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引言; b' C4 f! k. V' r" B
微環(huán)光學(xué)諧振腔是現(xiàn)代光電子技術(shù)的基礎(chǔ)構(gòu)件,在光量子信息處理到光通信等多個領(lǐng)域具有廣泛應(yīng)用。然而,這些器件面臨一個顯著挑戰(zhàn):表面缺陷導(dǎo)致的背向散射會嚴(yán)重降低性能。本文探討了利用特異點(EPs)消除背向散射并提升器件功能的創(chuàng)新方案[1]。' H- [8 H. n: R1 m! [7 V
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( K" o# `. m( L' q0 s7 L2 {
圖1:系統(tǒng)全面概述,包括結(jié)構(gòu)設(shè)計和工作原理,展示了系統(tǒng)構(gòu)架、模式耦合行為、頻率特性以及不同工作點的場分布。* Z0 n7 J8 m0 Q% E; C
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背向散射的挑戰(zhàn)
: D7 ^2 Q3 R8 G- P在微環(huán)諧振腔中,表面缺陷不可避免地導(dǎo)致順時針(CW)和逆時針(CCW)傳播模式之間的耦合。這種非預(yù)期耦合帶來多個問題:
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7 Q1 M" o9 ~" z' l. E9 E在低轉(zhuǎn)速工作的激光陀螺儀中,背向散射會引起不需要的注入鎖定,降低靈敏度。對于依賴非線性放大或反向傳播場干涉的器件,背向散射會降低效率并引入有害反射,影響功能實現(xiàn)。
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6 X4 q1 ^! K9 O; U特異點解決方案 f) \) e( B7 C5 Z; A$ ^
這里提出的創(chuàng)新方法在特異點處運(yùn)行諧振腔 - 特異點是本征值和本征矢量合并的獨特譜奇點。讓我們來分析工作原理:0 q6 e# f- X4 S9 F
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: `( M8 m5 Y6 F9 V8 a圖2:手性參數(shù)χ隨耦合強(qiáng)度γb和相位差Δφ的變化,展示了當(dāng)|γb| = |κ|且相位差為π時手性達(dá)到峰值。
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) }8 J; h2 T. I1 ^8 X& W系統(tǒng)通過簡并CW和CCW模式之間的非保守耦合實現(xiàn)手性傳輸。與需要精確增益損耗平衡或復(fù)雜結(jié)構(gòu)的傳統(tǒng)方法不同,該方法利用:
' b P* ]7 K5 _+ a8 G微環(huán)諧振腔內(nèi)的內(nèi)部反射1 S3 u( d2 @9 r) W. d
通過Sagnac反射器實現(xiàn)的外部反射* `: s4 t. r- p
利用EP特性的精心設(shè)計調(diào)制方案
. P" o8 d2 v# X `+ n
) ]! Y7 D& y+ n- o2 e$ ^+ m弗洛凱模式轉(zhuǎn)換增強(qiáng)1 g( J/ r2 @4 d3 W
讓我們來說明弗洛凱模式耦合:
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% f/ a! i _( F A3 X' [+ U圖3:弗洛凱模式耦合機(jī)制的可視化,顯示了不同工作條件下的模式相互作用及行為。6 v) e; J+ Y& O/ t& w1 I3 g- {
$ y* j2 D4 i& A: N {
在EP工作點,系統(tǒng)展現(xiàn)出增強(qiáng)的弗洛凱模式轉(zhuǎn)換。該過程包括時間調(diào)制通過施加微波驅(qū)動信號實現(xiàn),改變共振頻率遵循ω0(t) = δωm cos(Ωt)。同樣,損耗調(diào)制為γl(t) = δγl cos(Ωt + θ)。這種調(diào)制方案可以通過相位調(diào)制器和振幅調(diào)制器的組合來實際實現(xiàn)。 |" \, r. y" u$ M" _
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實施考慮
! A* s5 E- N: z/ J9 V讓我們來展示實際實施方面:
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圖4:系統(tǒng)對相位變化的靈敏度分析,展示了轉(zhuǎn)換效率與相位參數(shù)之間的關(guān)系。8 T* v: y/ V% v" W
$ N/ I) w6 j* u7 p7 L1 D實際實施需要仔細(xì)考慮多個因素:- S) \( J; U+ D. {0 U6 g% j3 W3 @; k8 @
該系統(tǒng)使用標(biāo)準(zhǔn)電光調(diào)制器,與現(xiàn)有集成光電子技術(shù)平臺兼容。相位調(diào)制可以通過優(yōu)化波導(dǎo)材料的摻雜分布實現(xiàn),而振幅調(diào)制通過III-V材料的異質(zhì)集成實現(xiàn)。即使在理想條件有小偏差的情況下,該方法仍能提供穩(wěn)定性能?梢圆捎孟冗M(jìn)制造技術(shù)和主動調(diào)節(jié)方法,如熱光或電光相移器,來實現(xiàn)制造后系統(tǒng)參數(shù)的精細(xì)調(diào)節(jié)。, [! f0 ?# a$ n' f$ `( @
: Q" }$ ?- Q9 y! L
結(jié)論
: o0 T# T( f$ L0 j m2 T這種抑制微環(huán)諧振腔中背向散射的創(chuàng)新方法代表了集成光電子技術(shù)的重要進(jìn)展。通過在特異點工作并利用非保守耦合,該系統(tǒng)實現(xiàn)了有效的背向散射抑制,同時增強(qiáng)了弗洛凱模式轉(zhuǎn)換。
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該方法與現(xiàn)有光電子技術(shù)平臺的兼容性以及對制造缺陷的容忍度使其特別適合實際應(yīng)用。隨著集成光電子技術(shù)持續(xù)發(fā)展,這種技術(shù)為改善光量子通信、信息處理和其他高級應(yīng)用中的器件性能提供了新方案。# `3 n' W( T/ [7 N; S
' ~5 m2 Y, n* G4 v5 ?8 y# F2 X# ?參考文獻(xiàn)
6 \+ \5 b. @- w/ m# Z$ ~2 ~& l[1] Pandey and A. Krasnok, "Backscattering-Immune Floquet Conversion in Ring Modulators," arXiv:2411.05336v1 [physics.optics], Nov. 8, 2024. s+ g! z9 Q+ U F* `, }
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$ g5 O& o: l/ F a/ Q8 Z" K軟件申請我們歡迎化合物/硅基光電子芯片的研究人員和工程師申請體驗免費版PIC Studio軟件。無論是研究還是商業(yè)應(yīng)用,PIC Studio都可提升您的工作效能。5 b% m8 [2 i) P; j3 _" p D4 w
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4 S: p, s! h6 A+ y' e5 k關(guān)于我們:
8 W, \5 ?9 T6 D4 h深圳逍遙科技有限公司(Latitude Design Automation Inc.)是一家專注于半導(dǎo)體芯片設(shè)計自動化(EDA)的高科技軟件公司。我們自主開發(fā)特色工藝芯片設(shè)計和仿真軟件,提供成熟的設(shè)計解決方案如PIC Studio、MEMS Studio和Meta Studio,分別針對光電芯片、微機(jī)電系統(tǒng)、超透鏡的設(shè)計與仿真。我們提供特色工藝的半導(dǎo)體芯片集成電路版圖、IP和PDK工程服務(wù),廣泛服務(wù)于光通訊、光計算、光量子通信和微納光子器件領(lǐng)域的頭部客戶。逍遙科技與國內(nèi)外晶圓代工廠及硅光/MEMS中試線合作,推動特色工藝半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展,致力于為客戶提供前沿技術(shù)與服務(wù)。
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