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Nanophotonics | 半導(dǎo)體芯光纖:非線性光電子技術(shù)的新平臺(tái)

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引言半導(dǎo)體芯光纖正在成為非線性光電子應(yīng)用的新平臺(tái)。通過(guò)將半導(dǎo)體的緊密光束限制和高非線性折射率與光纖的靈活性和穩(wěn)健性相結(jié)合,這些混合結(jié)構(gòu)為寬波長(zhǎng)范圍內(nèi)的非線性光學(xué)處理開(kāi)辟了新的可能性。本文將概述半導(dǎo)體芯光纖的制造、表征和應(yīng)用,重點(diǎn)關(guān)注非線性光電子技術(shù)的應(yīng)用。
# x. M6 t3 z1 J/ f
: X4 v/ k. W8 V6 V2 Z  ?4 X2 }制造方法
- v; v4 `. B' l& B9 M制造半導(dǎo)體芯光纖的主要方法是熔芯拉絲技術(shù)(MCD)。在這個(gè)過(guò)程中,將半導(dǎo)體材料放置在玻璃管預(yù)制件內(nèi),然后使用傳統(tǒng)的光纖拉絲塔加熱并拉成光纖。當(dāng)預(yù)制件被加熱時(shí),半導(dǎo)體芯熔化,而玻璃包層變得粘稠,使兩種材料能夠被共同拉制成光纖幾何結(jié)構(gòu)。
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+ J6 U* J8 K/ n) [" i* Y8 M) ]圖1:制造半導(dǎo)體芯光纖的熔芯拉絲方法示意圖。
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/ T. Y) b4 c8 W( A9 rMCD技術(shù)允許大規(guī)模生產(chǎn)長(zhǎng)度的半導(dǎo)體芯光纖。然而,高拉絲溫度可能導(dǎo)致一些挑戰(zhàn),包括包層材料向芯擴(kuò)散和形成多晶芯。為解決這些問(wèn)題,開(kāi)發(fā)了各種后處理技術(shù)。
+ U- O/ d' G* z" R1 m8 Y: m6 i. F5 Y: J9 l3 C, E& S0 X
后處理技術(shù)使用兩種關(guān)鍵的后處理方法來(lái)改善已拉制半導(dǎo)體芯光纖的質(zhì)量并調(diào)整其性能:/ Z8 s2 T! A$ [& R7 H8 ~
激光處理:使用聚焦激光束局部加熱、熔化和重結(jié)晶半導(dǎo)體芯。這可以改善結(jié)晶度,減少缺陷,并允許對(duì)芯的性能進(jìn)行空間變化的修改。
# o! ?% @0 }1 G  r" u( J錐化:局部加熱并拉伸光纖以減小其直徑。這允許精確控制芯的尺寸,并可以顯著改變光學(xué)性能。
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這些后處理技術(shù)對(duì)于減少傳輸損耗和調(diào)整半導(dǎo)體芯光纖的色散性能以用于非線性應(yīng)用非常重要。: Q9 N5 ?0 S: N# z3 [
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圖2:后處理技術(shù)示意圖:(左)激光處理和(右)半導(dǎo)體芯光纖的錐化。, `8 v: G2 H4 O

4 H9 ~: g6 z' s% T! V這些后處理技術(shù)對(duì)于減少傳輸損耗和調(diào)整半導(dǎo)體芯光纖的色散性能以用于非線性應(yīng)用非常重要。+ A+ a. S8 J) @( y1 v* Q, ]4 T$ @
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光學(xué)表征半導(dǎo)體芯光纖的光學(xué)性能強(qiáng)烈依賴于芯材料、尺寸和處理。硅芯光纖已經(jīng)被廣泛研究,通過(guò)仔細(xì)的錐化處理,在電信波長(zhǎng)下實(shí)現(xiàn)了低至0.8 dB/cm的損耗。9 ~% G% B* ]% R3 N  l

5 v# m, c. m0 N0 g. L2 K通過(guò)控制芯直徑可以調(diào)整色散性能。圖3顯示了硅芯光纖的群速度色散和有效模場(chǎng)面積如何隨芯尺寸變化。) ]$ E5 j9 N; s' \% c! }- {
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圖3:硅芯光纖的群速度色散(GVD)和有效模場(chǎng)面積(Aeff)隨芯直徑的變化。3 Y( m; o. c5 K" t4 a$ P

6 v% w6 ]! S8 A* ~0 O4 X+ u非線性光學(xué)應(yīng)用半導(dǎo)體芯光纖的高非線性和可調(diào)色散使其適用于各種非線性光學(xué)應(yīng)用:$ O: Q& ~7 R+ R! K% _. e2 y& D  ~
四波混頻(FWM):在硅芯光纖中已經(jīng)演示了FWM用于參量放大和波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換。使用僅0.63 mW平均泵浦功率在電信波段實(shí)現(xiàn)了9 dB的凈參量增益。* Y- V" H) \, a( q" Z
拉曼散射:在硅芯光纖中觀察到了受激拉曼散射,使用2 μm泵浦在中紅外區(qū)域?qū)崿F(xiàn)了高達(dá)3.7 dB的增益。
: q/ U; v6 P/ s: H2 j3 x/ K超連續(xù)譜生成:在錐化的硅芯光纖中,使用3 μm泵浦生成了跨度從1.6到5.3 μm的寬廣超連續(xù)譜。/ I' q% Z7 u: i% c; H
二次諧波生成:雖然大多數(shù)工作集中在硅上,但ZnSe芯光纖已被用于演示二次諧波生成,用于電信信號(hào)的倍頻。% v6 V* a1 w. U$ W2 C, ^3 P
[/ol]
, [9 s0 l4 M0 ?+ ^9 i0 ?* Q ; O  ~) ^. c+ w" C
圖4:半導(dǎo)體芯光纖中演示的非線性應(yīng)用示例:(a) 四波混頻,(b) 拉曼散射,(c) 超連續(xù)譜生成,和 (d) 二次諧波生成。
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未來(lái)展望
. I/ u  ]% n6 V5 f$ a2 i" o8 J. S在開(kāi)發(fā)用于非線性光電子技術(shù)的半導(dǎo)體芯光纖方面取得了重大進(jìn)展,但仍有幾個(gè)未來(lái)發(fā)展的領(lǐng)域:
  • 新材料:超越硅,擴(kuò)展到其他半導(dǎo)體如GaAs或ZnSe可能實(shí)現(xiàn)新功能,特別是對(duì)于二階非線性效應(yīng)。
  • 改進(jìn)制造:進(jìn)一步減少損耗并提高結(jié)晶質(zhì)量將增強(qiáng)非線性應(yīng)用的性能。
  • 集成:開(kāi)發(fā)與標(biāo)準(zhǔn)光纖的穩(wěn)健耦合方法對(duì)于半導(dǎo)體芯光纖器件的實(shí)際部署非常必要。
    , X# [! }( A' f. S5 u, F+ E7 O  ][/ol]0 V- |2 M/ O4 V

    5 T; v! Y5 \  ^' Z0 G2 S- I圖5:半導(dǎo)體芯光纖與標(biāo)準(zhǔn)單模光纖(SMF)集成的概念,用于實(shí)際器件實(shí)現(xiàn)。
      g+ e" P9 m5 ]' \* s) B0 W! F$ M# {; @1 o" N& ]
    結(jié)論- _3 g6 ~% |* b/ O9 ~4 @
    半導(dǎo)體芯光纖代表了值得期待的新平臺(tái),結(jié)合了半導(dǎo)體的高非線性和光纖的靈活性。通過(guò)制造和后處理技術(shù)的進(jìn)步,這些光纖正在成為一項(xiàng)可行的技術(shù),用于跨越近紅外到中紅外的非線性光電子應(yīng)用。隨著制造方法的改進(jìn)和新材料的探索,半導(dǎo)體芯光纖有望實(shí)現(xiàn)新型非線性光學(xué)器件和系統(tǒng),彌合傳統(tǒng)光纖和光電子集成線路之間的差距。$ b' u6 }8 u0 W% ?

    1 T0 J' ?* h- t* w- y! q) L參考文獻(xiàn): D+ L1 I9 X( m$ @. s' \. T
    [1] M. Huang, J. Ballato, and A. C. Peacock, "Semiconductor core fibres: a scalable platform for nonlinear photonics," npj Nanophotonics, vol. 1, no. 21, pp. 1-12, 2024, doi: 10.1038/s44310-024-00026-5.
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    ! F  v0 h1 M6 i) s& o5 Y- END -
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    / B5 A' u) S/ R% `3 i軟件申請(qǐng)我們歡迎化合物/硅基光電子芯片的研究人員和工程師申請(qǐng)?bào)w驗(yàn)免費(fèi)版PIC Studio軟件。無(wú)論是研究還是商業(yè)應(yīng)用,PIC Studio都可提升您的工作效能。$ E7 A% \# C3 J! I2 q2 A
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