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扇出型晶圓/面板級封裝技術(shù)概述

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發(fā)表于 2024-9-20 08:00:00 | 只看該作者 |只看大圖 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
引言
: u$ _& h% Q6 }7 j1 Z6 {, M扇出型晶圓/面板級封裝(FOW/PLP)是先進的封裝技術(shù),與傳統(tǒng)封裝方法相比,能夠?qū)崿F(xiàn)更高的I/O密度和更好的電性能。本文概述FOW/PLP技術(shù),包括關(guān)鍵工藝步驟、應(yīng)用和可靠性考慮因素。
1 {: m: h( z; U; R/ J3 y  E7 j7 G5 D  T/ {5 p! |2 x# }
扇出型封裝簡介
+ z$ ~* p' [( y" a扇出型封裝與扇入型晶圓級芯片尺寸封裝(WLCSPs)的不同之處在于它需要在加工過程中使用臨時載體。這允許重布線層(RDLs)延伸到原始芯片邊界之外,從而實現(xiàn)更高的I/O數(shù)量。. H- u6 L1 h7 e  B

" V8 x0 g6 x& o- h- b1 B如圖1所示,扇出型封裝的步驟包括:
  • 將已知良好芯片(KGDs)拾取并放置在臨時載體上
  • 用模塑料封裝芯片
  • 在封裝芯片上制作重布線層
  • 貼裝焊球
  • 移除臨時載體并將個別封裝切割分離0 [  k/ P! N: b) z
    [/ol]
    - S& \* B. ^: Y5 R3 Z& ?0 Y* n* _" I6 ~* S

    1 n: [4 s( U. H  h9 [圖1
    6 x5 w- Y) p; d$ n/ E/ M/ u; J- I- w3 H& L  k4 M' C
    扇出型封裝的主要優(yōu)勢包括:
    ' i' L4 J- _9 V
  • 更高的I/O密度
  • 改善的電性能
  • 更薄的封裝厚度
  • 異質(zhì)集成多個芯片的能力" K, \4 Z- p5 j7 S, }4 y+ Z' \9 d3 t

    3 m" m: k5 [# }7 ?: Z/ f扇出型晶圓級封裝工藝流程
    8 `6 E8 E* o) f- K典型的扇出型晶圓級封裝(FOWLP)工藝流程包括以下關(guān)鍵步驟:
    $ M3 Q+ K! r: I
  • 晶圓準備和切割
  • 芯片貼裝到臨時載體
  • 模塑/封裝
  • 載體移除
  • 重布線層制作
  • 焊球貼裝和切割分離
    9 i9 Q4 E- B- _. c

    2 d5 r1 f7 l/ h% W% \% k1 c* t圖2提供了芯片優(yōu)先、正面朝下FOWLP方法的這些工藝步驟的視覺概覽:
    + b' @0 h/ n: d$ K6 N. ]$ U3 E& R& h% E4 P! A' g
    ; o8 V; G! T( J
    圖2
    1 V! B! j$ z  Y8 E
    6 X+ w7 A+ e! ?& W) pFOWLP加工中的關(guān)鍵考慮因素包括:
    # y( {6 P( d' \( k+ b0 v' n
  • 臨時載體選擇(玻璃、硅、金屬)
  • 模塑料性質(zhì)
  • 重布線層制作(線寬/間距、通孔形成)
  • 模塑過程中的芯片位移
  • 翹曲控制1 X# n( _& F) V! j  y5 _, q6 R% j
    ) l6 I4 {% Y' j/ L$ [
    扇出型面板級封裝9 ]' c1 T% C/ o( }
    為了進一步提高產(chǎn)量并降低成本,扇出型加工可以擴展到大型矩形面板而不是圓形晶圓。這被稱為扇出型面板級封裝(FOPLP)。- C5 e. e. ~/ K+ _

    $ @: h; U; v# Q+ V3 m5 [圖3展示了508 x 508 mm面板的例子,其中包含1512個扇出型封裝:; O& P1 s4 ^* r; }1 v' V5 L3 O

    : o( ?' b6 V1 ^6 |% I- }( F# Q3 X
    ' q; Y- r+ j: k: g# B圖37 ]3 H( j8 N' s9 a' K; _
    5 |; H1 b% H& a' K* l4 J
    FOPLP的主要優(yōu)勢包括:' l) S& s% a! w
  • 更高的產(chǎn)量
  • 更低的每個封裝成本
  • 利用PCB/顯示器制造基礎(chǔ)設(shè)施, ?# m" ?+ [" M' B" @

    8 ~. n7 H: [2 ?! r% L  e3 l& b然而,像翹曲控制和維持大面板上的均勻性等挑戰(zhàn)必須得到解決。5 \- v0 p# l% i. d

    , H4 l; |' p! [' a% y  v1 m0 l重布線層制作
    4 _: J! b3 o/ a+ z, Q' R5 [扇出型封裝的一個關(guān)鍵方面是細間距重布線層(RDLs)的制作。這通常涉及:
  • 介電層沉積/圖案化
  • 種子層沉積
  • 光刻膠圖案化
  • 銅電鍍
  • 種子層去除
    & y2 r1 ~* P! l1 |5 b/ c[/ol]9 c2 v; {% ^# J  f
    圖4顯示了扇出型封裝中10 μm線寬/間距RDLs的掃描電鏡圖像:0 g* s0 ]- p+ u+ U1 q- S0 n

    * l8 m% ~9 |. x3 q  v& [ ! \" n6 L' s/ `7 q
    圖4& X( T6 ^$ @1 o& D+ x/ e
    先進的扇出型封裝可能包含多個RDL層,線寬/間距尺寸可達到2/2 μm。+ |, m  I8 ]" [% o

    & d- p0 o; p/ l! m芯片后置與芯片優(yōu)先方法
    0 k. f, I: G& ]& X+ {' [* k扇出型封裝可以使用芯片優(yōu)先或芯片后置(RDL優(yōu)先)方法實現(xiàn):
    : X$ w1 z, ]& Y' ~; m; ~% S) o6 T1.芯片優(yōu)先:
    ; Z: ?, a6 F% l
  • 在RDL制作之前將芯片貼裝到載體上
  • 成本更低,產(chǎn)量更高
  • 更容易發(fā)生芯片位移
    7 Y6 @3 |& j* j" X( s6 X! |
    2 s2 V* x! m7 G1 X3 W, [& p
    2.芯片后置:
    1 j6 a+ F# ]* g0 p4 B  O
  • 在芯片貼裝之前在載體上制作RDLs
  • 更好的尺寸控制
  • 成本更高,工藝步驟更多, {: y* d+ [- j9 D! j. l0 v

    6 m$ l6 ]  E0 \1 |) v圖5展示了RDL優(yōu)先FOWLP方法的工藝流程:: Z& _/ H  f8 I1 w  [- o% Z" a8 N! b
    : b+ X6 v5 g& u3 x0 R
    / q6 Q4 b; W; J2 q
    圖5
    8 w- X- |% U6 D  G, k, _
    % V( D; n6 F# J0 f2 V芯片優(yōu)先和芯片后置之間的選擇取決于成本、尺寸控制要求和芯片尺寸/間距等因素。
    , i0 F0 l3 {2 o) v2 P/ d" C/ D2 H& z  T! o& }) F' _7 }# W0 ]
    異質(zhì)集成6 W7 F0 w6 l3 N9 e7 L- [' p
    扇出型封裝的一個主要優(yōu)勢是能夠在單個封裝中集成多種類型的芯片。這使得以下組件的異質(zhì)集成成為可能:6 b! V! j: A; x
  • 邏輯 + 存儲器
  • 模擬 + 數(shù)字
  • 處理器 + 傳感器
    1 ?# u9 s% ]! {
    7 V  C0 r" v0 u0 Q; g2 E& B1 J( r
    圖6展示了一個集成多種芯片尺寸的異質(zhì)扇出型封裝示例:
    ' I7 J) F9 B9 a* t
    , V* T0 \9 M  m
    1 J! I0 f- ~7 [# U3 U, M圖6  e8 H+ ]% C7 C/ Y$ \1 s/ J

    / |) M* J" S+ u5 E1 ^7 d# V) |+ R在異質(zhì)扇出型設(shè)計中,必須仔細考慮芯片放置、RDL布線和熱管理。
    ( g+ x0 R) \, q4 b$ g5 Q3 y* N2 f  Q6 d- n
    可靠性考慮
    " i' i* i7 [% J扇出型封裝的主要可靠性問題包括:9 T9 H. j3 M1 a/ Z1 v5 J
  • 模塑過程中的芯片位移
  • 翹曲
  • RDL裂紋/剝離
  • 焊點疲勞
  • 濕敏度* H' M7 @/ ]- o2 m2 H% ^9 Y' v
    ; C( }+ i0 Q1 {. v
    可靠性測試通常包括:7 j4 e/ P# q; n6 x3 t0 o  g
  • 溫度循環(huán)
  • 跌落/沖擊測試
  • 濕敏等級(MSL)測試/ V8 N! [: Q. w  ~$ i2 N6 b
    0 h+ B5 f; C$ l# L, p7 o/ S
    圖7展示了溫度循環(huán)后扇出型封裝中的焊點裂紋示例:: [3 T, c4 c: G4 D. E4 ]; G
    ' }( k, B+ v* S2 ]' ~0 z; A

    + P& l+ T' m  f* B7 n6 ^圖7. u& Z% _. j* y* o! ?1 h/ x/ x/ U
    / y4 Z3 B2 N4 G- Z3 |5 s( b3 i
    有限元建模通常用于分析應(yīng)力和預(yù)測可靠性,如圖8所示:
    3 P% y( h7 b- _0 g2 Y
    8 h1 c' r/ u( A
    9 o$ U$ ?: V3 l3 `5 ]% ~) S  `: P圖8. w9 V. L  N% T: P! P9 }

    % O* C) i) Q8 A5 @; {6 S8 h) |) D1 |新興應(yīng)用:Mini-LED顯示器# A& _6 H# d: R1 Z5 m+ Y0 u! A& T( T8 R
    扇出型封裝的一個新興應(yīng)用是在mini-LED顯示器中。扇出型封裝允許超細間距集成mini-LED陣列。) @9 |- |& d- `

    2 U) D, B% @* Q" X: N圖9展示了使用扇出型技術(shù)封裝的mini-LED陣列示例:) _% G; G, @1 ?3 X- e% {

    ; u. T  |8 p) V; h) _# D
    0 P) M' q+ c$ ?% A' ^圖93 H6 ]& U7 }; B% e" E
    ! z8 S" h( W3 l  Q$ _1 b. [2 o4 c
    mini-LED封裝的主要優(yōu)勢包括:! n) S) V2 x$ Q3 m( c% q
  • 超細間距能力(
  • 改善的熱性能
  • 更低的封裝厚度
    5 A9 v) Y! z/ p0 {, y

    $ |% y( A, f+ P7 D# ^圖10展示了集成在扇出型封裝中并安裝在PCB上的mini-LEDs的橫截面:
    4 Z# w! f+ E! W, f1 r1 i# t% ?4 X6 s, h- R6 y
    ( f% c) u3 g8 L7 d2 u3 v9 H7 [/ E( ^
    圖10" S) R; i3 M* N2 t
    : `5 Z6 A2 S# K# A. [, v
    總結(jié)
    + u' s. _/ a# R扇出型晶圓/面板級封裝與傳統(tǒng)封裝相比,能夠?qū)崿F(xiàn)更高的I/O密度、改善的性能和異質(zhì)集成。主要方面包括:! v) C9 _4 Q4 V0 X1 s
  • 使用臨時載體
  • RDL制作
  • 芯片優(yōu)先與芯片后置方法
  • 擴展到面板級以提高產(chǎn)量
  • 可靠性考慮) d5 S4 g8 W% ^; s

    6 c, ]# r  l& }7 I4 r像mini-LED顯示器這樣的新興應(yīng)用展示了扇出型封裝對下一代電子產(chǎn)品的優(yōu)勢。隨著傳統(tǒng)封裝的縮放達到極限,預(yù)計扇出型技術(shù)將在先進電子系統(tǒng)中發(fā)揮越來越重要的作用。: }9 c+ ~% L* q- i
    ' r: c# I$ U1 D9 q9 h! A
    參考文獻5 i  @& r  _3 h2 K6 e& D
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    2 Z) A/ I/ W" w" W/ D7 [1 d; d$ g) W5 f: J
    - END -
    : x1 p, B- s, B' j9 b: d
    : _' P. B- A: l0 v2 T6 W軟件申請我們歡迎化合物/硅基光電子芯片的研究人員和工程師申請體驗免費版PIC Studio軟件。無論是研究還是商業(yè)應(yīng)用,PIC Studio都可提升您的工作效能。4 r7 j7 F/ l+ M7 h+ _3 [5 T  A
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    ! G3 }" k3 a5 R% y( [! ]歡迎轉(zhuǎn)載) B- |( y+ `0 D2 A+ V8 X
    ' \& {; a# J7 v1 A" V
    轉(zhuǎn)載請注明出處,請勿修改內(nèi)容和刪除作者信息!& i  B7 t" Y- C; O6 K
    ; i. J+ H) r( o7 Z8 k8 V! I
      |, Y9 N5 b! f7 @9 B$ ^
    & }- I8 R4 ~" d2 f
    : x6 ?$ h- M/ `1 e* d/ ], N: U5 J
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    關(guān)注我們5 {  {' T7 J  G" f9 w

    - z9 ^& `- }  V% b9 o" s

    $ Z. }2 `/ d6 I+ N
    6 [. z, q+ M; r$ m

    $ `/ s$ Y% @7 ]  F0 c & `$ V. G' h; p! H1 Y

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                            a. D1 Y: ?3 G7 Y) U5 f, Y

    ( I, {' j4 S! K/ g5 o

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