A8 b2 J2 ?6 }Chiplet涉及將大型系統(tǒng)級(jí)芯片(SoC)設(shè)計(jì)分割成更小的芯片,然后使用先進(jìn)封裝進(jìn)行集成。這改善了良率并允許混合使用不同的制程節(jié)點(diǎn)。
    7 j* j8 l% W+ t" Z, y; s
      B& E5 ?& z1 `2 f 6 c9 b1 J* M; N. l
    圖4:AMD和英特爾基于Chiplet的處理器示例( e+ Y! T# w9 G: u, t6 Q
    4 n+ Z' S: A& m! e; `
    5. 混合鍵合7 ^, Y! a% |! w
    混合鍵合實(shí)現(xiàn)了芯片之間在非常精細(xì)間距下直接銅對(duì)銅鍵合,無需使用微凸點(diǎn)。這為芯片到芯片的集成提供了最高的互連密度。- Z; g  X; E' X

    $ h2 S3 A" v# a: ~/ I) k9 |0 o' W* M圖5:微凸點(diǎn)鍵合和混合鍵合方法的比較
    ) v- [+ @8 @* O$ b0 Q, z3 t1 h1 V
    8 U$ ~7 k5 j3 r6 V6 N關(guān)鍵封裝工藝
    + q: f; b3 h9 l3 r8 ]- w% r( S; k幾種關(guān)鍵工藝技術(shù)促進(jìn)了先進(jìn)封裝:
    4 |, z1 Q1 Z7 P  |( c2 W1. 晶圓凸點(diǎn)制作* O; N* c( |$ q3 h
    晶圓凸點(diǎn)制作在芯片切割之前在晶圓上形成互連結(jié)構(gòu)。常見的凸點(diǎn)類型包括:
    * K4 y& l* R' K; N' Q% ?4 Z
  • 焊料凸點(diǎn)(C4)
  • 帶焊料帽的銅柱(C2), c0 a% `: B4 |; J# h7 P: m

    6 F# O# t; Y& V 4 P7 ]8 a* d7 y3 ]' ?6 D
    圖6:C4和C2晶圓凸點(diǎn)制作的工藝流程
    7 Y% s5 f% A/ S" T9 E+ d) U
    7 v+ _4 k1 X6 u2. 芯片貼裝和互連
    9 [! y* W7 r! K2 K% Q* m; j7 y( U將芯片連接到基板或其他芯片的方法包括:
    ) R" r4 u5 G2 R7 q+ C/ t
  • 焊料凸點(diǎn)的回流
  • 熱壓鍵合(TCB)
  • 混合鍵合; H2 V  E1 I3 F! f+ a- _/ C6 j
    7 K1 r7 P% V! M$ {+ C2 \# g
    3. 底填' Q$ J8 S/ H2 G" B; y/ q2 r2 x
    底填材料被注入以填充芯片和基板之間的間隙,保護(hù)互連。0 S1 ?& t& @) ]0 D7 \" B1 ?

    / T: t6 Z; Y8 {; G3 ?- V4. 重布線層(RDL)形成* q- |( }+ k: n2 C# ?5 x- A  J
    RDL在芯片表面重新布線連接。主要RDL工藝包括:
    8 N- p4 T3 l. E' N$ W; n) d
  • 光刻
  • 電鍍
  • 蝕刻7 \, Y% Z  B- K8 [: r! M. L
    ( ]/ a& e4 z1 |3 J
    5. 模塑/ o% I6 z# }. t4 N8 Z6 Y* d
    模塑料封裝芯片和互連以提供保護(hù)。方法包括:% X. A& \2 j8 [$ I) M! U
  • 傳遞模塑
  • 壓縮模塑
    : {) G& G/ Q2 \( I# Z# a1 {
    3 l4 }( B) t5 u5 t" M' l3 W6 z: L
    先進(jìn)封裝趨勢(shì)
    " Z. X/ [1 `" b1. 更精細(xì)的互連間距# H% ]. T+ |- P, n+ l& C: [! |
    互連間距持續(xù)縮小以實(shí)現(xiàn)更高密度的集成:
    8 S1 U0 m5 J- M' s$ Y, O4 w翻轉(zhuǎn)芯片凸點(diǎn)間距:最小50μm
    8 Y; |$ G, l6 s' w7 n, e$ A% Z! Y微凸點(diǎn)間距:最小20μm, e2 u; u4 m3 {# P; K
    混合鍵合間距:
    2 a6 T$ _, k4 \; F( g1 Z
    1 `" u  N& K) F& A9 m' K  y
    2. 面板級(jí)封裝
    ' g- T0 k# C: G; f2 u從晶圓級(jí)到面板級(jí)處理的轉(zhuǎn)變實(shí)現(xiàn)了更大的制造規(guī)模和更低的成本。/ Q4 u9 D% D6 ~; W# u. B# J* T4 w

    ) t. Y: t1 i! l5 [" x) m: N3. 先進(jìn)基板; w- S6 i! I: K6 {' S( U
    具有精細(xì)線/空間和嵌入式元件的有機(jī)基板正在實(shí)現(xiàn)更高密度的封裝。
    0 x/ k' Q: v7 Y. }: M! f9 z+ x3 E
    ' o# u5 \0 H' v; @! b+ ]0 E4. Chiplet集成
    6 M0 r- ?: L6 \6 y作為單片SoC的替代方案,Chiplet的異構(gòu)集成正在增長(zhǎng)。
    * `5 F  t+ ^0 d2 h/ U( _) }* l0 G$ p# k. G  I
    5. 光電共封裝 (Co-Packaged Optics)
    8 X/ j) Y% q0 a在封裝中集成光學(xué)元件正在實(shí)現(xiàn)更高帶寬的互連。
    . T0 e4 k5 ?0 k
    9 I8 s4 Y; V! k$ K6. 先進(jìn)熱管理7 l$ N" `$ R1 q
    正在開發(fā)微流體等新型冷卻解決方案來解決熱挑戰(zhàn)。3 Q9 K3 q0 I- Y& p  p8 p8 A* p

    , Y, o% N6 Y5 ]# h3 y7 ?) g8 t

    1 W3 Z1 ^9 o$ K$ j可靠性考慮
    4 Y5 R) _2 N( S3 T# S0 s  w, z隨著封裝變得更加復(fù)雜,確保可靠性變得重要。主要可靠性問題包括:
    , W  b  Y/ A& h6 s
  • 互連的熱循環(huán)疲勞
  • 跌落沖擊抵抗
  • 濕敏性
  • 電遷移
  • 應(yīng)力引起的翹曲- Y2 a+ J& e& u$ g0 N5 O3 B

      `; V5 g4 @* i8 q: W需要先進(jìn)的建模和測(cè)試方法來預(yù)測(cè)和改善封裝可靠性。
      B9 l! j, I4 B1 E8 ~/ R5 r, v3 @$ s
    - x0 K. {; e  A3 ^% I) ~3 ]
    圖7:與單片設(shè)計(jì)相比,Chiplet方法對(duì)芯片良率的影響/ X+ b7 @3 K# B3 F
      @8 L7 E2 {8 ^+ m1 p$ z+ F
    材料開發(fā)1 D  o; |9 I7 L7 \  y" M$ J
    新材料對(duì)實(shí)現(xiàn)先進(jìn)封裝很重要,包括:1 A' w+ _+ B% S! g" V
  • 用于高頻應(yīng)用的低損耗介電材料
  • 低熱膨脹系數(shù)模塑料
  • 精細(xì)間距底填材料
  • 低溫焊料
  • 用于RDL的光敏介電材料
    + |8 E/ M# z5 `* s& @
    , @. [* O- j9 u  N1 E0 }. X
    & ^3 S$ W) H8 N0 x/ P, v/ Z( d

    5 o: W' X% U; j% Q圖8:封裝材料介電損耗(Df)的路線圖! c1 t9 [( u) B7 k; ?  A
    - k" \6 b! h. V
    ! R' y$ h2 R) w( c1 g
    圖9:封裝材料介電常數(shù)(Dk)的路線圖
    ) L9 m6 G; w8 _' k9 V* Y1 p3 Y6 c" m, D- L; X
    未來展望
    / t3 O" y5 {/ d$ T" y" M. M先進(jìn)封裝將繼續(xù)在推動(dòng)半導(dǎo)體創(chuàng)新方面發(fā)揮關(guān)鍵作用。需要關(guān)注的關(guān)鍵領(lǐng)域包括:+ g+ r- E- i7 m# d* H6 R
  • 晶圓級(jí)、面板級(jí)和PCB技術(shù)的融合
  • Chiplet和芯片分解的增加采用
  • 超越焊料和銅的新型互連技術(shù)
  • 芯片和封裝的協(xié)同設(shè)計(jì)
  • 石墨烯等新材料的集成
  • 嵌入式冷卻解決方案
  • 用于封裝設(shè)計(jì)和優(yōu)化的人工智能
    ' S9 L' o4 X* B4 i/ D3 \$ [
    8 E1 m. |0 |* G% T
    隨著封裝變得更加復(fù)雜并對(duì)整體系統(tǒng)性能更加重要,芯片設(shè)計(jì)師、封裝設(shè)計(jì)師和材料供應(yīng)商之間的更密切合作將變得不可或缺。
    1 O% t0 N6 C- j: Y% m" J1 t) l6 I2 l/ C5 x$ w! q( D8 t
    # x7 i0 X6 a- y# M' s2 x# G" T
    結(jié)論
    8 Q6 J% A" e  c先進(jìn)封裝正在快速發(fā)展以滿足下一代電子系統(tǒng)的需求。扇出型封裝、2.5D和3D集成以及Chiplet等技術(shù)正在實(shí)現(xiàn)前所未有的異構(gòu)集成水平。在材料、工藝和架構(gòu)方面持續(xù)創(chuàng)新對(duì)于克服挑戰(zhàn)和實(shí)現(xiàn)先進(jìn)封裝在未來應(yīng)用中的全部潛力將非常重要。* Y! _7 q- Q/ y% f  _* q
    $ }; q( R" i/ c) x" [5 n% A: @
    & X4 L6 K% u; j9 A' t9 m6 g
    參考文獻(xiàn)' W, R' U) j3 Y  s: F# C- M" y+ r  [
    J. H. Lau, "Semiconductor Advanced Packaging," Singapore: Springer Nature Singapore Pte Ltd., 2021.  P3 X: J$ c* P$ D  p5 j
    & ~) E9 X$ R$ }% [! W# R+ Q" z5 e% f

    & {" o% g" w  P6 W0 M: V7 S$ j
    0 O* s3 C* M1 }- END -' f* N0 I& S$ |" f+ e- H* x* P7 l3 b
    $ |3 g( G7 x5 k- J7 z1 |
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    7 A# h7 ^5 C  V; W9 @5 f歡迎轉(zhuǎn)載
    + p% n* E! R4 r& @# A% z1 X' C3 t  O3 R5 f  P! w+ D2 N1 t7 d
    轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處,請(qǐng)勿修改內(nèi)容和刪除作者信息!  j; Q8 h% f- g

      d2 l7 _( x8 c+ T. Z4 K8 N4 F
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    , m$ V- J7 i3 q  X- o+ e關(guān)注我們2 I& ?. R4 S$ r2 b& I4 S/ A0 Q: H

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    $ u7 I1 w- u4 v% ~6 _

    " ~2 c3 q9 b/ W" l0 D關(guān)于我們:
    + y: Y& K3 Z. ~1 j2 n深圳逍遙科技有限公司(Latitude Design Automation Inc.)是一家專注于半導(dǎo)體芯片設(shè)計(jì)自動(dòng)化(EDA)的高科技軟件公司。我們自主開發(fā)特色工藝芯片設(shè)計(jì)和仿真軟件,提供成熟的設(shè)計(jì)解決方案如PIC Studio、MEMS Studio和Meta Studio,分別針對(duì)光電芯片、微機(jī)電系統(tǒng)、超透鏡的設(shè)計(jì)與仿真。我們提供特色工藝的半導(dǎo)體芯片集成電路版圖、IP和PDK工程服務(wù),廣泛服務(wù)于光通訊、光計(jì)算、光量子通信和微納光子器件領(lǐng)域的頭部客戶。逍遙科技與國(guó)內(nèi)外晶圓代工廠及硅光/MEMS中試線合作,推動(dòng)特色工藝半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展,致力于為客戶提供前沿技術(shù)與服務(wù)。* }- @$ {0 X0 @
    1 N) ^% M! L, y
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