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扇出型晶圓級封裝:實現(xiàn)異構集成的關鍵技術

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發(fā)表于 2024-9-20 08:00:00 | 只看該作者 |只看大圖 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
引言
0 j* \6 u/ F+ f( p扇出型晶圓級封裝(FOWLP)是近年來備受關注的先進封裝技術,能夠實現(xiàn)多芯片和組件的異構集成。本文將概述FOWLP技術、關鍵工藝步驟、優(yōu)勢、挑戰(zhàn)和新興趨勢[1]。8 N7 A0 o; n4 j; O0 }& ?

* |! r5 ^" \6 N& \9 y* \/ KFOWLP簡介
. T- u8 ~  P5 h3 s% TFOWLP在傳統(tǒng)晶圓級芯片尺寸封裝(WLCSP)的基礎上,允許重布線層(RDL)延伸至芯片邊緣之外。這種"扇出"的RDL提供了幾個主要優(yōu)勢:
  • 提高I/O密度和布線靈活性
  • 改善熱性能和電氣性能
  • 能夠集成多個芯片和無源元件
  • 減小封裝厚度
      Z: l! v- V% H- h6 u[/ol]2 l# o: S: S9 R! U
    圖1展示了FOWLP封裝的基本結構。! A% y9 o: b1 O$ `

    & M) ~/ s* @; o# A8 b9 [: Y  }
      v" J5 Y5 ^) n圖1:扇出型晶圓級封裝的基本結構示意圖,顯示RDL延伸至芯片邊緣之外。
    $ D- x, R: D# O7 m4 ^! w- A( j! i( _: D5 g! M9 j
    6 s' @: e& G+ B0 L/ B1 [+ K" T
    關鍵工藝步驟. ~) \8 g; s' R/ c4 f
    FOWLP的主要工藝步驟包括:
  • 晶圓切割:將制造好的晶圓切割成單個已知良好芯片(KGD)。
  • 芯片放置:將KGD以特定間距拾取并放置在臨時載體晶圓上,以實現(xiàn)扇出。
  • 模塑:注入環(huán)氧模塑料(emc)填充芯片之間的空隙,形成重構晶圓。
  • 載體移除:去除臨時載體,露出芯片的有源面。
  • RDL形成:沉積和圖案化多層介電質和金屬,形成RDL。
  • 球焊:放置焊球以實現(xiàn)二級互連。
  • 切割:將重構晶圓切割成單個封裝。
    " A; W3 T$ X- ], {5 ]# E# d% I[/ol]
    ; O0 o$ s* ~9 J' c圖2說明了這些關鍵工藝步驟。
    , u1 M+ N/ `: c# R& O4 e1 z
    2 X! y* s& V. [, U! H) r, P
    8 D  ]! e* e& q# L5 X圖2:芯片優(yōu)先、芯片面朝下FOWLP工藝流程,展示從晶圓切割到最終封裝切割的關鍵步驟。
    8 ?5 ?7 Y. g2 Y+ Z: n% F( T$ H, @- o' f$ x
    芯片優(yōu)先與芯片后置方法& w7 o2 B% z" ~% E! b
    FOWLP有兩種主要方法:0 Q, y/ p5 O) J! x* ]

    3 |# s) U7 S: @7 W2 K# h1. 芯片優(yōu)先:在形成RDL之前將芯片嵌入模塑料中。可進一步分為:0 C! F2 ^3 O- u# S
  • 芯片面朝下
  • 芯片面朝上, @' y2 U) `0 v: G2 t

    , j0 }7 }+ G9 C- d& Y2. 芯片后置(RDL優(yōu)先):在芯片附著之前在載體上形成RDL。% r; _$ F0 H) L3 ~
    - d& m) |0 f% D; g, h4 J6 X
    每種方法都有各自的優(yōu)勢和挑戰(zhàn)。芯片優(yōu)先方法更適用于低I/O數(shù)量的應用,而芯片后置方法更適合非常高密度的RDL。  K/ U) e- V/ [( ?4 e$ G

    ) M- k3 l) f& W0 n" G/ W8 uRDL形成' G. C" M/ y  Q4 g1 C
    RDL是FOWLP的關鍵元素,提供扇出互連。RDL形成的主要考慮因素包括:
    9 o9 @& M- V  n; u$ }
  • 介電材料選擇(如聚酰亞胺、ABF)
  • 金屬沉積和圖案化技術
  • 通孔形成
  • 線寬/間距能力3 N6 `& F' {" c6 \8 U  p  n

    4 F; U. s8 C- J+ w7 p+ U6 p" R4 l圖3顯示了典型多層RDL結構的橫截面。
    ) m- J: h# w9 w& z
    . }, u6 B8 Y2 B$ K# _- Z , U( G" t. r3 ?; K' v! _. f
    圖3:FOWLP中多層RDL結構的橫截面SEM圖像,可見銅跡線和通孔。  o' Q$ y) J, S! N( v2 o6 H+ o

    7 H9 Z4 j+ W. L) y5 `- s3 E) S板級封裝
    ( q: u. [7 l: R  Z為提高制造效率,正在向更大尺寸的板級扇出封裝發(fā)展。這允許同時生產更多封裝。
    * L0 I3 n& ?; k; H# w6 O! n- D' u0 D$ g' T0 K7 p1 z0 p
    圖4顯示了用于扇出封裝的大型板的示例。2 ]  s* h! @& h3 |8 _
    9 m* X; g: |/ j, Q5 ?

    " B/ j$ q) I5 K/ X+ S+ R, z" V圖4:用作板級扇出封裝臨時載體的大型玻璃板(515mm x 510mm),可提高生產效率。4 G& D( F' q3 \+ \; D
    7 W2 n+ ]: \$ f2 ?6 ?
    異構集成. G4 {7 K7 C5 G0 i3 }/ U0 r4 D8 a% P
    FOWLP的一個主要優(yōu)勢是能夠將多個芯片和組件集成到單個封裝中。這種異構集成能力實現(xiàn)了:4 g/ C: T5 a/ |9 p# m; m
  • 尺寸縮小
  • 性能提升
  • 成本優(yōu)化
  • 定制解決方案
    3 ^. d, ]$ n4 P* q+ ?: [2 t
    + T( G# e' C/ J' D8 M0 S
    圖5說明了使用FOWLP進行異構集成的示例。
    8 _2 m4 o* `( U- M/ r9 ~3 Y, D' F' D( w9 T0 ^
    . }) G5 t: i1 A0 g
    圖5:在扇出基板上集成多個芯片的異構集成,展示了在單個封裝中組合不同組件的能力。- a: c. n7 `3 D$ d

    $ o+ r& r2 L+ E混合基板
    2 d2 T0 ?- F* [& K對于非常高密度的應用,正在開發(fā)將有機中間層與建立基板相結合的混合基板。這種方法提供:
    6 q# j0 m/ ~- h2 K+ m
  • 超細線/間距RDL
  • 改善電氣性能
  • 芯片I/O間距與PCB間距之間的橋接
    7 q2 V2 {5 P7 Q' C2 Y

    5 C1 \8 }/ m  y+ e% \$ W圖6顯示了混合基板的結構。+ @2 C. c( G, w* d# k
    $ ]* m( M# s% \9 ~, R. o0 T

    : ~! ^! `* B+ k; y1 K* f) f" n9 N3 k圖6:混合基板結構,結合了具有細間距RDL的有機中間層和建立封裝基板,用于高密度異構集成。! L1 U: @7 O  ?

    % r& \9 U/ ]5 s: I主要挑戰(zhàn)6 ]# I9 r- j* E7 Y9 K5 |$ H4 A
    FOWLP技術面臨的一些主要挑戰(zhàn)包括:0 C; q' R; v: \" B/ D% D& C
    1. 翹曲控制:材料之間的CTE不匹配可能導致翹曲問題。
    9 K5 O# q4 z& q6 x  V; O2. 細間距RDL形成:實現(xiàn)超細線/間距具有挑戰(zhàn)性,特別是在大尺寸板上。
    0 d' M5 k7 W8 T3. 已知良好芯片(KGD)的可用性:獲得KGD對維持良率非常重要。0 {& l# z% J* m5 B/ G1 P' W- W
    4. 熱管理:對于高功率應用,散熱可能成為問題。/ O  ~: x. l3 J# f5 }/ \. r
    5. 可靠性:確保在各種使用條件下的長期可靠性。
    % ?: e, s: a3 Z1 _& }1 V0 M7 W; P( [0 E7 Y4 f/ N5 ?
    可靠性測試
    ) D, r. |+ Y" Z7 ?7 |3 A5 c$ e對FOWLP封裝進行嚴格的可靠性測試必不可少。常見的測試包括:0 T) X! M" A+ c
  • 熱循環(huán):評估焊點可靠性
  • 跌落測試:適用于移動應用
  • 濕敏度:評估封裝穩(wěn)健性/ {1 e$ O% ?0 b1 `

    ! J! {) [' Q! V$ d# e" Z圖7顯示了熱循環(huán)測試結果的示例。/ [2 }5 q! X& \! L( K6 r
    , w  M* q7 L4 M0 G# @
    0 Q. h; k8 N4 w8 \' n1 b
    圖7:扇出封裝在熱循環(huán)條件下焊點可靠性的韋伯圖。
      f4 p; c' k+ q
    + \* |2 i) F8 x+ |仿真和建模# \! i$ E( t/ L
    有限元分析(FEA)廣泛用于模擬和優(yōu)化FOWLP設計。重點關注的領域包括:
    " o% y5 ~3 N# L1 B1 s
  • 翹曲預測
  • 應力分析
  • 熱管理
  • 電氣性能
    9 W& f6 [3 d* ?5 p( N

    5 @$ W# j* \, U  ^6 j. A+ E3 l圖8展示了用于熱-機械仿真的FEA模型。/ E. P9 S) V4 f
      n+ h- n7 |. x, ]' j  Y

    2 A' Z# v& F9 a1 b圖8:用于熱-機械仿真的異構集成封裝有限元模型,用于預測關鍵區(qū)域的應力和應變。
    # I( |) o! p7 x
    ( n( C$ n- t& C/ s8 a$ _- L8 v新興趨勢" i9 e$ ^& d) f
    FOWLP技術的新興趨勢包括:
    0 |3 E: \& e1 C  U, {8 L3 r1. 板級封裝:轉向更大尺寸的板以提高效率。$ Z# v4 L) ~: b' y6 Z
    2. Chiplet集成:在封裝中組合多個較小的芯片或"chiplet"。8 ]' G/ L+ Y1 h
    3. 2.5D/3D集成:垂直堆疊芯片以增加密度。
    7 k& |4 |) ~, _4. 嵌入式組件:在封裝內集成無源和有源組件。
    : A% l2 h8 |7 X) N3 g8 }: K5. 先進材料:開發(fā)新的模塑料、介電質和導電材料。  v8 G! f2 @$ |3 C6 D
    2 O) p0 O9 E) N
    應用, y/ B2 _, |: b" U
    FOWLP在廣泛的應用領域中得到使用,包括:
    ) |+ G& M6 L; R; F2 H, n
  • 移動設備
  • 汽車電子
  • 物聯(lián)網(wǎng)(IoT)設備
  • 人工智能(AI)加速器
  • 高性能計算
    4 a1 C1 Z7 q3 |; s% \
      `9 \9 u" W, \/ L$ N
    異構集成能力使FOWLP特別適合系統(tǒng)級封裝(SiP)解決方案。# y9 ?- z0 [2 `' }8 h/ T
    3 e4 }8 ?" p4 a
    結論7 ?) Y; S5 q" `9 _+ @( @( V) J
    扇出型晶圓級封裝已成為實現(xiàn)異構集成和先進電子系統(tǒng)的關鍵技術。高密度互連、性能改善和緊湊形態(tài)因素的能力使其非常適合下一代應用。雖然仍面臨挑戰(zhàn),但材料、工藝和設計工具的持續(xù)發(fā)展正在擴展FOWLP技術的能力。
    / i: }1 Y% \# |0 W: S5 W
    1 j, y, ]' u1 I1 q' ^, C7 r# l隨著電子行業(yè)不斷要求在更小的形態(tài)因素中實現(xiàn)更高水平的集成和性能,F(xiàn)OWLP有望在滿足這些需求方面發(fā)揮越來越重要的作用。向板級封裝的趨勢和混合基板的開發(fā)正在為超高密度集成開辟新的可能性。
    & k2 F" O$ ^4 V- m: x& n1 m6 c
    4 k; R7 _- [( h( C; Q3 `研究人員和制造商不斷推動FOWLP的可能性邊界,改進線/間距能力,增加板尺寸,開發(fā)新的架構。隨著技術的成熟,我們可以期待看到FOWLP在廣泛的應用領域中實現(xiàn)更先進的異構集成解決方案。
    7 q! t: {0 b' x! A, m$ X% U
    2 c- z! F3 Y# f# v, P# z

    0 c. v5 q7 Y0 f6 L參考文獻
    2 |8 ^' D; T$ n) Q) k. Z[1] J. H. Lau, "Fan-Out Technology," in Flip Chip, Hybrid Bonding, Fan-In, and Fan-Out Technology. Singapore: Springer Nature Singapore Pte Ltd., 2024, ch. 4, pp. 233-419.
    - u6 R) S8 F8 L& b0 r: A5 ~* g2 t. _7 Z+ t
    - END -& K* ~% N; ^/ ^# K

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    . v% ^3 X" ]# {+ o4 j' E' s1 y點擊左下角"閱讀原文"馬上申請& P2 @4 }7 u/ Z# w. L. q0 J

    & F; b1 V: S3 l9 r; _歡迎轉載
    2 J5 V! l9 p0 q7 [; T$ W, B! w8 B. I+ U- n- ?7 \2 p  M0 @' m9 F
    轉載請注明出處,請勿修改內容和刪除作者信息!
    / I2 V$ L7 F! c9 e( W( |( h" O. S* d
    : s: |: q& j0 L$ u8 O! C  d
    : w+ L# V; P3 z' I' M: V% i

    # O/ D, O, v" B6 c  S! ^& F& U
    * n1 d/ b$ ]8 H' ~! {關注我們! I# }# ^/ B1 E

      f5 `3 ?4 I, b& @/ u3 c4 g# k

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    3 J& t$ D$ ]2 S! x/ U& l

    5 u: X  i4 H3 ?" R% i4 ?- C8 M; V% y

    # R/ s2 [  }5 v7 Z  X; ?
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    ! F9 M" \. J6 n$ I: {
    7 B3 o+ Z7 h# A) }+ c% s
    9 \* o: n" ~: X/ b- E+ c

    1 T6 M6 |4 E+ a% R' |關于我們:
    " g* T% m% w% y) a3 J. x深圳逍遙科技有限公司(Latitude Design Automation Inc.)是一家專注于半導體芯片設計自動化(EDA)的高科技軟件公司。我們自主開發(fā)特色工藝芯片設計和仿真軟件,提供成熟的設計解決方案如PIC Studio、MEMS Studio和Meta Studio,分別針對光電芯片、微機電系統(tǒng)、超透鏡的設計與仿真。我們提供特色工藝的半導體芯片集成電路版圖、IP和PDK工程服務,廣泛服務于光通訊、光計算、光量子通信和微納光子器件領域的頭部客戶。逍遙科技與國內外晶圓代工廠及硅光/MEMS中試線合作,推動特色工藝半導體產業(yè)鏈發(fā)展,致力于為客戶提供前沿技術與服務。
    * j* J4 T( G4 u  @, m8 V+ E6 v) U# Y  G9 E7 O
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