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01行業(yè)盛會$ `6 T7 g$ y' V7 G( j7 _4 B% V9 i; |
上海,2024年9月25日 —— 在萬眾矚目的Tower Semiconductor 2024年全球技術(shù)研討會(TGS)盛會上,PIC Studio的最新版本憑借其全面的功能,成功吸引了全球業(yè)界精英的廣泛關(guān)注。此次大會以“賦能未來:模擬技術(shù)創(chuàng)新塑造世界”為主題,不僅深度探討了人工智能、大模型發(fā)展對半導(dǎo)體先進(jìn)技術(shù)的導(dǎo)向趨勢,還集中展示了Tower Semiconductor在模擬及硅基光電子領(lǐng)域的非凡成就。
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& |, Q8 t" D! ^& A圖1:展區(qū)2 ]9 z6 }" ?3 n) {, o" ?' _
! ^; u5 l+ k* w3 P# E) ^: U2 N% a在大會的展區(qū),最新版本的PIC Studio受到了廣泛關(guān)注。這款作為硅基光電子集成電路(PIC)設(shè)計領(lǐng)域的重要工具,憑借其全流程、高度集成及開放第三方接口的特點,受到了全球精英的期待與關(guān)注。
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PIC Studio最新版本在保留原有強(qiáng)大功能的基礎(chǔ)上,進(jìn)一步支持基于Tower的PH18硅基光電子工藝PDK,為硅基光電子設(shè)計師們提供了前所未有的便捷與支持。0 Q( a8 \5 g1 e/ L% i* z j3 r
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3 n" u1 f+ K- C圖2:Mr.Naoki Okada(Co-Director of PDK, WW Customer Design Enablement Services)現(xiàn)場交流0 |& K7 ^+ ]7 n: S
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2 N' p/ x2 o- n圖3:Dr.Marco Racanelli(President)現(xiàn)場交流
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圖4:現(xiàn)場觀眾交流
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具體來說,新版本PIC Studio全面集成了多個核心組件,每一個都經(jīng)過精心設(shè)計與優(yōu)化,以滿足不同設(shè)計需求。
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) b0 @+ [& L4 p+ @9 ]圖5:PIC Studio全鏈路流程圖
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PhotoCAD作為高效的版圖設(shè)計工具,不僅支持組件布局、光程匹配與自動繞線等高級功能,還內(nèi)置了設(shè)計規(guī)則檢查(DRC)模塊,確保設(shè)計成果從一開始就符合嚴(yán)格的工藝要求。( Q9 l% y4 H0 E/ Q l! D; a
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而pSim與pSim Plus則分別承擔(dān)了原理圖與鏈路仿真、系統(tǒng)級仿真的重任,前者側(cè)重于快速驗證設(shè)計原理,后者則支持復(fù)雜的光電融合仿真,包括非線性光纖、DSP處理、TDECQ分析等高級功能,助力設(shè)計師從多維度、多層面理解并優(yōu)化設(shè)計方案。
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$ k: ]3 p P; I3 T5 \尤為值得一提的是,PIC Studio還引入了Advanced SDL技術(shù),實現(xiàn)了原理圖驅(qū)動版圖生成(SDL)與版圖生成原理圖(LDS)的雙向轉(zhuǎn)換。這一創(chuàng)新功能不僅大幅提高了設(shè)計效率,還確保了版圖與原理圖之間的一致性,為后續(xù)的設(shè)計驗證與生產(chǎn)制造奠定了堅實基礎(chǔ)。5 N) U; @/ C% e6 b( ?
1 x1 s3 g* U2 K此外,pMaxwell電磁仿真工具與pVerify設(shè)計規(guī)則檢查工具的加入,更是為設(shè)計的準(zhǔn)確性與合規(guī)性提供了雙重保障。7 r( Y$ W7 I; U. G
03尾聲
/ l3 k7 D+ t# H" {$ a: A6 ~借用TGS大會演講者M(jìn)r.Russell Ellwanger(CEO)的一句話:"Good news is no news, no news is bad news, bad news is good news."無論您對我們的技術(shù)解決方案是批評還是贊揚的聲音,我們誠摯歡迎您與我們的人員進(jìn)行交流,深入了解我司在硅基光電子工藝設(shè)計與仿真技術(shù)布局及產(chǎn)品應(yīng)用方面的創(chuàng)新成果,我們期待與您再次相聚!- L" S6 r) J6 J( E6 f
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