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2.5D IC集成概述

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發(fā)表于 2024-9-13 08:03:00 | 只看該作者 |只看大圖 回帖獎勵 |倒序?yàn)g覽 |閱讀模式
引言
! r7 Z$ v) W6 G* c$ W0 [5 F. i* L2.5D IC集成已成為高性能計(jì)算應(yīng)用的關(guān)鍵封裝技術(shù)。本文概述2.5D IC集成、其關(guān)鍵組件、制造過程和發(fā)展[1]。
* t: C& g$ E1 c( m9 x
  h$ u' c3 N0 X. P

1 d  C% v. |1 \% r8 g8 {- P4 v! J什么是2.5D IC集成?
; d5 u) N+ f# i# k" D2 I; c8 _3 M2.5D IC集成是指將多個芯片并排安裝在無源中介層上,然后將中介層附著在封裝基板上的封裝方法。中介層通常由硅制成,包含硅通孔(TSV)和重分布層(RDL),用于提供芯片之間以及與下方封裝基板的電連接。8 U: ]# Q) o* M2 z* y6 |
1 m7 D) V% f' s2 l/ k
典型2.5D IC封裝的關(guān)鍵組件包括:
, z3 \% f# R5 A# r2 ?- ~
  • 多個芯片(如處理器、內(nèi)存)
  • 帶有TSV和RDL的硅中介層
  • 連接芯片和中介層的微凸點(diǎn)
  • 連接中介層和封裝基板的C4凸點(diǎn)
  • 封裝基板
  • 用于板級連接的焊球$ h7 K) m$ ^; H) V! \3 ~
    7 [# N3 T2 m! B7 z8 ?+ e
    圖1展示了使用臺積電芯片級晶圓級封裝(CoWoS)技術(shù)的典型2.5D IC封裝結(jié)構(gòu):
    ' I4 p$ n2 u/ c! H- R
    $ L/ A; K9 b4 w$ g# k" }& j : [  w7 T& y) T, X) r0 I$ }
    圖1. CoWoS封裝的橫截面視圖,標(biāo)明關(guān)鍵組件
    % Z8 ]) x. z* N+ D# s! ~. m6 Y% f( G6 y2 ^4 \/ \) z
    2.5D集成的主要優(yōu)勢
    % S! H! F+ d7 d7 y4 L. S, F/ R) M( G2.5D集成提供了幾個優(yōu)勢:
  • 實(shí)現(xiàn)異質(zhì)芯片集成(如邏輯+內(nèi)存)
  • 提供非常高帶寬的芯片間通信
  • 允許大型芯片分割以提高良率
  • 比3D堆疊提供更好的熱管理
  • 為基于Chiplet的設(shè)計(jì)提供途徑
    . L% t  f  |7 Y: o# B$ K[/ol]  H7 l# d8 P6 ]- V9 [
    制造過程' G# v, j% q  F  I. E
    2.5D IC封裝的關(guān)鍵制造步驟包括:
  • 制造帶有TSV和RDL的硅中介層
  • 使用微凸點(diǎn)將芯片連接到中介層
  • 使用C4凸點(diǎn)將中介層連接到封裝基板
  • 灌注和固化底填材料
  • 安裝散熱器/蓋子(如果使用)6 p, i: k0 X) v& J
    [/ol]
    7 _3 C5 P# [  [- ]圖2. 展示了在玻璃中介層上制造穿玻孔(TGV)和RDL的工藝流程,這與硅中介層的工藝類似:" ~; y& s3 ~( e3 w1 Y
    & e0 W0 ]( Q) K: Y
    ) x& n. f  A2 m: @2 @
    圖2. 在玻璃中介層上創(chuàng)建TGV和RDL的工藝步驟* }9 a" D3 t* _& G7 q- q3 O
    4 e$ [2 _; v. E. ~1 m
    主要挑戰(zhàn)1 \5 ]. U2 I- \+ c
    2.5D集成的主要挑戰(zhàn)包括:
  • 大型中介層的翹曲控制
  • 熱管理
  • 測試和已知良好裸片(KGD)要求
  • 硅中介層的成本
  • 微凸點(diǎn)和C4凸點(diǎn)的可靠性
    3 R% T4 V5 r5 i- Q) l, t[/ol]" J  b, J2 v. e  {& L
    熱管理方法
    " Y+ X: z; n/ X4 v0 g9 \# d* Q熱管理對高性能2.5D封裝非常重要。一些方法包括:
  • 使用導(dǎo)熱界面材料(TIM)
  • 集成散熱器和散熱片
  • 在中介層中嵌入微流體冷卻通道
    + C9 N; \- n2 R[/ol]
    ) L( [' d3 n( B3 j, _圖3. 展示了一種在中介層中嵌入微流體冷卻通道用于LED應(yīng)用的新方法:
    6 }/ e% ^$ }* G  N0 W8 o3 q6 j" l* f3 K8 g4 P
    * m/ i+ O" J6 X7 c- o# Q; d
    圖3. 帶有嵌入式微流體冷卻通道的2.5D封裝橫截面視圖,用于LED1 V; R; y0 t2 m; v! j3 f( ?  r3 q
    3 D1 [2 |$ n( B+ E7 P0 @. P( f$ R
    最新發(fā)展和趨勢
    $ w; O; M" M* R$ D5 f2 Z- b2.5D集成的一些最新發(fā)展包括:
  • 增加中介層尺寸以支持更多芯片
  • 使用玻璃等替代中介層材料
  • 在中介層中集成無源元件
  • 先進(jìn)的熱管理解決方案
  • 基于Chiplet的設(shè)計(jì)
    - O! t0 N1 P0 {/ e( e9 u[/ol]
    ( F' b0 D) ^6 k/ n/ I$ \! @1 \增加中介層尺寸- n' r0 N& l; y0 ~9 M) l+ K
    為了支持更多和更大的芯片集成,中介層尺寸一直在穩(wěn)步增加。圖4顯示了臺積電CoWoS技術(shù)的路線圖,說明了中介層尺寸增大的趨勢:
    6 ~. S- l/ H2 i4 c- [) b+ U' K6 d) T8 A+ x& u& ~+ [8 X
    7 n+ Y  f2 T1 u% H& w! J
    圖4. 臺積電CoWoS路線圖,展示中介層尺寸隨時間增加# j  b2 a: r+ t  B
    - @, o- o1 f: S9 D0 Y8 s; M
    替代中介層材料
    8 c# W* C3 |3 @: m0 B# @/ Y+ a雖然硅仍是主要的中介層材料,但對某些應(yīng)用正在探索玻璃等替代材料。圖5顯示了大日本印刷和旭硝子開發(fā)的用于天線封裝應(yīng)用的玻璃中介層:, Z$ Z, W) H5 p8 w/ Q

    - ^9 j% g  X% f
    * q' G' u, _: l& D2 ^" o圖5.顯示用于天線封裝應(yīng)用的玻璃中介層/ @1 I% }! M; ^

    6 ]# [+ c) I7 Q, |' n! ]. f6 o# T! O集成無源元件  Q: ?* Y+ R; B! O6 W
    為了提高電氣性能并減小封裝尺寸,無源元件正被集成到中介層中。圖6展示了臺積電在硅中介層中集成深溝電容器(DTC)的方法:
    7 t6 j7 q5 t. P' c; j" Y' V( v' b' C0 I4 `6 ]) I* n

    * A* s, z8 V7 G圖6. 顯示帶有集成深溝電容器的CoWoS封裝概念圖: }  \2 v9 G7 r5 S

    7 C; ^+ L: l7 O9 W3 ?先進(jìn)的熱管理! f/ S: R5 E7 ?5 w7 B
    新型熱管理解決方案不斷被開發(fā)。圖7顯示了在中介層兩側(cè)都有芯片的設(shè)計(jì),以改善熱性能:8 U) Y  U/ V8 J. d5 r/ x1 I
    " P# I0 m4 M" L7 I

    & e+ a7 U7 ?& ]  K' E2 R圖7. 顯示中介層兩側(cè)都有芯片的2.5D封裝橫截面視圖) |0 r- W6 _) m* L

    3 G! Y" s/ R  C* N/ W基于Chiplet的設(shè)計(jì)
    6 @9 u0 B8 V8 i- A2.5D集成使基于Chiplet的設(shè)計(jì)成為可能,大型SoC被劃分為更小的Chiplet。圖8展示了賽靈思將大型FPGA劃分為四個較小的裸片的方法:# S5 b. S1 z- X1 B8 v! S  T" V

    8 C' ?2 t8 D) j1 P7 C* K 3 u" N. V% E, n+ ]: G* b  m
    圖8. 顯示賽靈思使用中介層上四個較小裸片的切片F(xiàn)PGA設(shè)計(jì)
    - q7 O- T+ R* Q( O" b. A3 K* C( ~

    ' C# W  `$ }9 _: D商業(yè)案例( J$ ~  O  Z* o/ I( |6 H$ W4 v' i
    幾家公司已經(jīng)將2.5D IC產(chǎn)品商業(yè)化:
  • 賽靈思Virtex-7 FPGA(與臺積電合作)
  • AMD Radeon R9 Fury X GPU(與聯(lián)電合作)
  • NVIDIA Tesla P100 GPU(與臺積電合作), t3 I' _5 n+ d0 f( S! m) p* q
    [/ol]  I, q0 u6 c3 B1 O2 {* ~
    圖9顯示了AMD使用2.5D集成的Radeon R9 Fury X GPU:
    & H. J# Q. U/ E) {, L1 p: `2 I) M; Q- n$ b4 s' H- g

    8 q# x0 u: R6 y4 h  j圖9. 顯示使用2.5D集成的AMD Radeon R9 Fury X GPU封裝的俯視圖' g) S' W& w7 a6 e  P2 i) `) d" n

    5 ~/ n' p- P+ m+ o* l8 n未來展望7 S+ d8 |! H9 d) [( |
    2.5D集成預(yù)計(jì)將在高性能計(jì)算應(yīng)用中發(fā)揮越來越重要的作用。值得關(guān)注的關(guān)鍵趨勢包括:
  • 在FPGA和GPU之外的更多主流產(chǎn)品中采用
  • 增加基于Chiplet的設(shè)計(jì)使用
  • 集成光電子和射頻組件
  • 先進(jìn)的封裝感知芯片設(shè)計(jì)技術(shù)
  • 改進(jìn)的熱管理解決方案
    0 C" _  p: O; s2 d- x5 H, o[/ol]% a; V: \: B) A3 E& L- g: W
    " [8 U+ O! F. n) c9 s1 G
    結(jié)論
    7 z& E9 Q3 s2 @& J( Z2.5D IC集成已成為高性能計(jì)算應(yīng)用的關(guān)鍵使能技術(shù)。通過允許在硅中介層上集成異質(zhì)芯片,2.5D集成為超越傳統(tǒng)2D集成限制的持續(xù)性能擴(kuò)展提供了一條途徑。盡管在成本和熱管理方面仍存在挑戰(zhàn),但持續(xù)的發(fā)展正在擴(kuò)大2.5D集成的能力和應(yīng)用。隨著半導(dǎo)體行業(yè)向更多異質(zhì)集成和基于Chiplet的設(shè)計(jì)邁進(jìn),2.5D集成將在下一代電子系統(tǒng)中發(fā)揮關(guān)鍵作用。
    . C, E. A; K, B2 A9 P5 m! F7 y* r+ N4 i& U8 d0 j, j0 |
    參考文獻(xiàn)# _0 X3 m5 S0 k
    [1] J. H. Lau, "Semiconductor Advanced Packaging," Singapore: Springer Nature Singapore Pte Ltd.,2021., G$ Z; A0 B9 B2 r

    * z% {0 R1 d) {5 x% W  @. h, w
    4 n# B  @4 a9 m- w- END -5 E( O! @& N& Z* o" e

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    4 v' D' l: p$ [; W3 O; C

    0 H8 [8 U( }9 }. N# G7 ~6 f' f關(guān)于我們:
    0 }5 _5 r6 u  P深圳逍遙科技有限公司(Latitude Design Automation Inc.)是一家專注于半導(dǎo)體芯片設(shè)計(jì)自動化(EDA)的高科技軟件公司。我們自主開發(fā)特色工藝芯片設(shè)計(jì)和仿真軟件,提供成熟的設(shè)計(jì)解決方案如PIC Studio、MEMS Studio和Meta Studio,分別針對光電芯片、微機(jī)電系統(tǒng)、超透鏡的設(shè)計(jì)與仿真。我們提供特色工藝的半導(dǎo)體芯片集成電路版圖、IP和PDK工程服務(wù),廣泛服務(wù)于光通訊、光計(jì)算、光量子通信和微納光子器件領(lǐng)域的頭部客戶。逍遙科技與國內(nèi)外晶圓代工廠及硅光/MEMS中試線合作,推動特色工藝半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展,致力于為客戶提供前沿技術(shù)與服務(wù)。
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