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?人工智能輔助芯片設計

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引言5 Q- m: ?% J* q. a- C
在半導體技術(shù)飛速發(fā)展的今天,人工智能(AI)正在成為優(yōu)化芯片設計過程的關(guān)鍵工具,本文幫助讀者了解AI,特別是強化學習(RL)和生成式AI,如何應對現(xiàn)代芯片設計的復雜挑戰(zhàn)[1]。
7 t; n8 |) ~2 m3 l6 c* A+ ]$ F& c# J
芯片設計復雜性的挑戰(zhàn). z5 F/ x5 J) N! }
現(xiàn)代芯片設計是涉及眾多變量和權(quán)衡的復雜過程。隨著半導體技術(shù)不斷推進,設計空間的復雜性呈指數(shù)級增長。
. `, J& T! w* d$ b) V( y3 T! ?" O 7 ]# w! u, M$ w* z5 `
圖1展示了設計復雜性在時鐘、庫單元選擇和電源管理等多個因素上的指數(shù)級增長。
7 Y; Z2 V, |) g( O5 l- ~
: ?: z3 ^; B; n7 t2 F& A這種日益增加的復雜性帶來了幾個主要挑戰(zhàn):
$ {" Q- k9 n  A- m" ^/ Q
  • 結(jié)果質(zhì)量:解決方案空間不連續(xù)、噪聲大且非凸,難以跳出局部最小值并識別因果關(guān)系。
  • 吞吐量:設計人員一次只能評估少量變量,導致設計過程延遲長。
  • 成本:設計過程常常導致計算資源利用率低下,跨項目復用有限。( {6 o" b+ j( {' o4 f8 I

    1 K& N8 N1 O3 U# i+ {( v  F1 n0 d7 y- W/ P: L5 S

    , w6 }6 h9 z) H: R: _; e圖2顯示了芯片設計過程中時間分配的breakdown,突出顯示了當前方法的低效之處。9 R" A+ `/ K3 w; w( D

    * |( O5 z- K0 I# x) G- gAI在芯片設計中的應用前景2 ?( C' G7 T  \8 @
    為應對這些挑戰(zhàn),半導體行業(yè)正轉(zhuǎn)向AI,特別是強化學習(RL),以優(yōu)化芯片設計過程的各個方面。7 Z6 f1 {( W4 }& [" B% N/ m9 C

    % b8 c% F$ R/ C0 U4 o3 C& m  a0 J  w理解強化學習* x5 R% ^: O1 s# J% [: [. b! c
    強化學習是機器學習的一個分支,其中代理通過與環(huán)境交互來學習決策。在芯片設計中,RL代理可以探索各種設計選項,學習實現(xiàn)所需性能指標的最佳策略。
    * R" w+ z/ ], ~$ |# X) i 3 ]3 i" h) H3 ?7 i
    圖3描述了強化學習的基本概念,展示了代理與環(huán)境之間的交互。4 H: w; E( d" ~: a, s
    ' m9 h3 O; B# A  w' F) A
    將RL應用于芯片設計8 s3 l5 P: e' J# ~! g5 ^9 v
    將RL應用于芯片設計涉及將各種設計參數(shù)和約束映射到RL框架:, ~1 }* t2 X6 ~3 S! ~, I
  • 狀態(tài):當前設計配置
  • 動作:對設計參數(shù)的更改
  • 獎勵:目標指標的改善(如功耗、性能、面積)$ N% X2 T* G! D9 f: T, }6 [
    ) c4 u4 q% F5 V7 U
    * `: f' D* J+ T6 Q
    " _# r7 V+ S4 ]* N, S6 Y' f9 n' E, U
    圖4說明了如何將RL應用于芯片設計問題,將設計輸入映射到動作和結(jié)果。" \* y6 k7 w6 B
    9 O. ~; g3 w6 d$ Q* c
    AI輔助優(yōu)化貫穿設計流程
    ! c1 Y/ x. o: C3 \1 V( LAI驅(qū)動的優(yōu)化可應用于芯片設計過程的各個階段,從架構(gòu)到制造。
    7 u0 P( G. D  M& z! Y7 g5 O  u* K6 t- L( W- ^; \4 l
    1.數(shù)字實現(xiàn)* Q; ~- @( Q+ c7 l# A3 R3 }" i9 ?
    AI可以輔助探索不同的平面圖選項,優(yōu)化芯片面積和最大頻率等指標。
    ; k  c$ a: O+ c" `8 C/ m8 e 7 l2 I- d- h- ~: ]
    圖5展示了AI優(yōu)化設計的帕累托前沿,平衡了芯片面積和頻率。
    2 d- G" X- z1 P: Y. @1 h" W& ^  n- f7 ?4 ^2 L: X# r1 i
    2.驗證) c3 ?& F$ E9 {) T
    AI可以通過智能選擇測試用例和優(yōu)化覆蓋率,顯著提高驗證過程的效率。1 B  B4 j* I7 D1 n
    5 h" C) n! D5 m2 N6 I
    圖6演示了AI如何優(yōu)化回歸測試的分布,以實現(xiàn)更高效的驗證。
    5 C+ H& @* _% [3 Z# _. Y) u  j. k# e' T9 z- W+ t2 Z0 x) J2 B
    3.測試和ATPG
    % b; }+ K4 i9 J' t, ^9 E5 }AI可以優(yōu)化測試生成的各個方面,包括非掃描設計、X處理和中止限制。
    4 @7 A7 g$ E3 ]# v* v% o1 P$ x& \# t: t& ?& [8 k
    4.電路優(yōu)化
    - E; i# z7 ]; x# s對于模擬和混合信號電路,AI可以在復雜的器件參數(shù)空間和PVT(工藝、電壓、溫度)角落中導航。+ w0 u/ ?* H# g+ U/ x7 m

    ( B5 m  R- k5 X/ j* k5.3D集成
    4 e, X+ p8 x: SAI可以輔助多芯片配置的探索,優(yōu)化性能和功耗效率。3 ^0 i; c* M9 C8 l9 d5 q
    ! O* C3 W  `4 x  F' ^
    6. 多抽象層次優(yōu)化
    ' v/ C  ^' l( d. q$ b: a# ]$ sAI在芯片設計中最有前途的應用之一是跨不同設計抽象層次進行優(yōu)化。4 o, s. f8 [4 l" S

    # Z' w: Z" a! T圖7闡述了跨多個設計抽象層次優(yōu)化的概念,從高層架構(gòu)到低層實例。# L( w. w6 k+ e" U
    4 Q; {: v" Z7 }0 F( S
    7.單抽象層次vs多抽象層次優(yōu)化# t1 Z* Y1 \: }  a8 R4 n. F
    最初的AI驅(qū)動優(yōu)化集中在單一抽象層次,如布局優(yōu)化。然而,當應用于多個抽象層次時,AI的真正威力才得以顯現(xiàn)。, B. J( {- u; t

    , y/ E& ^7 P7 D5 _% y3 R1 G. W& I圖8顯示了基于RL的布局優(yōu)化結(jié)果,展示了功耗和頻率的改進。, o& U& }) K: {4 ~# d
    9 v6 f- h) y9 D% b/ s

    1 C5 o  f8 |) M! I' {; t. Z圖9比較了單抽象層次優(yōu)化和多抽象層次優(yōu)化,揭示了功耗-頻率權(quán)衡的顯著改進。
    5 x6 l$ u2 }; `1 m5 F9 f
    # g0 j# k5 R0 b6 o# n0 ?8.探索不同設計配置
    6 w( u9 I9 h$ zAI可以高效地探索多種設計配置,每種配置具有不同的特性和權(quán)衡。6 a# q/ F+ L* W

    * {! O, M% C/ u7 v2 l# }0 A' u圖10呈現(xiàn)了探索五種不同設計配置的前20個結(jié)果,展示了AI可以生成的解決方案的多樣性。
    % {9 W/ j7 a, K9 g5 o% I+ W5 p
    ' I3 D. J! u. p; o6 D( w 8 c" S( L: ?/ [6 U; f
    圖11突出顯示了不同的RTL配置如何導致不同的布局特征,展示了AI識別和優(yōu)化不同設計特征的能力。$ c2 v- O9 K. R% M# i  x

    ' B9 x0 X1 K+ u7 a3 v
    * o$ n% A) c+ Z* H' }$ ^+ A基于RL優(yōu)化的局限性5 ], V6 U1 D8 d0 A/ y) g
    盡管功能強大,基于RL的優(yōu)化面臨兩個主要挑戰(zhàn):
  • 創(chuàng)建設計變體的工作量大
  • 設計變體評估速度慢1 h+ o7 I8 D! m& J( N' @0 \( u& |
    [/ol]
    $ O1 ]( M0 W: N6 q, C' z為解決這些限制,業(yè)界正轉(zhuǎn)向生成式AI作為補充方法。3 _( I# A4 R/ }& C3 m
    9 K3 h' c: H8 c$ T- L
    用生成式AI增強RL  s& a+ a3 ^: {2 t0 N
    生成式AI,特別是大型語言模型,正在為芯片設計優(yōu)化開辟新的可能性。% ^5 p) k' i; Z5 ?3 v& I

    3 M' C5 }! s1 G- ~" v$ }RL和生成式AI的比較8 w9 v- R" V% f1 @9 R
  • RL擅長在定義的搜索空間內(nèi)找到最優(yōu)解
  • 生成式AI善于快速生成多樣化的設計選項6 V$ g$ u- g/ {
    % ]( T( A. n) b; p+ n3 U

    ' m, l6 T1 |' _& m圖12比較了RL和生成式AI在芯片設計優(yōu)化context中的優(yōu)勢。
    " Y2 W4 P0 C. f. N( m5 s+ |! b, Z" j/ m; x

      _$ q$ z- e# |! q硬件描述語言(HDL)生成6 J2 c; g" d" R5 C
    最近的研究在使用AI生成HDL代碼方面顯示出了令人鼓舞的結(jié)果。( P. W) W  `% s
    3 x% u  `2 W; l3 I) o
    圖13顯示了HDL-GPT(一個用于生成HDL代碼的AI模型)在各種設計挑戰(zhàn)中的表現(xiàn)。
    $ {. c2 {7 ?. Y7 i: e2 u/ c* E9 D4 P2 L$ h  e( l
    功耗、性能和面積(PPA)推測( ^4 }0 Y/ J: \+ V  ]
    AI的另一個令人興奮的應用是快速PPA推測。/ M! L$ n& p. f  Q. ]3 u, t' _

    2 n1 V* n/ s8 z* `圖14說明了使用AI執(zhí)行端到端PPA推測的工作流程,可能將設計評估速度提高10倍。5 W- g9 A5 p0 f! t/ I; S5 A6 h
    9 T, }) V4 \% }
    加速設計評估2 P8 D) a! ^, q# g
    圖卷積網(wǎng)絡(GCNs)正被用來大幅加速設計評估過程。
    4 z  j4 b% p2 i, c0 V
    - M# i2 R8 B* P; z* @( {2 j+ x( D圖15演示了GCNs如何將設計探索速度提高500多倍,相較于傳統(tǒng)方法。/ E1 [7 g* c% i' ?( x! P: y1 e

    , ~4 K8 B6 y1 f) Y- y結(jié)論) b, {( M% l; ?0 o& A
    AI輔助芯片設計代表著半導體行業(yè)的范式轉(zhuǎn)變。通過利用強化學習和生成式AI,設計人員可以更高效地探索廣闊的設計空間,跨多個抽象層次進行優(yōu)化,并加速整個設計過程。
    7 l/ z/ O* j/ M- c+ K4 C
    4 r0 v  M, R( Q( K, h$ c2 W: Y隨著AI技術(shù)的不斷進步,可以期待更深遠的影響。RL優(yōu)化與生成式AI快速設計空間探索的結(jié)合,有望在半導體設計中釋放新的創(chuàng)新水平。: O4 h# H# n) \
    # v0 d4 {! U! u9 ]$ e
    芯片設計的未來可能會看到AI工具在整個設計流程中的更深入集成,從高層架構(gòu)決策到低層物理實現(xiàn)。這種AI驅(qū)動的方法不僅將提高芯片的質(zhì)量和性能,還將顯著縮短上市時間并降低開發(fā)成本。* m% H! C( x0 P/ d
    7 m" \% _6 ]% B5 n- }( ~# Y
    參考文獻
    5 F* d7 u, {; V# p2 r! h+ Q[1] S. Diamantidis, "AI-Assisted Chip Design Tutorial," in HotChips, Aug. 25, 2025.5 v1 m, I8 Q5 O( N& t8 {. l; b
    8 g! T$ b; D: i- Z+ j8 K) N
    - END -5 R1 {9 S. e8 g
    5 j4 d: j0 g) v: Q
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    5 b6 J  M& P7 p. [# v7 A( {5 _. N$ c, q9 x% ~
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    - I. t5 I0 h0 W
    / {& O- V  O9 F& \) C轉(zhuǎn)載請注明出處,請勿修改內(nèi)容和刪除作者信息!
    ) C; c9 \; `6 P1 b; I# s) |3 g% w# e9 i) |# d0 ]9 E* B. r* P0 w
    * F: j( v' @: ~& F: O* \9 O7 |

    $ h3 W4 s" m. x) s$ V. f# e5 T' p3 j 9 c. U( j$ }; U# s

    ) m4 j3 U; x  ?7 K1 O( L關(guān)注我們& O* K, H$ c0 E- P+ r
    * E( K* Q! r2 e, p5 ^
    : R5 `" R0 o, B( K( N& p5 q/ Q
    7 A: n0 P+ \, A2 u, b- w7 H
    ! V; ]: k  {, k2 h$ Z

    2 p7 n1 \: C( N

    4 ]5 e( z2 v( I& R( a  Z: i; |1 Q6 { 8 e! G. G8 |& q) x4 m3 U
                         
    " X: C, s1 \- i1 D, C. t+ q# x# R( `& L- |) \. f2 q, ~, n7 `

    8 Y% t  N' M% i! d7 L, z7 v* a) {1 |4 e
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    深圳逍遙科技有限公司(Latitude Design Automation Inc.)是一家專注于半導體芯片設計自動化(EDA)的高科技軟件公司。我們自主開發(fā)特色工藝芯片設計和仿真軟件,提供成熟的設計解決方案如PIC Studio、MEMS Studio和Meta Studio,分別針對光電芯片、微機電系統(tǒng)、超透鏡的設計與仿真。我們提供特色工藝的半導體芯片集成電路版圖、IP和PDK工程服務,廣泛服務于光通訊、光計算、光量子通信和微納光子器件領(lǐng)域的頭部客戶。逍遙科技與國內(nèi)外晶圓代工廠及硅光/MEMS中試線合作,推動特色工藝半導體產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展,致力于為客戶提供前沿技術(shù)與服務。/ b" I" a  d6 I" \3 f2 i
    " Y. J; _5 `' Q. ~* W) P; N
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