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半導(dǎo)體制造中的現(xiàn)代良率管理系統(tǒng)

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引言% x* k: P3 k+ T# m
在當(dāng)今半導(dǎo)體行業(yè)中,良率管理系統(tǒng)在保持競爭優(yōu)勢和確保生產(chǎn)效益方面發(fā)揮著關(guān)鍵作用。本文探討良率管理的發(fā)展和現(xiàn)狀,重點介紹這些系統(tǒng)如何適應(yīng)半導(dǎo)體制造中的新挑戰(zhàn)[1]。( c( f, s3 I9 p, I6 p
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良率管理的發(fā)展格局
; G+ @8 O) ^2 F6 K/ ~0 Q2 G0 `半導(dǎo)體行業(yè)格局已發(fā)生顯著變化,競爭壓力和縮短的上市時間迫使制造商重新構(gòu)思良率管理方法,F(xiàn)代良率管理系統(tǒng)已超越傳統(tǒng)晶圓廠運營范圍,延伸至設(shè)計流程,并貫穿assembly、封裝和現(xiàn)場分析。% M1 e2 y- O# u

8 N# I0 ^: H# T. h' j- q3 N* V圖1:半導(dǎo)體生命周期數(shù)據(jù)鏈展示了從設(shè)計到制造再到現(xiàn)場部署的綜合數(shù)據(jù)流,說明了現(xiàn)代良率管理系統(tǒng)的互聯(lián)性質(zhì)。來源:PDF Solutions+ r5 U( [2 n; K# d9 Y
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理解良率偏差和早期檢測# X3 L1 o1 [( n/ L, @% R4 {; A
良率偏差是半導(dǎo)體生產(chǎn)效率面臨的主要挑戰(zhàn)之一。這些與基準(zhǔn)制造良率的意外偏差可能顯著影響生產(chǎn)成果,F(xiàn)代良率管理系統(tǒng)采用多種復(fù)雜方法來檢測和解決這些問題:  c3 Z5 k# N2 d3 [% U4 e
1. 智能采樣計劃:先進的在線缺陷掃描檢測系統(tǒng)采用智能采樣策略來最大化檢測效率。這些計劃將資源集中在最可能出現(xiàn)問題的區(qū)域,實現(xiàn)更有效的監(jiān)控。0 v: N3 K8 @+ G6 {

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2. 故障檢測和分類(FDC):現(xiàn)代晶圓廠在工藝設(shè)備上實施FDC軟件,持續(xù)監(jiān)控關(guān)鍵配方參數(shù)和傳感器。該系統(tǒng)可以及早檢測工藝漂移,從而在出現(xiàn)顯著良率損失之前進行干預(yù)。
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; o3 ~* X1 G  F3. 晶圓指紋識別:這種創(chuàng)新方法使晶圓廠能夠為每個工藝步驟在單個晶圓級別創(chuàng)建唯一標(biāo)識符,提供精確的可追溯性和監(jiān)控能力。
0 h: M/ B. g8 K$ Q2 p0 M& f, ^2 R' }% Z2 Q
人工智能和機器學(xué)習(xí)的集成# F5 J0 [! q1 v5 }$ Q
人工智能和機器學(xué)習(xí)為良率管理系統(tǒng)帶來了革新,引入了新的預(yù)測和分析能力:
' R3 N$ U* k  G' y) e# u+ ^1. 人工智能驅(qū)動的先進工藝控制(AI-APC):該技術(shù)使用基于人工智能的建模來控制工藝輸入,使輸出保持在規(guī)格限制內(nèi)。該系統(tǒng)有助于防止光刻、刻蝕和沉積等各種工藝步驟中關(guān)鍵尺寸的漂移。
2 K# {; Z3 b2 D6 E# v, Y1 K
3 ~2 t/ W3 |! b3 s5 B: f. q2 T2. 大型語言模型:行業(yè)已開始探索大型語言模型(如ChatGPT)的潛力,特別是在電氣測試方面。這些模型可以協(xié)助測試程序創(chuàng)建,但需要謹慎實施和特定領(lǐng)域知識才能有效。
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數(shù)據(jù)管理和分析7 v( K# u; _, d. T6 i. d! h% L
現(xiàn)代良率管理系統(tǒng)利用云端和本地解決方案來管理半導(dǎo)體制造過程中產(chǎn)生的大量數(shù)據(jù):' v* u- A* \. ^2 G5 K
1. 反饋循環(huán)分析:該方法根據(jù)工藝輸出數(shù)據(jù)實時調(diào)整設(shè)備參數(shù),創(chuàng)建一個持續(xù)改進良率的動態(tài)優(yōu)化系統(tǒng)。4 R' e9 w) R: v6 L8 B

) Y6 i' O, q; E% k3 D/ F2. 前饋預(yù)測模型:這些模型可以預(yù)測工藝漂移將如何影響特定晶圓或批次的良率,使問題發(fā)生前能夠主動干預(yù)。
& |. E2 n' {& z5 T! z" M/ z3 b2 N0 x! \& `) V+ s' K
先進晶圓圖分析# ^9 N( v4 k3 ?
現(xiàn)代良率管理系統(tǒng)采用復(fù)雜技術(shù)分析晶圓圖以識別潛在問題:
8 W/ s/ X5 `/ j. K1. 目標(biāo)檢測架構(gòu):最近使用YOLO(You Only Look Once)的實現(xiàn)在缺陷分類方面達到94%的準(zhǔn)確率,同時提供精確的缺陷定位。這比傳統(tǒng)分析方法有顯著提升。
6 z6 F3 ^3 f1 ?$ {1 D
, K/ O# q  W0 a$ V, T6 T2. 集成投票:這種策略結(jié)合多個模型來提高缺陷檢測準(zhǔn)確性,特別適用于不同模型對缺陷位置提供重疊預(yù)測的情況。+ X3 j% O' A* S& {5 T+ I. t
7 }: Q! b( Y5 F  f
硅生命周期管理
" i+ a; \3 h, K  U' H硅生命周期管理(SLM)的出現(xiàn)代表了良率管理的重要發(fā)展,為半導(dǎo)體整個生命周期的數(shù)據(jù)收集和分析提供了全面方法:
: o& Q1 @$ }% K$ h" O1. 系統(tǒng)性故障檢測:SLM工具采用空間模式識別和其他先進技術(shù)來識別生產(chǎn)中的系統(tǒng)性缺陷,創(chuàng)建一個持續(xù)改進檢測能力的閉環(huán)學(xué)習(xí)系統(tǒng)。& B% u3 _% e* _. M: r* ~

6 ~# V; Q: g3 ?4 R. G0 a) s5 M8 T2. 供應(yīng)鏈集成:隨著現(xiàn)代半導(dǎo)體器件復(fù)雜性的增加,特別是在2.5D和3D-IC等先進封裝場景中,SLM促進了整個供應(yīng)鏈的基本數(shù)據(jù)共享。% P: w2 x2 c# I# n  l$ Z2 ^
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未來方向和行業(yè)影響
1 _4 \8 H6 B/ x半導(dǎo)體行業(yè)持續(xù)發(fā)展,良率管理系統(tǒng)不斷適應(yīng)新挑戰(zhàn):6 H& `8 ?8 Y7 e, Q* N4 X/ i
1. 云分析:向云端良率分析的趨勢實現(xiàn)了遠程監(jiān)控和更復(fù)雜的分析能力,特別有利于無晶圓廠公司和分布式運營的IDM。. K3 h3 h) A  g7 X- O& I3 M* G, T) t

9 t* m1 I$ a' y% _+ K. f9 D2 ^2. 生態(tài)系統(tǒng)協(xié)作:現(xiàn)代半導(dǎo)體器件的復(fù)雜性不斷增加,特別是使用chiplet架構(gòu)時,推動供應(yīng)鏈合作伙伴通過共享平臺和數(shù)據(jù)分析工具加強協(xié)作。! W- s- {* T5 V% V- j7 V1 m
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結(jié)論
9 ^* O5 u& L0 H! j8 D現(xiàn)代良率管理系統(tǒng)已經(jīng)發(fā)展成為綜合平臺,集成了設(shè)計、制造、測試和現(xiàn)場性能數(shù)據(jù)。人工智能、機器學(xué)習(xí)和先進分析的引入將這些系統(tǒng)轉(zhuǎn)變?yōu)榫S護和改進半導(dǎo)體制造良率的強大工具。隨著行業(yè)繼續(xù)發(fā)展,良率管理系統(tǒng)將繼續(xù)適應(yīng),融入新技術(shù)和方法,以應(yīng)對日益復(fù)雜的半導(dǎo)體制造工藝的挑戰(zhàn)。1 Q9 A1 l6 Q  V

% Q3 u% \4 P8 r  }7 u! S理解和管理良率偏差獲得的知識為未來制造工藝提供了寶貴經(jīng)驗。以前被認為低風(fēng)險的參數(shù)現(xiàn)在可能被識別為潛在設(shè)備故障的關(guān)鍵指標(biāo),實現(xiàn)更主動和有效的良率管理策略。
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5 C* k1 b6 N3 B$ y參考文獻+ D3 H  e5 S2 m! j7 ^
[1] L. Peters, "Yield Management Embraces Expanding Role," Semiconductor Engineering, Nov. 12, 2024. [Online]. Available: https://semiengineering.com/yield-management-embraces-expanding-role/. [Accessed: Dec. 8, 2024]2 j, D4 ^+ ~1 N

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0 B3 A$ Q2 O) b2 j0 V7 s歡迎轉(zhuǎn)載" h% i6 y+ F2 v9 @* w
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轉(zhuǎn)載請注明出處,請勿修改內(nèi)容和刪除作者信息!3 Y& e% Y+ x5 J! _& S6 w# S

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+ `+ O& Q9 ]7 n5 x深圳逍遙科技有限公司(Latitude Design Automation Inc.)是一家專注于半導(dǎo)體芯片設(shè)計自動化(EDA)的高科技軟件公司。我們自主開發(fā)特色工藝芯片設(shè)計和仿真軟件,提供成熟的設(shè)計解決方案如PIC Studio、MEMS Studio和Meta Studio,分別針對光電芯片、微機電系統(tǒng)、超透鏡的設(shè)計與仿真。我們提供特色工藝的半導(dǎo)體芯片集成電路版圖、IP和PDK工程服務(wù),廣泛服務(wù)于光通訊、光計算、光量子通信和微納光子器件領(lǐng)域的頭部客戶。逍遙科技與國內(nèi)外晶圓代工廠及硅光/MEMS中試線合作,推動特色工藝半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展,致力于為客戶提供前沿技術(shù)與服務(wù)。+ m5 L: B/ \. Q1 q
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