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Hot Interconnects 2024 | 互連技術(shù)能否跟上AI的步伐?系統(tǒng)級(jí)視角

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發(fā)表于 2024-9-24 08:01:00 | 只看該作者 |只看大圖 回帖獎(jiǎng)勵(lì) |倒序?yàn)g覽 |閱讀模式
引言
1 g* B  M. j: h# Y8 [隨著人工智能(AI)技術(shù)迅速發(fā)展,對(duì)更強(qiáng)大、更高效計(jì)算系統(tǒng)的需求呈指數(shù)級(jí)增長(zhǎng)。滿足這一需求的主要挑戰(zhàn)之一是確;ミB技術(shù)能夠跟上AI加速器(也稱(chēng)為XPU,極限處理單元)性能的提升步伐;ミB是使系統(tǒng)不同部分之間能夠通信的組件。本文探討了AI系統(tǒng)中互連技術(shù)的現(xiàn)狀和未來(lái)發(fā)展趨勢(shì),重點(diǎn)關(guān)注擴(kuò)展性、功耗和潛在解決方案面臨的挑戰(zhàn)[1]。* W6 n0 p6 F) l! m2 J

, E! U0 l4 a0 lXPU性能和I/O帶寬的擴(kuò)展9 N5 a1 N! k. d+ A) q+ l, l# J7 s
預(yù)計(jì)未來(lái)幾年XPU的性能將顯著提升,這主要得益于芯片架構(gòu)、工藝技術(shù)和散熱解決方案的進(jìn)步。根據(jù)作者預(yù)測(cè),到2030年,XPU性能有望比2022年提高100倍[1]。! _! u: ?* ], W/ b' ?
# D0 k+ r! w/ X* T- B( `
圖1:展示了從2022年到2028年XPU性能的預(yù)期增長(zhǎng),顯示由于芯片架構(gòu)、工藝和基板技術(shù)的進(jìn)步,性能將提高50倍。( _* c# ?8 ^" H0 X% o

( E* y1 P1 y  l! a( w這種計(jì)算能力的顯著增長(zhǎng)需要相應(yīng)提高I/O帶寬,以確保數(shù)據(jù)能在XPU和內(nèi)存之間高效傳輸。作者提供了AI互連帶寬需求的預(yù)測(cè):2 N  k! \" }) n# ]" O1 Z- T2 D4 S% V

; S" x: F& F4 l( l1 c4 }圖2:顯示了從2022年到2028年AI互連帶寬的預(yù)期增長(zhǎng),以及相應(yīng)的1600G端口數(shù)量和功耗。
3 W( I6 w3 @4 a& x4 V5 X; o- Z% K: D
  G" I/ C2 G: J3 h4 K% c1 _
互連擴(kuò)展面臨的挑戰(zhàn)
! h1 f# \% z4 a) Q在追求更高帶寬的過(guò)程中,出現(xiàn)了幾個(gè)挑戰(zhàn):
  • 功耗:帶寬增加通常會(huì)導(dǎo)致功耗增加。但即使帶寬增加,SERDES(串行器/解串器)I/O功耗仍然只占XPU總功耗的一小部分。
  • 密度:隨著XPU性能的提升,需要更高密度的互連以支持單個(gè)系統(tǒng)中不斷增加的處理器數(shù)量。
  • 成本:互連技術(shù)的擴(kuò)展通常會(huì)增加成本,特別是在向光互連等新技術(shù)過(guò)渡時(shí)。
    ) A+ z3 r/ l) c9 I8 ?8 w[/ol]; _" \/ U7 r# N1 Q
    解決方案和新興技術(shù)
    $ a3 |: F( D; L4 y" R; E1 E" P為應(yīng)對(duì)這些挑戰(zhàn),業(yè)界正在探索幾種解決方案:0 A) a4 ?& p) y8 P8 {, E
    1. 高速SERDES
    % W, `- l& ?" s8 Z- \: s8 \) [0 \高速SERDES仍然是互連最實(shí)用和通用的電氣接口。SERDES技術(shù)路線圖顯示,每通道速率將從112G發(fā)展到224G,最終達(dá)到448G。
    0 P! O1 d0 F6 d
    ' {( z% ?  W4 E0 P+ ^1 [; D圖3:列出了高速SERDES的優(yōu)勢(shì),包括通用電氣接口性質(zhì)和對(duì)各種媒體類(lèi)型的支持。; E$ [5 z- R* L! \& B7 W

    4 L8 T8 e" y7 D! N0 i2. 銅纜與光互連
    4 b& b7 S6 A5 {" n" {對(duì)于短距離,特別是在機(jī)架或機(jī)箱內(nèi),銅纜互連仍然是最具成本效益和能效的解決方案。但隨著距離增加和帶寬需求增長(zhǎng),光互連變得必要。
    8 C4 @- ~5 ]' X6 v2 h8 @
    7 F8 A4 e* w/ A+ M4 @" [圖4:討論了在機(jī)箱或機(jī)架內(nèi)使用無(wú)源銅纜互連的優(yōu)勢(shì),突出了低成本、低功耗和高可靠性。) j+ D  n/ B$ |9 l  |

    , d  f" N$ p2 [. J1 |# M; B6 A3. 線性光學(xué)
    * M5 g1 k( I* T! u4 F5 \作者強(qiáng)烈倡導(dǎo)在AI集群中采用線性光學(xué)技術(shù)以解決功耗問(wèn)題。討論了三種主要的線性光學(xué)方法:5 e  G4 j4 F) t1 S9 N% ^
  • 線性可插拔光學(xué)(LPO)
  • 封裝光學(xué)(NPO)
  • 光電共封裝(CPO)
    - l3 K% i2 B' ?& d9 E" \[/ol]
      M" d  s% ~7 ^6 w( u$ T; O. _1 r6 {0 }9 t
    ) j, ?& p! A% i6 Z
    圖5:展示了線性接口光學(xué)的演進(jìn),顯示了從線性可插拔光學(xué)(LPO)到近封裝光學(xué)(NPO)和光電共封裝(CPO)的發(fā)展過(guò)程。5 L" y8 l5 V. k, i0 O
      `. R7 I, N% J0 J3 q0 b
    在這些選項(xiàng)中,LPO被認(rèn)為是最有前途的解決方案,可以顯著節(jié)省功耗,同時(shí)避免了CPO和NPO在制造和維護(hù)方面的問(wèn)題。
    : N5 Y3 v- n. ]- `# l
    / P6 u& u+ g& |7 s  ]2 t; `4. LPO多源協(xié)議(MSA)2 l% q+ _+ M& l; N
    為加速LPO技術(shù)的采用,十二家行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)者成立了LPO多源協(xié)議,以定義線性可插拔光學(xué)的規(guī)范。: J$ L" @8 t# D1 m' N

    # o  g" v, I; b& e7 I圖6:列出了LPO多源協(xié)議的創(chuàng)始成員,包括AMD、Arista、Broadcom、Cisco、Intel和NVIDIA等行業(yè)主要參與者。
    , ?7 O6 L# N; {& k
    1 v& p% N, v- g, m# C& x5. 調(diào)制技術(shù)的進(jìn)展" p3 r$ _, G" O  M5 B" K
    隨著業(yè)界向每通道448G發(fā)展,正在討論最合適的調(diào)制技術(shù):5 \) }0 U4 m, B" P" P  Z- m
  • 銅纜互連采用448G-PAM6
  • 光互連采用448G-PAM4
    ( a" _* w8 c, O

    1 {  v* y% A9 V9 A. U每種選項(xiàng)在信號(hào)完整性和所需帶寬方面都有優(yōu)勢(shì)和挑戰(zhàn)。8 R1 f/ j3 M" d  q$ s. q

    ) M5 U9 `- w# e# d7 y6. 新興技術(shù)
    " m8 |: d9 ^+ O( p4 \$ P: Q作者提到了一些潛在的未來(lái)技術(shù),如:
  • 基于微型LED的光學(xué)技術(shù)
  • 微環(huán)諧振器, p* T. z9 [: B8 p9 d" V, h2 W# L
    [/ol]% U, D, U" o" D% `4 d5 y2 B

    7 j! [8 r2 I0 q8 H( H   @. }$ J; S2 S: b
    圖7:展示了使用4G微型LED的1600G-OSFP模塊圖,說(shuō)明了未來(lái)光互連可能實(shí)現(xiàn)的低功耗。
    . B$ [! F4 H, L; k& K# R
    % J4 i& H$ u" b, F" }2 D: Y- M% \ & ]' q: f( o. Y3 q; m2 e8 I. _
    圖8:展示了一個(gè)使用32G-NRZ微環(huán)的1600G-OSFP模塊圖,這是另一種潛在的未來(lái)光互連技術(shù)。5 A( S1 n9 D  w
    1 U8 f0 a8 }  W' U& H9 x2 |
    采用新技術(shù)面臨的挑戰(zhàn)
    4 l! I. |  w* d新的互連技術(shù)提供了潛在優(yōu)勢(shì),但在采用過(guò)程中面臨幾個(gè)障礙:
  • 上市時(shí)間壓力:XPU制造商無(wú)法承擔(dān)等待新I/O技術(shù)成熟而延遲產(chǎn)品的風(fēng)險(xiǎn)。
  • 批量生產(chǎn):新技術(shù)需要達(dá)到高容量制造(HVM)狀態(tài),才能被認(rèn)真考慮集成到XPU中。
  • 風(fēng)險(xiǎn)管理:將未經(jīng)驗(yàn)證的I/O技術(shù)集成到XPU設(shè)計(jì)中帶來(lái)顯著的財(cái)務(wù)風(fēng)險(xiǎn)。" [8 r' X% O1 o: V; H; {1 T  l& ?
    [/ol]
    1 `% F  ~- x4 t; O) I# C
    . O0 J2 C/ D' F3 w0 E
    ; l6 h& Q4 a8 Q# E. k圖9:討論了采用新I/O技術(shù)時(shí)的先有雞還是先有蛋問(wèn)題,強(qiáng)調(diào)了在沒(méi)有重大設(shè)計(jì)勝利的情況下開(kāi)發(fā)和擴(kuò)大新技術(shù)規(guī)模的挑戰(zhàn)。1 z! w/ o5 y- e$ Y  B# w
    1 s2 ]# q# T. ^6 y  x
    未來(lái)互連發(fā)展策略# u1 a! k. s1 t3 |: q
    為應(yīng)對(duì)這些挑戰(zhàn),提出了幾種策略:
  • 風(fēng)險(xiǎn)分離:使用可插拔光學(xué)模塊,將XPU和新互連技術(shù)的開(kāi)發(fā)時(shí)間表分開(kāi)。
  • 專(zhuān)注于高速SERDES:繼續(xù)改進(jìn)SERDES技術(shù),作為支持銅纜和光互連的低風(fēng)險(xiǎn)選項(xiàng)。
  • 漸進(jìn)式采用:通過(guò)可插拔模塊逐步引入新技術(shù),便于升級(jí)和降低風(fēng)險(xiǎn)。4 N/ R3 p0 @. ~) g0 y* L5 a$ w
    [/ol]
    % ~8 M! u* S7 O9 J1 o$ N8 F; o- M4 p  H3 s9 Q8 b3 G2 d, z+ u7 ?
    0 `' g- L9 ]8 j% S3 Q  V
    圖10:強(qiáng)調(diào)了XPU上市時(shí)間的重要性,以及等待新I/O技術(shù)帶來(lái)的風(fēng)險(xiǎn)。
    * O) S2 q1 @& V" V' s% C( U* i. J$ w, Y: Y7 r+ {. T
    結(jié)論
    , A& M% f" D& ~6 |: nAI系統(tǒng)中互連技術(shù)的未來(lái)既充滿機(jī)遇,也面臨重大挑戰(zhàn)。隨著XPU性能的快速提升,業(yè)界必須找到提高互連帶寬和效率的方法,同時(shí)管理功耗、成本和可制造性等問(wèn)題。
    1 n7 \) p2 r$ d( I) ]! y  p. L2 p1 E
    8 y, D4 P2 ^1 z# c/ b線性光學(xué)技術(shù),特別是線性可插拔光學(xué)(LPO),成為解決許多這些挑戰(zhàn)的有希望的解決方案。然而,前進(jìn)的道路需要在技術(shù)創(chuàng)新與上市時(shí)間壓力和風(fēng)險(xiǎn)管理等實(shí)際考慮因素之間謹(jǐn)慎平衡。/ B9 |  ~7 u3 x" m- P6 A3 L0 A

    7 Y# X" B, T: G& T: \, U, i隨著向每通道224G和448G的互連發(fā)展,像LPO多源協(xié)議這樣的行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)者之間的持續(xù)合作將在定義標(biāo)準(zhǔn)和推動(dòng)新技術(shù)采用方面發(fā)揮關(guān)鍵作用。. R* \$ \4 Y8 l
    # ^' W/ Y4 j& y* ?5 m7 I' i

    . G/ ?. u3 u. A參考文獻(xiàn)
    ! c5 `& F# e% K- l! [7 F[1] Bechtolsheim, "Can Interconnects Keep up with AI? A System-Level Perspective," Presented at Hot Interconnects 2024, 2024.
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    % D* |) T, G8 I1 S8 _- END -% F: X0 `/ B, P' @

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    * E9 C( J0 w% d, K2 B, f0 x8 ]轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處,請(qǐng)勿修改內(nèi)容和刪除作者信息!
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