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IEEE Spectrum | Hybrid bonding技術(shù)在3D芯片中扮演主角

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發(fā)表于 2024-9-16 08:02:00 | 只看該作者 |只看大圖 回帖獎(jiǎng)勵(lì) |倒序?yàn)g覽 |閱讀模式
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! w- ~; d3 L5 e( F' F8 T在半導(dǎo)體行業(yè)繼續(xù)追求納米級(jí)縮小電路的同時(shí),涉及更大尺度(數(shù)百或數(shù)千納米)的技術(shù)可能在未來五年內(nèi)同樣引人注目。Hybrid bonding可以將兩個(gè)或更多芯片堆疊在同一封裝中。
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圖1:Hybrid bonding 在兩個(gè)芯片的銅互連之間建立高密度的3D連接。在這個(gè)案例中,Imec成功實(shí)現(xiàn)了每400納米一個(gè)連接。
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" {* w) f& o& C  T8 o圖2:Hybrid bonding的基本制程
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# I1 f" a3 _' Z5 a0 n上圖展示了Hybrid bonding的基本制程。兩個(gè)晶圓(或一個(gè)芯片和一個(gè)晶圓)面對面對齊,表面覆蓋有氧化物絕緣層和略微凹陷的銅墊,這些銅墊與芯片的互連層相連。
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* h+ f+ u! f, aHybrid bonding技術(shù)允許芯片制造商在處理器和存儲(chǔ)器中增加晶體管數(shù)量,盡管晶體管本身的縮小速度已經(jīng)放緩。在2024年5月于丹佛舉行的IEEE電子元件與技術(shù)會(huì)議(ECTC)上,來自世界各地的研究小組展示了對這項(xiàng)技術(shù)的多項(xiàng)改進(jìn),其中一些成果可能導(dǎo)致3D堆疊芯片之間連接密度創(chuàng)紀(jì)錄:每平方毫米硅片上可達(dá)700萬個(gè)連接。4 a4 ?- M8 g. P; l2 {

) e* U6 i+ k. f- [- p0 U, t這些大量連接的需求源于半導(dǎo)體進(jìn)展的新性質(zhì)。英特爾的Yi Shi在ECTC上向工程師們解釋,摩爾定律現(xiàn)在受到一個(gè)稱為系統(tǒng)技術(shù)協(xié)同優(yōu)化(STCO)概念的支配。在這個(gè)概念下,芯片的功能(如緩存內(nèi)存、輸入/輸出和邏輯)被分別制造,每個(gè)功能都使用最適合的制造技術(shù)。然后,可以使用Hybrid bonding和其他先進(jìn)的封裝技術(shù)將這些子系統(tǒng)組裝在一起,使其性能與單片硅相當(dāng)。但這只有在高密度連接可以在單獨(dú)的硅片之間以小延遲和低能耗傳輸數(shù)據(jù)時(shí)才能實(shí)現(xiàn)。* ]+ g/ h4 N2 L- ?

, B( c9 E' J, a# Z在所有先進(jìn)封裝技術(shù)中,Hybrid bonding提供了最高密度的垂直連接。因此,它是先進(jìn)封裝行業(yè)增長最快的領(lǐng)域。根據(jù)Yole Group的技術(shù)和市場分析師Gabriella Pereira的說法,整個(gè)市場預(yù)計(jì)到2029年將增長兩倍多,達(dá)到380億美元。Yole預(yù)測,到那時(shí)Hybrid bonding將占市場的約一半,盡管目前它只占很小一部分。
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# X' F4 j* s# `' ~9 Y. X在Hybrid bonding中,銅墊被建立在每個(gè)芯片的頂面。銅周圍是絕緣體,通常是二氧化硅,而墊本身略微凹陷于絕緣體表面。在對氧化物進(jìn)行化學(xué)修飾后,兩個(gè)芯片被面對面壓在一起,使凹陷的墊對齊。然后,這個(gè)"三明治"結(jié)構(gòu)被緩慢加熱,導(dǎo)致銅膨脹跨越間隙并融合,連接兩個(gè)芯片。% _; T7 G8 j* u; J. W& ~0 b1 o% a

  _; H4 [9 @: h! @1 [改進(jìn)Hybrid bonding- {) b" O: x3 a6 _) k: R
研究人員正在通過多種方法改進(jìn)Hybrid bonding技術(shù):* {. t( {7 F& l
  • 表面平整化:為了以100納米級(jí)的精度將兩個(gè)晶圓結(jié)合在一起,整個(gè)晶圓必須幾乎完全平整;瘜W(xué)機(jī)械平坦化(CMP)過程在這里起著關(guān)鍵作用。
  • 粘合強(qiáng)度:研究人員正在嘗試使用不同的表面材料(如碳氮化硅而不是二氧化硅)和不同的化學(xué)活化方案來確保平整部分足夠牢固地粘合在一起。
  • 銅連接控制:控制銅墊之間間隙的大小非常重要。三星的Seung Ho Hahn報(bào)告了一種新的化學(xué)過程,希望通過每次蝕刻一個(gè)原子層的銅來精確控制這個(gè)間隙。
  • 改善銅連接質(zhì)量:東北大學(xué)的研究人員報(bào)告了一種新的冶金方案,可能最終生成跨越邊界的大型單晶銅,這將降低連接的電阻并提高其可靠性。
  • 簡化粘合過程:一些實(shí)驗(yàn)旨在降低形成鍵所需的退火溫度(通常為300°C),以最大限度地減少長時(shí)間加熱對芯片的潛在損壞風(fēng)險(xiǎn)。應(yīng)用材料公司的研究人員提出了一種方法,可以將退火時(shí)間從數(shù)小時(shí)大幅縮短到僅5分鐘。5 r& J& ~; {8 H% d
    5 P0 i) \( `( @8 k

    2 u0 S; w/ Z7 g7 x7 h) l' t芯片到晶圓(CoW)的Hybrid bonding# m* k: t+ Z( u5 ]* ~
    芯片到晶圓(CoW)的Hybrid bonding對先進(jìn)CPU和GPU制造商來說更有用:它允許芯片制造商堆疊不同大小的Chiplet,并在綁定到另一個(gè)芯片之前測試每個(gè)芯片,確保他們不會(huì)因單個(gè)有缺陷的部件而毀掉昂貴的CPU。7 g& i2 y( h1 X

    : v% [1 O5 u; T  k然而,CoW面臨著WoW(晶圓到晶圓)的所有困難,而且緩解這些困難的選擇更少。例如,CMP被設(shè)計(jì)用來使晶圓平整,而不是單個(gè)芯片。一旦芯片從源晶圓上切割下來并經(jīng)過測試,就很難再改善其粘合準(zhǔn)備狀態(tài)。
    ! w4 F4 H1 j) l' m. Y3 g% b. p) ~8 q* t( \- }
    盡管如此,英特爾的研究人員報(bào)告了具有3微米間距的CoW混合鍵合,而Imec的團(tuán)隊(duì)甚至實(shí)現(xiàn)了2微米,主要是通過在芯片仍然附著在晶圓上時(shí)使其非常平整,并在整個(gè)過程中保持其超級(jí)清潔。兩個(gè)團(tuán)隊(duì)都使用等離子體蝕刻來切割芯片,而不是使用傳統(tǒng)的專用刀片方法。與刀片不同,等離子體蝕刻不會(huì)導(dǎo)致邊緣出現(xiàn)碎屑,這些碎屑可能會(huì)干擾連接。它還允許Imec團(tuán)隊(duì)塑造芯片,制作倒角邊緣,以緩解可能破壞連接的機(jī)械應(yīng)力。
    ) I! n0 ~* t2 h1 Z: \, j) M9 i# _" K2 k% H- n3 _, C
    CoW Hybrid bonding對高帶寬內(nèi)存(HBM)的未來重要。HBM是DRAM芯片的堆棧(目前為8到12層高),位于控制邏輯芯片之上。它通常與高端GPU放置在同一封裝中,對于處理運(yùn)行大型語言模型(如ChatGPT)所需的大量數(shù)據(jù)重要。目前,HBM芯片使用微凸點(diǎn)技術(shù)堆疊,在每層之間有微小的焊料球,周圍是有機(jī)填充物。. A. M% B) M8 E6 Q( C$ J, }% `
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    但隨著AI推動(dòng)內(nèi)存需求不斷增加,DRAM制造商希望在HBM芯片中堆疊20層或更多。微凸點(diǎn)占用的體積意味著這些堆棧很快將太高,無法與GPU正確地配套在封裝中。Hybrid bonding將縮小HBM的高度,并使熱量更容易從封裝中散出,因?yàn)閷娱g的熱阻會(huì)降低。
    9 @8 F4 J* `% @( ?+ C" O
    3 f% E# w( O8 S3 v. q在ECTC上,三星工程師展示了Hybrid bonding可以產(chǎn)生16層HBM堆棧。三星高級(jí)工程師Hyeonmin Lee表示:“我認(rèn)為使用這項(xiàng)技術(shù)制造超過20層的堆棧是可能的!逼渌碌腃oW技術(shù)也可能有助于將Hybrid bonding引入高帶寬內(nèi)存。CEA Leti的研究人員正在探索所謂的自對準(zhǔn)技術(shù)。這將有助于僅使用化學(xué)過程就確保良好的CoW連接。每個(gè)表面的某些部分將被制成疏水性,某些部分制成親水性,從而導(dǎo)致表面能自動(dòng)滑入到位。
    * N* |6 C/ o2 l3 c, G
    ; _3 g. b0 [1 U6 Z* [在ECTC上,來自東北大學(xué)和雅馬哈機(jī)器人的研究人員報(bào)告了類似方案的工作,使用水的表面張力來對準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)性DRAM芯片上的5微米墊,精度優(yōu)于50納米。* q5 A/ D# n) [+ L- s5 m. r

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    * R# u* \2 }6 U3 X6 _- m
    Hybrid bonding的未來- p3 ^' K0 a, C8 o' t( U5 w) W; s
    研究人員幾乎肯定會(huì)繼續(xù)減小Hybrid bonding連接的間距。臺(tái)灣積體電路制造公司(TSMC)路徑研究系統(tǒng)項(xiàng)目經(jīng)理Han-Jong Chia在ECTC上告訴工程師們,200納米的WoW間距不僅可能,而且是可取的。在兩年內(nèi),TSMC計(jì)劃引入一種稱為背面供電的技術(shù)(英特爾計(jì)劃在今年年底前引入同樣的技術(shù))。
    ( W8 j9 X0 p5 C2 H7 ?7 R1 G- U9 w+ U7 G/ |+ n( @) _& E
    這是一種將芯片的大塊供電互連放在硅表面下方而不是上方的技術(shù)。隨著這些電源管道的移開,最上面的層可以更好地連接到更小的Hybrid bonding鍵合墊,TSMC研究人員計(jì)算出。具有200納米鍵合墊的背面供電將大大降低3D連接的電容,使能效和信號(hào)速度的衡量指標(biāo)比使用400納米鍵合墊時(shí)提高多達(dá)8倍。6 i: t6 G. r2 K3 h8 M5 i
    ' y5 J) ?5 I' @% Q. i5 ~: [$ D
    未來,如果鍵合間距進(jìn)一步縮小,Chia建議,可能會(huì)出現(xiàn)"折疊"電路塊的實(shí)用方法,即電路塊跨兩個(gè)晶圓構(gòu)建。這樣,塊內(nèi)現(xiàn)在的一些長連接可能能夠采取垂直捷徑,潛在地加快計(jì)算速度并降低功耗。
    & @6 `1 Z5 G9 P3 b" ~
    # p# q2 S8 {! ?, P, X. M' kHybrid bonding的應(yīng)用可能不僅限于硅。CEA Leti的Souriau表示:“今天有大量關(guān)于硅到硅晶圓的開發(fā),但我們也在研究氮化鎵和硅晶圓以及玻璃晶圓之間的Hybrid bonding...各種材料之間的結(jié)合!彼慕M織甚至展示了用于量子計(jì)算芯片的Hybrid bonding研究,這涉及超導(dǎo)鈮而不是銅的對準(zhǔn)和鍵合。
    # H% o! n+ F8 |6 g* A. B8 `$ J. H% H1 t( Z% H  t! N
    Souriau說:"很難說極限會(huì)在哪里。事情發(fā)展得非?。"
    . X$ y' M% m1 V5 Z9 N9 R3 O7 w5 C4 C3 e# g4 l
    + P, d( T7 W) }4 R! E
    Hybrid bonding在光電子領(lǐng)域的應(yīng)用
    . c: D$ ^0 H- n隨著數(shù)據(jù)中心和高性能計(jì)算對帶寬和能效的需求不斷增加,光電子技術(shù)正成為一個(gè)重要的發(fā)展方向。Hybrid bonding技術(shù)在這一領(lǐng)域也展現(xiàn)出巨大潛力,特別是在光電子集成芯片(PIC)、硅基光電子(SiPh)和光電共封裝(Co-Packaged Optics)等應(yīng)用中。% I( l9 v7 D5 r1 L
    - f4 n0 R9 X" h7 e# b
    1. 光電子集成芯片(PIC)9 i2 v2 q, B# M$ g
    Hybrid bonding技術(shù)使得將光學(xué)元件(如激光器、調(diào)制器和探測器)與電子控制電路緊密集成成為可能。這種緊密集成可以顯著提高PIC的性能,減少信號(hào)損失,并提高整體系統(tǒng)的效率。3 c4 y4 @, T/ G8 S/ w6 o$ }; J& Z
    2 w, L/ `, s3 M' ]) S& m
    2. 硅基光電子(SiPh):. O' P' b; }  J3 [/ X8 w
    在硅基光電子領(lǐng)域,Hybrid bonding可以用于將專門的III-V族材料(如銦磷或砷化鎵)制成的激光器和探測器與硅基光波導(dǎo)和電路結(jié)合。這種方法結(jié)合了不同材料的優(yōu)勢,克服了硅作為間接帶隙半導(dǎo)體在光發(fā)射方面的固有限制。
    * |6 [" I2 `3 S$ R1 L9 Q- c9 |8 ~6 n* z' j- ?
    3. 光電共封裝(Co-Packaged Optics):) Z5 X' R  Z  n
    對于數(shù)據(jù)中心和高性能計(jì)算應(yīng)用,光電共封裝正成為一個(gè)重要趨勢。Hybrid bonding技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)光學(xué)引擎和交換芯片的緊密集成,減少電信號(hào)傳輸距離,從而降低功耗并提高數(shù)據(jù)傳輸速率。: C8 S6 b3 P; V. ]! j" K7 D0 {1 N5 ]
    4 i$ M  ^/ M5 U$ a. F$ a( G
    Hybrid bonding在這些應(yīng)用中的優(yōu)勢包括:
    3 {! T# B$ o$ o, U% q+ g+ q
  • 更高的集成度:允許光學(xué)和電子元件在更小的空間內(nèi)緊密排列。
  • 改善的熱管理:通過更好的熱耦合,有助于管理光電器件的熱量。
  • 更短的互連:減少光學(xué)和電子信號(hào)之間的傳輸距離,提高性能。
  • 更好的信號(hào)完整性:減少寄生效應(yīng),提高高速信號(hào)的質(zhì)量。
    9 P' J- P+ m; {: ?% O5 v
    1 K5 Y) M9 b7 V9 ]4 w3 [
    然而,將Hybrid bonding應(yīng)用于光電子領(lǐng)域也面臨一些挑戰(zhàn):+ g' M# F6 u3 ]5 z' x; N! N- W- A9 u
  • 材料兼容性:確保不同材料系統(tǒng)(如III-V族半導(dǎo)體和硅)之間的良好界面。
  • 對準(zhǔn)精度:光學(xué)元件通常需要亞微米級(jí)的對準(zhǔn)精度。
  • 熱膨脹匹配:不同材料的熱膨脹系數(shù)差異可能導(dǎo)致應(yīng)力和可靠性問題。
  • 良率考慮:集成更多元件可能增加整體良率風(fēng)險(xiǎn)。! X' B8 p$ Q/ Y9 f" K8 y8 t

    : Q9 I" t* E- w, F2 k9 a5 M* C研究人員和工程師正在積極解決這些挑戰(zhàn)。例如,一些團(tuán)隊(duì)正在開發(fā)新的對準(zhǔn)技術(shù)和界面材料,以改善不同材料系統(tǒng)之間的兼容性。其他研究則專注于優(yōu)化Hybrid bonding工藝,以滿足光電子器件的特殊需求。( h7 K8 d" g. S4 c

      |3 f0 u( Y. l" \0 `; G3 k$ M

    * v1 S5 g# L) k  S2 C8 `5 X& G結(jié)論
    7 W" {+ H3 \- f- O# D; q7 g9 gHybrid bonding技術(shù)正在推動(dòng)芯片制造和封裝技術(shù)的革新。從高性能計(jì)算到光電子集成,這項(xiàng)技術(shù)都展現(xiàn)出巨大的應(yīng)用潛力。隨著研究人員繼續(xù)突破技術(shù)極限,我們可以期待在未來幾年看到更多基于Hybrid bonding的創(chuàng)新產(chǎn)品和解決方案。
    # ?6 x7 D8 \  k
    1 e9 U; _: Y( h$ G4 K在材料兼容性、對準(zhǔn)精度和熱管理等方面仍然存在一些技術(shù)挑戰(zhàn),但Hybrid bonding無疑將在未來的半導(dǎo)體和光電子產(chǎn)業(yè)中扮演關(guān)鍵角色。隨著這些挑戰(zhàn)被逐步克服,我們可能會(huì)看到更多創(chuàng)新應(yīng)用的出現(xiàn),如更高性能的AI加速器、更高帶寬的內(nèi)存系統(tǒng),以及更高效的光電集成設(shè)備。! {: k# x6 F) V8 _/ G! f9 l+ H
    $ C- D- R  U/ Z" I0 u' n( ~1 @
    Hybrid bonding技術(shù)的持續(xù)發(fā)展不僅將推動(dòng)電子產(chǎn)品的性能提升,還可能催生全新的應(yīng)用領(lǐng)域和產(chǎn)品類型。它為工程師和設(shè)計(jì)師提供了新的工具,使他們能夠突破當(dāng)前技術(shù)的限制,創(chuàng)造出更加先進(jìn)和高效的系統(tǒng)。6 p$ X$ t8 q! w

    7 e- f# Y+ |- W) V( c9 |1 ?& j4 W參考來源[1] S. K. Moore, "Hybrid Bonding Plays Starring Role in 3D Chips," IEEE Spectrum, Aug. 11, 2024. [Online].+ @2 b* x2 X7 s! C# L% C& x/ l
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