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解析美國(guó)半導(dǎo)體制造面臨的挑戰(zhàn):近期延遲項(xiàng)目案例研究

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發(fā)表于 2024-9-12 08:03:00 | 只看該作者 |只看大圖 回帖獎(jiǎng)勵(lì) |倒序?yàn)g覽 |閱讀模式
引言
5 N3 q) ~- S5 ^$ y3 ]半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)是現(xiàn)代科技的基石,為智能手機(jī)到先進(jìn)人工智能系統(tǒng)等各類設(shè)備提供動(dòng)力。近年來,美國(guó)通過通貨膨脹削減法案和芯片與科學(xué)法案等舉措,大力推動(dòng)國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體制造能力的提升。然而,盡管有政府的大力支持,許多重大半導(dǎo)體項(xiàng)目卻遭遇了意外延遲。本文將探討美國(guó)半導(dǎo)體制造的現(xiàn)狀,重點(diǎn)關(guān)注行業(yè)主要參與者面臨的挑戰(zhàn)。* _( ~& c* N' R- M' U, V
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美國(guó)半導(dǎo)體制造的前景與挑戰(zhàn)
# F/ h6 s+ n" \0 J美國(guó)政府承諾提供超過4000億美元的稅收優(yōu)惠、貸款和補(bǔ)貼,以振興本地清潔能源技術(shù)和半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)。這項(xiàng)巨額投資旨在減少對(duì)外國(guó)芯片制造商的依賴,加強(qiáng)國(guó)內(nèi)供應(yīng)鏈。但實(shí)現(xiàn)這些目標(biāo)的道路并不平坦。4 h& L) Q3 O/ _+ y) S. P

& M0 c/ A; I8 M; l3 I! O截至2024年8月,與這些法案相關(guān)的重大項(xiàng)目有114個(gè),總投資價(jià)值達(dá)2279億美元。不幸的是,約840億美元的項(xiàng)目遇到了從兩個(gè)月到數(shù)年不等的延遲,有些甚至無限期推遲。這些延遲影響了幾個(gè)備受關(guān)注的半導(dǎo)體項(xiàng)目,引發(fā)了人們對(duì)政府戰(zhàn)略有效性的擔(dān)憂。
) A0 A, u) f3 O$ D0 ^/ d1 \4 d1 _9 W8 E. K, Y2 T* D+ ^
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圖1:《芯片與科學(xué)法案》簽署儀式
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4 x8 T- x8 @( ~8 p6 W+ A案例研究:面臨延遲的主要參與者
) W3 M( Q; {. U8 y3 E1. 臺(tái)積電的亞利桑那州工廠
, w% m8 q" B- g; s臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司(臺(tái)積電),全球最大的合約芯片制造商,宣布計(jì)劃在亞利桑那州建造三座晶圓廠,總投資650億美元。然而,該項(xiàng)目面臨重大挑戰(zhàn):3 T, ?. O: B, i; F* h  u
  • 初始計(jì)劃:2021年開始建設(shè),2024年開始生產(chǎn)。
  • 當(dāng)前狀態(tài):第一座晶圓廠的生產(chǎn)開始時(shí)間推遲到2025年上半年,第二座晶圓廠的生產(chǎn)推遲到2028年。
  • 挑戰(zhàn):文化差異和與英特爾爭(zhēng)奪勞動(dòng)力資源是導(dǎo)致延遲的因素。
  • 技術(shù):第一座晶圓廠將使用4納米制程技術(shù),第二座使用2納米,第三座(計(jì)劃于2030年代后期)將使用2納米或更先進(jìn)的制程。; W3 B! o" \& y; N/ a

    6 h3 B. G, @$ m% L' W8 @) t% C& @
    - X7 l0 a; m. A) g1 D- |9 B 2 y# ~' F% h  C& t5 h
    圖2:臺(tái)積電亞利桑那州工廠建設(shè)
    ; N0 `5 y7 v9 f  N, I) ]& j6 e6 c0 m+ O4 k
    2. 英特爾的俄亥俄州項(xiàng)目
    2 [) m2 L( ?* l/ K4 P; A" ^3 L英特爾,美國(guó)領(lǐng)先的半導(dǎo)體制造商,計(jì)劃在五年內(nèi)投資1000億美元用于在多個(gè)州建設(shè)新晶圓廠和擴(kuò)建現(xiàn)有設(shè)施。然而,俄亥俄州項(xiàng)目遇到了障礙:
    ) n% b2 a% _% S$ g( f
  • 初始計(jì)劃:在俄亥俄州建造兩座新的先進(jìn)晶圓廠,2025年開始芯片制造。
  • 當(dāng)前狀態(tài):Fab1和Fab2的完工時(shí)間推遲到2026-2027年,預(yù)計(jì)2027-2028年左右開始運(yùn)營(yíng)。
  • 延遲原因:市場(chǎng)低迷和美國(guó)補(bǔ)貼延遲。
    $ B4 b5 f% a4 m) T" e

    8 o8 `' {7 q) b: }" T0 q英特爾還調(diào)整了歐洲項(xiàng)目,包括推遲德國(guó)晶圓廠的啟動(dòng)日期,暫停在法國(guó)和意大利的投資。0 R& j5 K. n) s

    8 I4 F$ W0 T" ` ' \, i" Y- ]7 w, P; A0 s+ p7 X
    圖3:英特爾俄亥俄州項(xiàng)目. P2 I$ m  F9 B4 Z6 C& y
    9 Z  z( q; E5 w. b" z* y
    3. 三星的泰勒晶圓廠項(xiàng)目
    3 B3 L9 E: T, A# }三星計(jì)劃在德克薩斯州泰勒建設(shè)半導(dǎo)體集群,包括兩座先進(jìn)邏輯晶圓廠和一座先進(jìn)封裝設(shè)施。該項(xiàng)目也遇到了延遲:
    5 J% ]5 S& V+ r8 [
  • 初始計(jì)劃:第一座晶圓廠原計(jì)劃2024年開始生產(chǎn),具備4納米制程能力。
  • 當(dāng)前狀態(tài):運(yùn)營(yíng)可能要到2026年才能開始。
  • 可能的升級(jí):三星正考慮將設(shè)施的制程技術(shù)從4納米升級(jí)到2納米,以提高競(jìng)爭(zhēng)力。
    ; d3 d5 r5 r0 H: U) M2 |( W

    6 k5 i; a9 O- t0 z7 x1 p8 A5 }  a  t6 m, z( B: u7 G, j$ S$ j; u
    . y0 {. }! \7 ~  E6 ?
    圖4:三星泰勒晶圓廠建設(shè)- H, M' H* I! N7 g& U+ q
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    導(dǎo)致延遲的因素5 W( v$ z  a- C" y, L, ]+ O
    造成美國(guó)半導(dǎo)體制造項(xiàng)目廣泛延遲的因素有幾個(gè):
    6 W! d+ s1 z8 z7 J  g3 [
      V, \* q1 _* N) N1 g1.市場(chǎng)條件:半導(dǎo)體行業(yè)具有周期性,目前的市場(chǎng)低迷使公司對(duì)大規(guī)模投資更加謹(jǐn)慎。' O# @! p- B# i9 j
    2.需求放緩:隨著疫情后電子產(chǎn)品需求激增的勢(shì)頭減弱,芯片制造商正在重新評(píng)估產(chǎn)能擴(kuò)張計(jì)劃。
    ' C3 w! z# o$ K) e( [; u3.政策不確定性:政府補(bǔ)貼發(fā)放的延遲使公司陷入困境,無法按原定時(shí)間表推進(jìn)。
    ' Z" F' b4 P6 Q6 ?# j% Q4 ^4.技術(shù)挑戰(zhàn):隨著芯片制造工藝推進(jìn)到3納米和2納米,建造新晶圓廠的復(fù)雜性和成本顯著增加。
    & j% Y! D- K: [. u# d. @5.勞動(dòng)力問題:爭(zhēng)奪熟練工人和文化差異構(gòu)成了挑戰(zhàn),特別是對(duì)在美國(guó)運(yùn)營(yíng)的外國(guó)公司而言。
    9 H% N- t% i4 ?- ^4 J4 ]6.供應(yīng)鏈中斷:持續(xù)的全球供應(yīng)鏈問題影響了晶圓廠建設(shè)所需的關(guān)鍵設(shè)備和材料的及時(shí)交付。  l$ h# X& J; A" b
    " x# e) G' z  ?# R
    對(duì)美國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)的影響
    ) L' p: |- ]# i7 U這些重大項(xiàng)目的延遲對(duì)美國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)產(chǎn)生了幾個(gè)方面的影響:
    , [* O$ p5 k+ A4 }* j; `4 u( }
    - D7 m& c; S8 ~$ B+ T5 ~1.競(jìng)爭(zhēng)地位:延遲可能會(huì)擴(kuò)大美國(guó)制造能力與臺(tái)積電等全球領(lǐng)導(dǎo)者之間的差距。' L3 L- |+ R) G" o8 O( i8 P
    2.經(jīng)濟(jì)影響:項(xiàng)目推遲意味著當(dāng)?shù)厣鐓^(qū)的就業(yè)創(chuàng)造和經(jīng)濟(jì)效益也將延后。9 h+ o. P8 I. G2 C' |
    3.供應(yīng)鏈脆弱性:對(duì)外國(guó)芯片制造的依賴可能會(huì)持續(xù)比預(yù)期更長(zhǎng)的時(shí)間。$ o* }' [* K- j" ^! c2 u
    4.政策有效性:這些挫折引發(fā)了人們對(duì)當(dāng)前政府激勵(lì)措施和政策有效性的質(zhì)疑。: ]' z2 Y* k* \! P- o; F5 `6 o% k% L! j
    5.技術(shù)領(lǐng)先地位:先進(jìn)節(jié)點(diǎn)生產(chǎn)的延遲可能影響美國(guó)在尖端半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域的地位。
    , @; G/ P5 j+ F
    8 B4 Q! o" W# g8 A; F" s

    9 ^% U0 X+ e- Q1 c1 ?: Z結(jié)論" y/ x+ w8 c7 p0 i2 O! A% J0 [
    美國(guó)半導(dǎo)體制造格局目前處于變動(dòng)狀態(tài)。雄心勃勃的計(jì)劃和大量政府支持為美國(guó)國(guó)內(nèi)芯片生產(chǎn)的潛在復(fù)興奠定了基礎(chǔ),但該行業(yè)面臨重大挑戰(zhàn)。臺(tái)積電、英特爾和三星等主要參與者經(jīng)歷的延遲凸顯了經(jīng)濟(jì)、技術(shù)和政策因素在塑造行業(yè)未來方面的復(fù)雜相互作用。
    5 ^% s, {, e0 z& G+ r
    " O/ |* `( p" U( ~1 Y0 o隨著局勢(shì)繼續(xù)發(fā)展,政策制定者、行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)者和利益相關(guān)者密切合作以應(yīng)對(duì)這些挑戰(zhàn)將變得極為重要。調(diào)整策略以適應(yīng)不斷變化的市場(chǎng)條件,簡(jiǎn)化補(bǔ)貼流程,并專注于勞動(dòng)力發(fā)展可能有助于緩解障礙。這些努力的成功將在決定美國(guó)半導(dǎo)體制造在全球舞臺(tái)上的未來競(jìng)爭(zhēng)力方面發(fā)揮關(guān)鍵作用。- H( F7 ~" J3 w

    , D3 i9 K' P4 Q; o' {參考來源% m) Q* N2 _6 X0 d/ ~0 ^$ t
    [1] TrendForce, "Multiple Semiconductor Manufacturing Projects Delayed in the U.S.," TrendForce, Aug. 15, 2024. [Online]. Available: https://www.trendforce.com/news/2024/08/15/news-multiple-semiconductor-manufacturing-projects-delayed-in-the-u-s/. [Accessed: Aug. 25, 2024].
    7 a( i* p1 j& a2 Z. U+ X5 f% J+ {( k" V! Y2 G: U# N3 v) B3 X: ]

    5 d1 O3 ]4 c6 E# P1 |- END -
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    * l$ W, p3 T: n; \5 m軟件申請(qǐng)我們歡迎化合物/硅基光電子芯片的研究人員和工程師申請(qǐng)?bào)w驗(yàn)免費(fèi)版PIC Studio軟件。無論是研究還是商業(yè)應(yīng)用,PIC Studio都可提升您的工作效能。
    8 L: d' E, B% \6 z% F8 M- O% s5 h點(diǎn)擊左下角"閱讀原文"馬上申請(qǐng)* e2 T* v1 }' v0 d3 a! p

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    ! W! A1 t+ L; U- ~: c關(guān)于我們:' G' q6 H$ C% S' L
    深圳逍遙科技有限公司(Latitude Design Automation Inc.)是一家專注于半導(dǎo)體芯片設(shè)計(jì)自動(dòng)化(EDA)的高科技軟件公司。我們自主開發(fā)特色工藝芯片設(shè)計(jì)和仿真軟件,提供成熟的設(shè)計(jì)解決方案如PIC Studio、MEMS Studio和Meta Studio,分別針對(duì)光電芯片、微機(jī)電系統(tǒng)、超透鏡的設(shè)計(jì)與仿真。我們提供特色工藝的半導(dǎo)體芯片集成電路版圖、IP和PDK工程服務(wù),廣泛服務(wù)于光通訊、光計(jì)算、光量子通信和微納光子器件領(lǐng)域的頭部客戶。逍遙科技與國(guó)內(nèi)外晶圓代工廠及硅光/MEMS中試線合作,推動(dòng)特色工藝半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展,致力于為客戶提供前沿技術(shù)與服務(wù)。, w# g8 _/ h! \/ [/ s
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