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光電子集成芯片的設(shè)計(jì)規(guī)則檢查

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設(shè)計(jì)規(guī)則檢查（DRC）簡(jiǎn)介! Y# X. l* v1 d7 m1 q. a* v: [
設(shè)計(jì)規(guī)則檢查是集成線(xiàn)路設(shè)計(jì)中的關(guān)鍵驗(yàn)證步驟，通過(guò)驗(yàn)證物理版圖是否符合預(yù)定義的設(shè)計(jì)規(guī)則來(lái)確保制造可行性。在光電子集成芯片中，由于光波導(dǎo)和器件的特殊要求，設(shè)計(jì)規(guī)則檢查變得更加重要。PIC Studio當(dāng)中的pVerify DRC工具提供全面的設(shè)計(jì)規(guī)則檢查功能，使設(shè)計(jì)人員能夠高效地驗(yàn)證版圖。
2 H8 M! Y" ]3 ~6 i) e' o& m3 H7 F" J" E8 r2 a5 t) p3 U
基本設(shè)計(jì)規(guī)則檢查
# N* H9 ]& e, KPIC Studio實(shí)現(xiàn)了構(gòu)成版圖驗(yàn)證基礎(chǔ)的設(shè)計(jì)規(guī)則檢查，確保各個(gè)幾何元素滿(mǎn)足制造約束。該平臺(tái)提供多種基本檢查機(jī)制。7 s9 I( e6 z/ q& c+ m! c6 q

+ r; z  x) ^1 |6 _圖1：基本設(shè)計(jì)規(guī)則檢查的圖示，包括最小寬度和精確寬度要求，展示了尺寸超出指定參數(shù)時(shí)如何識(shí)別違規(guī)情況。! f% V' J  e4 x" S* T5 M3 G

0 V  J2 s; b0 j7 l) \最小寬度檢查確保沒(méi)有特征比工藝定義的最小尺寸更窄。這對(duì)波導(dǎo)尤為重要，因?yàn)閷挾茸兓瘯?huì)顯著影響光學(xué)性能。精確寬度檢查驗(yàn)證特定特征是否保持精確尺寸，這對(duì)定向耦合器等器件極為重要，因?yàn)轳詈媳纫蕾?lài)于精確的幾何參數(shù)。! L/ a9 }; A, i+ D. }) k

4 j3 M( }% \' p; M7 L7 T圖2：設(shè)計(jì)規(guī)則檢查驗(yàn)證中的間距和面積檢查演示，展示了如何驗(yàn)證特征之間的最小間距和最小面積要求。
0 n. e, U9 e7 d/ L! o, K6 G7 x* V+ Y8 G
間距檢查驗(yàn)證相鄰特征之間是否存在足夠的分隔，以防止制造問(wèn)題和不需要的耦合效應(yīng)。面積檢查確保特征足夠大，可以可靠制造，這對(duì)接觸焊盤(pán)和其他金屬結(jié)構(gòu)特別重要。" N5 @2 I% f( K3 B) \

* D4 ~) `' C4 d5 ^- ]層生成方法+ J0 g( g+ \+ D
PIC Studio提供了支持復(fù)雜設(shè)計(jì)規(guī)則檢查操作的復(fù)雜層生成功能。1 _6 x3 A) E: O6 d

& [# Q( b! h7 y! w, ]/ t圖3：用于設(shè)計(jì)規(guī)則檢查驗(yàn)證的各種布爾運(yùn)算（或、與、異或、A-B、B-A）的圖示。
: e7 L- [- D4 h1 [5 q, C' }
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圖4：用于修改幾何特征的正向和負(fù)向尺寸操作演示。- m: p- Z6 B( O- h. U) W, Q$ v, U

. x5 g" w; Y; k7 w) ?% Y: p, t擴(kuò)展幾何檢查3 z. J7 E4 L  _- i
除基本檢查外，PIC Studio還實(shí)現(xiàn)了復(fù)雜光子結(jié)構(gòu)所需的高級(jí)幾何驗(yàn)證功能。  w% y! a0 |$ x6 Q' f" P3 r

; [3 i# M3 j7 s* J% C4 \' j: p4 D0 c圖5：擴(kuò)展幾何檢查的示例，包括不同層之間的包圍和分隔要求。2 G. o8 ?& }* C. p# _8 f4 t
; S0 {% @2 c* j0 D$ |
6 o2 G6 ~: ^8 j

  ?  x3 {0 s' E圖6：各種幾何關(guān)系檢查的演示，包括不同層之間的內(nèi)部、外部、不相交和重疊條件。
9 x. I* C& j' W: @5 s( T  Z
0 p. ~# v; d+ T銳角和密度檢查
) {6 p* ?  X" f1 }PIC Studio為制造關(guān)鍵特征提供專(zhuān)門(mén)的檢查，銳角可由用戶(hù)自行決定是否執(zhí)行自動(dòng)修復(fù)，或是用戶(hù)自行手動(dòng)修復(fù)。
, L# U4 v, \  M+ {8 R
3 r! w/ X) J, ]$ N/ T圖7：銳角檢測(cè)和修正方法的圖示，展示了如何識(shí)別和修補(bǔ)關(guān)鍵角度。* ?8 [0 s/ k! S: k3 G( _" V4 H) \

" _" l) }- U. G" V$ G. N8 ]8 A* a
" W+ H1 G9 N6 P3 u圖8：密度檢查演示，展示了如何根據(jù)指定限制驗(yàn)證局部圖形密度。
: F$ L+ L7 \1 q1 J; J" }( @
  f7 m' F/ o& g& o與設(shè)計(jì)流程的集成
3 c- _( }; ^" Q2 T' G) }$ dPIC Studio的設(shè)計(jì)規(guī)則檢查功能完全集成到設(shè)計(jì)流程中，支持各種輸入點(diǎn)和驗(yàn)證方法。
& L: r8 q0 A5 n  J; P# p" H: w 1 {' p1 ^) ~' V
圖9：全面的圖表，展示了設(shè)計(jì)規(guī)則檢查驗(yàn)證如何與不同設(shè)計(jì)流程集成，包括原理圖驅(qū)動(dòng)、版圖驅(qū)動(dòng)和GDS驅(qū)動(dòng)方法。6 B0 Z0 t2 t5 J) ^

) I+ U3 \$ \* b, d' }! b6 ?1 [pVerify設(shè)計(jì)規(guī)則檢查解決方案的優(yōu)勢(shì)+ Q* s0 X# q$ g6 b$ S
5 G6 x& B) R, Z4 Q$ v' U7 g
圖10：pVerify作為設(shè)計(jì)規(guī)則檢查解決方案的主要優(yōu)勢(shì)概述，突出其效率和成本效益。
8 e+ E4 a; Q/ A" g/ ~  r3 a+ I
- p5 k$ j3 u8 r! K8 ^6 mPIC Studio的pVerify提供多個(gè)主要優(yōu)勢(shì)：0 z6 C" E) V2 c/ k
全面的設(shè)計(jì)規(guī)則檢查套件確保設(shè)計(jì)準(zhǔn)確性
" i: u# Z. G* g- D9 e& a9 M6 }包括布爾運(yùn)算和密度檢查在內(nèi)的高級(jí)功能0 L3 |( C% V+ k1 P5 ?6 x+ n
早期階段的設(shè)計(jì)規(guī)則檢查驗(yàn)證實(shí)現(xiàn)快速問(wèn)題解決
% h  ]; V# i8 b" Q# R. D與基于Windows的設(shè)計(jì)流程無(wú)縫集成
+ K* p0 |+ E1 w) m/ }/ x! k* Y! X. g所有設(shè)計(jì)人員都能使用，促進(jìn)持續(xù)的設(shè)計(jì)驗(yàn)證' ~& {, k7 {  H6 P- I7 K7 P
與業(yè)界標(biāo)準(zhǔn)簽核工具（如Calibre）兼容. _" H  a8 X* V
# q; m; x+ \$ t2 P: o
PIC Studio平臺(tái)支持主要光電子芯片代工廠和工藝，確保在行業(yè)內(nèi)廣泛適用。高效的驗(yàn)證引擎在保持設(shè)計(jì)規(guī)則檢查高準(zhǔn)確性的同時(shí)實(shí)現(xiàn)快速周轉(zhuǎn)。通過(guò)這種全面的設(shè)計(jì)規(guī)則檢查實(shí)現(xiàn)，使設(shè)計(jì)人員能夠創(chuàng)建可制造的光電子集成芯片，同時(shí)保持高生產(chǎn)力和設(shè)計(jì)質(zhì)量。# g* z( }( R; e: l% R
9 N4 U8 S- i, z
END
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# v, O4 [5 E3 S$ d: m  l$ A軟件申請(qǐng)我們歡迎化合物/硅基光電子芯片的研究人員和工程師申請(qǐng)?bào)w驗(yàn)免費(fèi)版PIC Studio軟件。無(wú)論是研究還是商業(yè)應(yīng)用，PIC Studio都可提升您的工作效能。/ [4 a* _' Q% A' K2 m+ K- k  \9 }
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. c+ e/ s6 a) ~/ t+ O# X2 p$ V1 }關(guān)于我們：
% B2 ?+ K  H% v9 X0 |$ U: N深圳逍遙科技有限公司（Latitude Design Automation Inc.）是一家專(zhuān)注于半導(dǎo)體芯片設(shè)計(jì)自動(dòng)化（EDA）的高科技軟件公司。我們自主開(kāi)發(fā)特色工藝芯片設(shè)計(jì)和仿真軟件，提供成熟的設(shè)計(jì)解決方案如PIC Studio、MEMS Studio和Meta Studio，分別針對(duì)光電芯片、微機(jī)電系統(tǒng)、超透鏡的設(shè)計(jì)與仿真。我們提供特色工藝的半導(dǎo)體芯片集成電路版圖、IP和PDK工程服務(wù)，廣泛服務(wù)于光通訊、光計(jì)算、光量子通信和微納光子器件領(lǐng)域的頭部客戶(hù)。逍遙科技與國(guó)內(nèi)外晶圓代工廠及硅光/MEMS中試線(xiàn)合作，推動(dòng)特色工藝半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展，致力于為客戶(hù)提供前沿技術(shù)與服務(wù)。
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