期待再聚 | PIC Studio在Tower Semiconductor上海2024全球技術(shù)研討會之旅圓滿收官

逍遙設(shè)計自動化

01行業(yè)盛會
3 i, S& i- `, j9 l$ A+ q+ Q6 v! d上海，2024年9月25日 —— 在萬眾矚目的Tower Semiconductor 2024年全球技術(shù)研討會（TGS）盛會上，PIC Studio的最新版本憑借其全面的功能，成功吸引了全球業(yè)界精英的廣泛關(guān)注。此次大會以“賦能未來：模擬技術(shù)創(chuàng)新塑造世界”為主題，不僅深度探討了人工智能、大模型發(fā)展對半導(dǎo)體先進(jìn)技術(shù)的導(dǎo)向趨勢，還集中展示了Tower Semiconductor在模擬及硅基光電子領(lǐng)域的非凡成就。
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+ A8 ^' @- q* A( T) G8 V1 g圖1：展區(qū)

2 N% |$ S4 V, l/ r在大會的展區(qū)，最新版本的PIC Studio受到了廣泛關(guān)注。這款作為硅基光電子集成電路（PIC）設(shè)計領(lǐng)域的重要工具，憑借其全流程、高度集成及開放第三方接口的特點，受到了全球精英的期待與關(guān)注。

02展會交流
PIC Studio最新版本在保留原有強(qiáng)大功能的基礎(chǔ)上，進(jìn)一步支持基于Tower的PH18硅基光電子工藝PDK，為硅基光電子設(shè)計師們提供了前所未有的便捷與支持。
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- a7 |' ]/ _2 t; w9 h9 U8 Y圖2：Mr.Naoki Okada(Co-Director of PDK, WW Customer Design Enablement Services)現(xiàn)場交流
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4 o" B/ g6 \- z4 e$ x0 L圖3：Dr.Marco Racanelli(President)現(xiàn)場交流
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0 B* `& ?: P* S& P' [圖4：現(xiàn)場觀眾交流
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具體來說，新版本PIC Studio全面集成了多個核心組件，每一個都經(jīng)過精心設(shè)計與優(yōu)化，以滿足不同設(shè)計需求。
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/ f8 \& @# `& Z% m( k: K: c- U1 x圖5：PIC Studio全鏈路流程圖
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PhotoCAD作為高效的版圖設(shè)計工具，不僅支持組件布局、光程匹配與自動繞線等高級功能，還內(nèi)置了設(shè)計規(guī)則檢查（DRC）模塊，確保設(shè)計成果從一開始就符合嚴(yán)格的工藝要求。

而pSim與pSim Plus則分別承擔(dān)了原理圖與鏈路仿真、系統(tǒng)級仿真的重任，前者側(cè)重于快速驗證設(shè)計原理，后者則支持復(fù)雜的光電融合仿真，包括非線性光纖、DSP處理、TDECQ分析等高級功能，助力設(shè)計師從多維度、多層面理解并優(yōu)化設(shè)計方案。

0 H$ P6 p. G: ?: {尤為值得一提的是，PIC Studio還引入了Advanced SDL技術(shù)，實現(xiàn)了原理圖驅(qū)動版圖生成（SDL）與版圖生成原理圖（LDS）的雙向轉(zhuǎn)換。這一創(chuàng)新功能不僅大幅提高了設(shè)計效率，還確保了版圖與原理圖之間的一致性，為后續(xù)的設(shè)計驗證與生產(chǎn)制造奠定了堅實基礎(chǔ)。

此外，pMaxwell電磁仿真工具與pVerify設(shè)計規(guī)則檢查工具的加入，更是為設(shè)計的準(zhǔn)確性與合規(guī)性提供了雙重保障。
03尾聲
0 K3 _1 @* _( P; W  h借用TGS大會演講者M(jìn)r.Russell Ellwanger（CEO）的一句話："Good news is no news, no news is bad news, bad news is good news."無論您對我們的技術(shù)解決方案是批評還是贊揚(yáng)的聲音，我們誠摯歡迎您與我們的人員進(jìn)行交流，深入了解我司在硅基光電子工藝設(shè)計與仿真技術(shù)布局及產(chǎn)品應(yīng)用方面的創(chuàng)新成果，我們期待與您再次相聚！
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