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MIT | 異構(gòu)Chiplet集成構(gòu)建下一代計(jì)算的"超級芯片"

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發(fā)表于 2024-9-24 08:01:00 | 只看該作者 |只看大圖 回帖獎勵 |倒序?yàn)g覽 |閱讀模式
引言0 v% P' }5 q5 t& C" d1 M: ]; A7 d
數(shù)字計(jì)算、移動性和連接性需求的不斷增長正推動微電子行業(yè)向高度集成、微型化、高性能和低功耗的技術(shù)方向發(fā)展。隨著傳統(tǒng)摩爾定律縮放面臨挑戰(zhàn),業(yè)界正轉(zhuǎn)向替代性的先進(jìn)封裝架構(gòu)和異構(gòu)集成技術(shù)。有前景的方法是創(chuàng)建極大面積集成電路(ELAICs),也稱為"超級芯片",將多個(gè)Chiplet組合到單個(gè)封裝中,共享一個(gè)互連平臺[1]。
3 [* p# x7 u5 o% q  T$ j
$ \8 _. e' w* [' V
) \* `/ \- A6 \" C6 j% B2 J, ^超級芯片概念
# t4 L0 e8 n# p4 a5 T超級芯片方法有助于重新構(gòu)建異構(gòu)芯片拼接,開發(fā)具有所需電路密度和性能的高度復(fù)雜系統(tǒng)。這種方法允許集成多個(gè)處理器和加速器芯片,實(shí)現(xiàn)最小的芯片間距離、片上存儲、更高帶寬連接和改進(jìn)的熱管理。
; ~- g7 Y- t% k 7 Y. P: c6 Z- W( x3 m0 c6 ?
圖1:說明了超級芯片概念,比較了常規(guī)封裝(左側(cè),單個(gè)芯片附著在基板上)和超級芯片(右側(cè),所有芯片組合在單一平面上,每個(gè)芯片至少有兩個(gè)最近鄰芯片用于互連)。
$ M9 f. @4 q4 b1 l, l& e
. Q5 g8 ~& ^. }: U& h# Z超級芯片方法的主要優(yōu)勢包括:
  • 將已知良好的芯片組合,創(chuàng)建表現(xiàn)如同極大單一異構(gòu)芯片的系統(tǒng)
  • 提供激進(jìn)的互連間距縮放,實(shí)現(xiàn)真正的工藝節(jié)點(diǎn)互換性
  • 實(shí)現(xiàn)類似芯片的電路內(nèi)容,具有良好的芯片間平面度
  • 提供內(nèi)置散熱器,實(shí)現(xiàn)更好的熱解決方案
  • 支持混合材料構(gòu)造,具有高硅密度
  • 允許有源對有源鍵合,實(shí)現(xiàn)Chiplet的混搭
  • 通過熱效率高的硅布局處理更高的功率密度5 I) a, }; ~3 M: P; S9 B
    [/ol]& ?2 O3 Y" n, u  N2 D
    ELAIC制造工藝/ M5 E( n& k8 j1 s* Q1 B
    ELAIC制造工藝涉及幾個(gè)關(guān)鍵步驟:
  • 在處理晶圓上組裝已知良好的裸片
  • 沉積介電層
  • 形成重分布層(RDLs)
  • 通孔蝕刻和金屬沉積
  • 微凸點(diǎn)制造,用于倒裝芯片連接$ @8 T. U+ s! j# J: m, H
    [/ol]
    ; W6 u! J& x1 |# c7 b" d1 \
    / C# W0 ]- }* M+ m3 j 5 B; U) k+ [) ^1 R
    圖2:展示了ELAIC構(gòu)建的工藝流程,包括裸片放置、介電層沉積、RDL形成和微凸點(diǎn)制造。3 x& W2 p" f' g6 p& P
      U: |  O% j: K. ?" k
    ELAIC工藝的主要目標(biāo)是實(shí)現(xiàn)芯片之間的窄間隙(5-20μm),使芯片間互連長度短(50-500μm)。這種方法允許更多的物理線路用于I/O連接,從而實(shí)現(xiàn)低延遲、低功耗和高帶寬的芯片間通信。0 m; @' N2 z1 |# s! l
      O0 |$ d: M0 w: Z: U
    ELAIC物理特性表征+ z3 p4 }: |+ W- X: T2 c
    使用多種無損分析技術(shù)來表征ELAIC器件,包括掃描電子顯微鏡(SEM)、共焦顯微鏡、X射線成像和光學(xué)顯微鏡。這些技術(shù)有助于評估關(guān)鍵制造步驟,如芯片間距離、芯片間平面度、介電層沉積、通孔形成、特征尺寸和微凸點(diǎn)制造。& y" n7 j5 H& k9 J8 k$ T

    ) w, A* k* s! L圖3:顯示了16芯片ELAIC assembly的SEM圖像,展示了填充有介電材料的窄5-20μm芯片間距離。! {' F- s' F" X
    3 ^9 r; @+ Q1 G" |/ b' v
    8 w/ t/ f7 t* X; {
    圖4:呈現(xiàn)了4芯片ELAIC assembly的共焦顯微鏡數(shù)據(jù),展示了制造工藝實(shí)現(xiàn)的芯片間平面度。
    8 J5 K7 b  \+ f2 Q0 M, k9 a2 V3 g* }: q/ m  }( u0 T5 l! g) i
    電氣互連演示
    $ j; s8 a( X8 Y# [為了展示ELAIC方法的電氣互連能力,在多芯片assembly上制造了無源和有源線路。
    - Z) i* |  l% x' X
    % _& f4 J6 y& b2 t/ r' j無源線路" z1 ^9 k0 r% r* v9 v7 p
    在16芯片ELAIC assembly上使用單層和雙層金屬實(shí)現(xiàn)無源電氣互連。這些互連具有1-10μm寬和5-20mm長的線路跡線,連接多個(gè)芯片。5 p9 j  u7 H$ Q$ M! s* A: ~2 h

    : q1 p8 W( j: w, k圖5:展示了16芯片ELAIC assembly上各種無源線路演示,包括單金屬層RDL、雙金屬層RDL和菊花鏈線路。' W  e/ }' t# b
    - E/ s5 V  m5 z

    / u  x, u6 r) {3 B圖6:說明了16芯片assembly上的無源互連線路演示,顯示了連接芯片的線路的光學(xué)和SEM圖像,以及測量的室溫電阻數(shù)據(jù)。: B, v$ l( ?8 \1 c. U) q
    8 {% F6 T) B* k) J7 s  y
    有源線路
    " _9 ?! O1 q" N8 T2 v# U+ `) u$ x為了評估ELAIC結(jié)構(gòu)對有源元件的適用性,將含有三層約瑟夫森結(jié)(JJs)的超導(dǎo)芯片集成到該平臺中。制造并在4.2K下測試了多個(gè)4芯片ELAIC器件,以測量JJs的I-V特性。% X9 h; E. `+ {
    . ~) W. V9 K% z7 Y
    圖7:顯示了三個(gè)10mm x 10mm ELAIC樣品連接到電路卡進(jìn)行低溫測試,以及通過Nb和金線連接芯片間JJ串聯(lián)陣列的I-V特性。
    ' ~* k! ^; _0 g6 F( T
    1 R+ j4 O: }. k9 f與單芯片解決方案的比較
    ' u0 [( Z& p( w& q, DELAIC方法相比傳統(tǒng)單芯片解決方案具有幾個(gè)優(yōu)勢:1 M$ \1 L! g+ Y2 ^
    大面積線路的更高良率和成本效益/ v& N2 a# S7 t4 ?
    能夠混搭不同技術(shù)節(jié)點(diǎn)和功能6 C2 k, g' |1 Q  Q/ P
    由于內(nèi)置散熱器效應(yīng),改善了熱管理
    3 t' B4 l  L/ }7 R系統(tǒng)設(shè)計(jì)和優(yōu)化的靈活性更大' R" f* {, m" v
    [/ol]! O/ A+ Q' P3 n7 z  [$ T! P& H1 i
    % f4 P2 O; e2 H) y3 z

    % l% B5 Y. ]& c  P8 r' @  _圖8:比較了單個(gè)20mm x 20mm芯片與等效的ELAIC assembly(由16個(gè)5mm x 5mm Chiplet重新組合而成),顯示了兩種配置的光學(xué)和X射線圖像。1 y- D6 }6 Y- X$ M# s: O% a
    3 U! F' k8 Z5 V- m5 `
    倒裝芯片ELAIC
    ! a+ Z, Z1 h/ O3 ~ELAIC概念可以擴(kuò)展到倒裝芯片鍵合,提供額外優(yōu)勢:
  • 各種成像應(yīng)用的低成本多芯片讀出IC assembly
  • 引入倒裝芯片無硅有源/無源橋接,用于芯片間連接
  • 熱優(yōu)化的硅布局
  • 良率和節(jié)點(diǎn)優(yōu)化帶來的成本效益5 h2 Q0 o+ H6 Q* E) r
    [/ol]
    % k* J# m1 C% Y& F+ O/ k  ?1 p: |
    9 o7 Z" |8 t; |- t/ _ 9 B% s# J6 W% i+ Z4 `) E
    圖9:演示了倒裝芯片ELAIC概念,顯示了20mm x 20mm 16芯片ELAIC、倒裝芯片鍵合版本,以及從倒裝芯片裸片刻蝕掉硅的無硅倒裝芯片ELAIC。1 h! Z4 X0 M# a5 O& R" }- F4 d0 a( d

      g1 u2 s% }0 y$ w! O- _  j
    + C6 k% F9 v+ O: o  [) F  f6 m  U& S7 Y圖10:展示了由十六個(gè)20mm x 20mm芯片組成的80mm x 80mm超級芯片,以及倒裝芯片鍵合版本和說明通過倒裝芯片裸片進(jìn)行芯片間連接選項(xiàng)的示意圖。7 m2 b0 n! E# t& u! ~

    6 Z9 u7 y# t' H1 Z% @. x) Q4 d" U* B應(yīng)用和未來展望7 I7 N8 ~2 S" J& @  S( O- \& w$ r
    ELAIC方法適用于多種應(yīng)用,包括:
  • 用于人工智能和深度學(xué)習(xí)的高性能計(jì)算(HPC)系統(tǒng)
  • 超導(dǎo)經(jīng)典和量子計(jì)算
  • 大格式數(shù)字像素焦平面陣列
  • 光電子集成芯片拼接
  • 毫米波相控陣?yán)走_(dá)陣列4 t7 U; ?! w9 D9 X; Y( d9 G+ Y
    [/ol]
    # y5 j2 y$ W2 h5 E" T2 h( f隨著對更復(fù)雜和強(qiáng)大計(jì)算系統(tǒng)需求的持續(xù)增長,超級芯片概念為克服傳統(tǒng)單芯片設(shè)計(jì)的限制提供了有希望的解決方案。通過實(shí)現(xiàn)具有高密度互連和改進(jìn)熱管理的異構(gòu)Chiplet集成,ELAICs為下一代計(jì)算架構(gòu)鋪設(shè)了基礎(chǔ),可以滿足人工智能、量子計(jì)算等新興應(yīng)用的挑戰(zhàn)。) S8 h: m* S/ L. x
    " Q; d2 }' d. b
    ELAIC技術(shù)的持續(xù)發(fā)展可能會集中在進(jìn)一步減小芯片間距離、提高互連密度和優(yōu)化熱管理策略上。隨著這種方法的成熟,有潛力徹底改變復(fù)雜電子系統(tǒng)的設(shè)計(jì)和制造,為未來的計(jì)算平臺提供高水平的集成和性能。
    5 l: Y& D! s5 e4 N6 l( W8 ?( r( j* D
    參考文獻(xiàn)
    ; _4 m" i# o; i[1] R. N. Das et al., "Heterogeneous chiplet integration to make megachips," in Chip Scale Review, vol. 28, no. 1, pp. 11-19, Jan.-Feb. 2024.$ r1 V- }2 l5 l
    " _) x, g3 ^# t
    - END -
    / E9 J" Y- x- |" y5 d' o9 v# g" j0 G% O4 S3 F; s' c5 a* H
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    轉(zhuǎn)載請注明出處,請勿修改內(nèi)容和刪除作者信息!+ s' U! c* w  T

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