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扇出型晶圓/面板級(jí)封裝技術(shù)概述

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發(fā)表于 2024-9-20 08:00:00 | 只看該作者 |只看大圖 回帖獎(jiǎng)勵(lì) |倒序?yàn)g覽 |閱讀模式
引言
) N8 y7 @& q. N( P6 f& b扇出型晶圓/面板級(jí)封裝(FOW/PLP)是先進(jìn)的封裝技術(shù),與傳統(tǒng)封裝方法相比,能夠?qū)崿F(xiàn)更高的I/O密度和更好的電性能。本文概述FOW/PLP技術(shù),包括關(guān)鍵工藝步驟、應(yīng)用和可靠性考慮因素。
! f" [5 f# C7 @0 ?+ I6 @, M  r& J" R  g5 A' n1 K( P- m
扇出型封裝簡介5 \* j0 _. a" S9 f4 d
扇出型封裝與扇入型晶圓級(jí)芯片尺寸封裝(WLCSPs)的不同之處在于它需要在加工過程中使用臨時(shí)載體。這允許重布線層(RDLs)延伸到原始芯片邊界之外,從而實(shí)現(xiàn)更高的I/O數(shù)量。8 }5 ~. T0 W8 J$ B

( ~' r. o2 K" X5 H* `6 \如圖1所示,扇出型封裝的步驟包括:
  • 將已知良好芯片(KGDs)拾取并放置在臨時(shí)載體上
  • 用模塑料封裝芯片
  • 在封裝芯片上制作重布線層
  • 貼裝焊球
  • 移除臨時(shí)載體并將個(gè)別封裝切割分離
    9 Q0 t" c+ d3 J( K8 q( c- ~[/ol]
    ) O3 A( c! q2 q) c% G; ]
    # [( y9 X( F$ q; m) t7 p
    ' @) K9 r; g. [圖1# ~4 t+ v4 ~3 ~
    8 y6 k$ h/ d3 u$ E- S
    扇出型封裝的主要優(yōu)勢(shì)包括:/ O: g4 u7 M8 l  \2 s+ u
  • 更高的I/O密度
  • 改善的電性能
  • 更薄的封裝厚度
  • 異質(zhì)集成多個(gè)芯片的能力
    : U2 O% K9 {) ]4 c- a  l8 J: V( @, |; Q4 [

    1 G1 o% q# f6 l) U2 ~, d* a6 y% q扇出型晶圓級(jí)封裝工藝流程
    * I' D! l" v3 G1 N4 T8 A7 L' _" V典型的扇出型晶圓級(jí)封裝(FOWLP)工藝流程包括以下關(guān)鍵步驟:
    7 I7 X/ i3 R5 l! t9 X3 c) Y' g+ R. z$ Z' q
  • 晶圓準(zhǔn)備和切割
  • 芯片貼裝到臨時(shí)載體
  • 模塑/封裝
  • 載體移除
  • 重布線層制作
  • 焊球貼裝和切割分離
    ( T$ p: a. y$ w6 X; U7 x

    4 ~$ E) V& x2 T' Z: K0 F' H( f; O% F" ~圖2提供了芯片優(yōu)先、正面朝下FOWLP方法的這些工藝步驟的視覺概覽:  f, [8 G+ V6 @$ e; O# f7 A. {0 P

    8 q. e/ B2 d9 T0 {% d# A' {
    8 Y. q; d/ m- }* C$ [  ?5 B圖2
    , G) C# ?' A' D, n! Q0 y' t5 _
    0 \( x* b# |8 u& P$ u. bFOWLP加工中的關(guān)鍵考慮因素包括:
    / I7 |% B2 X- e& b
  • 臨時(shí)載體選擇(玻璃、硅、金屬)
  • 模塑料性質(zhì)
  • 重布線層制作(線寬/間距、通孔形成)
  • 模塑過程中的芯片位移
  • 翹曲控制- Y" A0 g4 h1 ^1 [3 _- m- C# _$ E
    5 Z: C2 ^! l7 K# T; H% S1 S* I: K' K7 B
    扇出型面板級(jí)封裝9 c8 T+ Z2 ?! ?! G, }. a
    為了進(jìn)一步提高產(chǎn)量并降低成本,扇出型加工可以擴(kuò)展到大型矩形面板而不是圓形晶圓。這被稱為扇出型面板級(jí)封裝(FOPLP)。5 m, e% k+ J, E  [

    % T$ I  q# T# Q2 L; b圖3展示了508 x 508 mm面板的例子,其中包含1512個(gè)扇出型封裝:1 B5 A8 S0 M% O/ {- ^
    2 R& T" M7 v5 g$ Z1 }6 ^5 o
    3 s: d, |; r0 n/ ?; Z" v- c1 t7 ?
    圖3
    4 v4 z) @( b3 Y8 f) d
    # G  \; W2 r% P5 lFOPLP的主要優(yōu)勢(shì)包括:, |3 }  u; l& o, a9 t6 E* B
  • 更高的產(chǎn)量
  • 更低的每個(gè)封裝成本
  • 利用PCB/顯示器制造基礎(chǔ)設(shè)施9 ?5 s8 D2 L  a" k- n' l% O# T
    7 x) [. Y- l8 r7 a9 D% R9 W& g
    然而,像翹曲控制和維持大面板上的均勻性等挑戰(zhàn)必須得到解決。
    / S& J" D# K* l4 s
    ' b+ A, l* Y& l* z重布線層制作5 M/ J. x" y4 M4 }% s; i! j
    扇出型封裝的一個(gè)關(guān)鍵方面是細(xì)間距重布線層(RDLs)的制作。這通常涉及:
  • 介電層沉積/圖案化
  • 種子層沉積
  • 光刻膠圖案化
  • 銅電鍍
  • 種子層去除" |8 \' |6 j5 K3 N8 n8 |" O# t
    [/ol]4 }0 v9 l- ]! t1 N! B
    圖4顯示了扇出型封裝中10 μm線寬/間距RDLs的掃描電鏡圖像:
    7 ?" b/ X; k; c2 d4 O8 C0 N1 K& D* `
    ; Z3 f' J4 r$ Q/ R
    / p" R0 A9 B' T& w/ r6 B4 f: }! F圖4; W4 g4 E# x3 @2 I7 V. q, s
    先進(jìn)的扇出型封裝可能包含多個(gè)RDL層,線寬/間距尺寸可達(dá)到2/2 μm。6 u% \# c% S% k, s* g

    / a3 X" m$ q- V+ E/ V0 A: b4 i) ~芯片后置與芯片優(yōu)先方法1 P1 B+ ^/ j; n8 \% q) X
    扇出型封裝可以使用芯片優(yōu)先或芯片后置(RDL優(yōu)先)方法實(shí)現(xiàn):/ s" x. g) }5 S% t
    1.芯片優(yōu)先:) Z8 y& z$ C# {5 V: V8 k
  • 在RDL制作之前將芯片貼裝到載體上
  • 成本更低,產(chǎn)量更高
  • 更容易發(fā)生芯片位移0 c8 Z# w) S- P3 }

    ( `. e3 N1 w# ^2.芯片后置:
    3 C+ R# y) h; ]& q4 s  F3 [! a! ?7 m
  • 在芯片貼裝之前在載體上制作RDLs
  • 更好的尺寸控制
  • 成本更高,工藝步驟更多
    * p! j: y  G# v# n( E$ q4 W# |/ W

      P4 [7 W" X* V圖5展示了RDL優(yōu)先FOWLP方法的工藝流程:* K# b! I: U' H1 |2 W$ x. N
    + P6 X- F5 W& q+ f

    ; \" g" e. G* e/ M1 l圖5
    9 l" p  t( ^$ [! G; k% c: o' N+ Q5 q
    + r4 [% i! t) ^4 t* m芯片優(yōu)先和芯片后置之間的選擇取決于成本、尺寸控制要求和芯片尺寸/間距等因素。3 ~7 f- d  v9 ~. }8 U) j0 E
    " V* h$ Q; f! w- w
    異質(zhì)集成
    " O9 l' k1 i: @扇出型封裝的一個(gè)主要優(yōu)勢(shì)是能夠在單個(gè)封裝中集成多種類型的芯片。這使得以下組件的異質(zhì)集成成為可能:, H: R$ ^- u; |0 |' `- N& m
  • 邏輯 + 存儲(chǔ)器
  • 模擬 + 數(shù)字
  • 處理器 + 傳感器
    : l3 t' ^) ^  a- f* I
    6 U% T  v3 |& `  Q. u6 s
    圖6展示了一個(gè)集成多種芯片尺寸的異質(zhì)扇出型封裝示例:
      d- j: [6 @3 l" {3 `  ^4 U& b/ d" `/ z/ g* p
    - I' f% P3 q+ k0 F9 \
    圖6
    4 _0 g/ u: L" Y% k8 F+ _+ [: |1 p9 s7 L/ Q
    在異質(zhì)扇出型設(shè)計(jì)中,必須仔細(xì)考慮芯片放置、RDL布線和熱管理。
    6 i; R' S- ?; [% ], z9 F9 e0 G. P3 L
    - @1 L8 a3 }1 x* i& R可靠性考慮* y- x& Z  f/ B, c
    扇出型封裝的主要可靠性問題包括:
    7 v+ \6 H% D" X- g% p! c
  • 模塑過程中的芯片位移
  • 翹曲
  • RDL裂紋/剝離
  • 焊點(diǎn)疲勞
  • 濕敏度  `# O+ W9 O1 u; X' l: V
    9 _7 \% E1 Z& M, E9 K  v+ ]
    可靠性測(cè)試通常包括:
    / p" U2 B; P3 S& o+ `
  • 溫度循環(huán)
  • 跌落/沖擊測(cè)試
  • 濕敏等級(jí)(MSL)測(cè)試( e- U% ~5 w8 F" H. N' |
    ! Q/ Q- B# g- f# N5 G8 B+ a& n
    圖7展示了溫度循環(huán)后扇出型封裝中的焊點(diǎn)裂紋示例:
    ( X6 |/ j) ~: u
    % U5 B, s3 R( R  ~* c5 `' Q: k - ^* |5 n) s& }) H
    圖7
    ! E2 T3 \' j) f* A
    : q, w. v  J+ O, d有限元建模通常用于分析應(yīng)力和預(yù)測(cè)可靠性,如圖8所示:: c* i; V9 n9 L8 \! O) Y0 S

    0 F+ D/ M+ z% d6 l* t 5 d+ y4 Q+ E( \+ H% t+ R
    圖8& t$ X( Y0 r2 [3 ^& l

    : V( m( T2 y! Z% }$ e新興應(yīng)用:Mini-LED顯示器
    ' n# I2 y' `3 e$ |扇出型封裝的一個(gè)新興應(yīng)用是在mini-LED顯示器中。扇出型封裝允許超細(xì)間距集成mini-LED陣列。
    - Q+ F- \* S6 h( Q8 u6 T# n; u# K5 D" i1 p: U
    圖9展示了使用扇出型技術(shù)封裝的mini-LED陣列示例:: V8 T" }) b! g6 c7 ~5 K' O

      q0 a( n6 `* A3 {0 ^  z* j! v
    3 H$ k% o  S' p3 C. Z2 ]圖9- l, f' T4 @4 {$ m% S+ M
    . q# e' }: {0 R1 K
    mini-LED封裝的主要優(yōu)勢(shì)包括:
    + ?/ o  R% `+ j/ E( D8 ^
  • 超細(xì)間距能力(
  • 改善的熱性能
  • 更低的封裝厚度
    7 Q! i2 e) N& b3 E4 Y- D( w

    % O/ A( P/ F3 G. q: G$ L圖10展示了集成在扇出型封裝中并安裝在PCB上的mini-LEDs的橫截面:1 C' F2 O: P) _

    2 {; A# n. K8 ? 4 |4 o+ O$ {9 W8 c9 O  N' ?
    圖10
    9 i# _) U8 ~: T4 Q1 s) c
    0 y4 j: l4 e6 L3 w+ C9 ?$ q總結(jié)
    1 q! J% a4 g' ~3 e) @扇出型晶圓/面板級(jí)封裝與傳統(tǒng)封裝相比,能夠?qū)崿F(xiàn)更高的I/O密度、改善的性能和異質(zhì)集成。主要方面包括:3 f9 M: E  I5 c* `* G  X! W
  • 使用臨時(shí)載體
  • RDL制作
  • 芯片優(yōu)先與芯片后置方法
  • 擴(kuò)展到面板級(jí)以提高產(chǎn)量
  • 可靠性考慮2 w0 Q$ j$ Q7 `! P/ J! @6 a$ P% c
    . q9 G$ l; {/ R- s2 M" \$ l5 m
    像mini-LED顯示器這樣的新興應(yīng)用展示了扇出型封裝對(duì)下一代電子產(chǎn)品的優(yōu)勢(shì)。隨著傳統(tǒng)封裝的縮放達(dá)到極限,預(yù)計(jì)扇出型技術(shù)將在先進(jìn)電子系統(tǒng)中發(fā)揮越來越重要的作用。; j7 Q, d3 i; @& H

    & I% q; n8 x/ L參考文獻(xiàn)
    ; \& }6 e. r2 }, `5 Q# w+ r  D[1] J. H. Lau, "Fan-Out Wafer/Panel-Level Packaging," in Semiconductor Advanced Packaging. Singapore: Springer Nature Singapore Pte Ltd., 2021, ch. 4, pp. 147-228.. v* P# p. H+ f9 }+ M( i8 N3 U6 J
    2 R, D2 f  `3 z* c: B
    - END -
    - }- e$ H2 ^; `9 y* h5 D, s9 y2 `6 f4 t4 ?# M6 M
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    # y1 d# y, _7 v+ _: g7 K! k. D  _% T轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處,請(qǐng)勿修改內(nèi)容和刪除作者信息!, H  w" j+ A: e

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    ; X8 M' ]- m, A+ V
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                          1 x  g$ T; Q# b  n. p: A3 M4 o0 v

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